Large-scale nanostructured functional surfaces constructed with a combination of laser lithography and the continuous nanoprinting lithographic method (Q2768373)
Jump to navigation
Jump to search
Project Q2768373 in Greece
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | Large-scale nanostructured functional surfaces constructed with a combination of laser lithography and the continuous nanoprinting lithographic method |
Project Q2768373 in Greece |
Statements
550,847.0 Euro
0 references
11 October 2019
0 references
10 October 2022
0 references
ΝΑΝΟΤΥΠΟΣ ΟΕ
0 references
35°11'2.58"N, 24°58'5.63"E
0 references
40°54'2.41"N, 22°57'19.80"E
0 references
Η τροποποίηση των ιδιοτήτων της επιφάνειας στη μίκρο/νάνο κλίμακα και η συνεπαγόμενη αύξηση της τραχύτητας, συνεπώς και της ενεργού επιφάνειας, διαδραματίζει σημαντικό ρόλο στη βελτιστοποίηση των επιδόσεων ενός υλικού για συγκεκριμένες εφαρμογές. Για παράδειγμα τα φαινόμενα διαβροχής, ανακλαστικότητας, τριβής και πρόσφυσης που λαμβάνουν χώρα στη διεπιφάνεια μεταξύ υλικών επηρεάζονται έντονα από το μέγεθος και το σχήμα των επιφανειακών μικροδομών.Σκοπός του NanoRoll είναι η ανάπτυξη και η παραγωγή λειτουργικών επιφανειών με συνεχής (roll-to-roll) λιθογραφικές διαδικασίες. Στόχος είναι η μεταστροφή της παραγωγικής διαδικασίας από διακοπτόμενη (batch-to-batch) σε συνεχή συνδυάζοντας την λιθογραφία με χρήση δέσμης λέιζερ και τηςκ υλινδρικής νανοεκτυπωτικής λιθογραφικής μεθόδου (R2RNIL). Η πρόσβαση σε υψηλής συχνότητας/παλμού και ενέργειας λέιζερ και ο συγχρονισμός για τη λιθογραφία σε κυλινδρικά μεταλλικά υποστρώματα (μήτρες/καλούπια) προσφέρεται ως μια εναλλακτική μέθοδος για την παραγωγή μητρών συμβατών με τη νανοεκτυπωτική λιθογραφική μέθοδο. Αποτελεί πρόκληση η δημιουργία ιεραρχημένων δομών συνδυάζοντας μίκρο και νάνο δομές στην ίδια επιφάνεια προσδίδοντας ένα συγκριτικό πλεονέκτημα για παραγωγή φτηνών και εύκαμπτων λειτουργικών επιφανειών. Η λιθογραφία NIL βρίσκεται στον οδικό χάρτη των ημιαγωγών (ITRS roadmap) ως μια ανερχόμενη και πολλά υποσχόμενη λιθογραφική μέθοδος για την επίτευξη (υπο-10 nm) υψηλής λιθογραφικής ευκρίνειας. Το 2015 η παγκόσμια αγορά νανο-σχηματομόρφωσης ανήλθε στα 1,9 Β$ και υπολογίζετε ότι θα φτάσει τα 19.1 Β$ μέχι το 2020. Η τεχνολογία NIL αντιπροσωπεύει το 82,9% της συνολικής αγοράς νανο-σχηματομορφωτικών διαδικασιών καθώς το 72.8% αυτή ανήκει στην τεχνολογία UV-NIL. Το 2020 προβλέπεται ότι η τεχνολογία UV-NIL θα ξεπεράσει τα 1.4 Β$.Οι κύριοι στόχοι της πρότασης NanoRoll είναι: (i) πρόσβαση και εφαρμογή της λιθογραφίας δέσμης λέιζερ για την κατασκευή υψηλής ευκρίνειας δομών με συνεχή τοπογραφίες και υψηλή απόδοση, (ii) σχεδίαση, δημιουργία και αναπαραγωγή ιεραρχημένων (μίκρο/νάνο) δομών με συνεχείς λιθογραφικές διαδικασίες, (iii) πιστοποίηση και πιλοτική παραγωγή μεγάλης έκτασης (100 m2) λειτουργικών επιφανειών με αυτό-καθοριζόμενες ιδιότητες. Η πρόταση NanoRoll θεωρούμε ότι θα αποδώσει οφέλη λόγω της ισχυρής μείωσης της αλυσίδας βιομηχανικής παραγωγής. Τέλος, με βάση την περιγραφή των εκμεταλλεύσιμων αποτελεσμάτων για κάθε εμπλεκόμενο μέλος θα εκπονηθεί ένας χάρτης εκμετάλλευσης ή/και εμπορευματοποίησης, συμπεριλαμβανομένων ποσοτικών εκτιμήσεων σχετικά με το οικονομικό αντίκτυπο. (Greek)
0 references
The modification of the surface properties on the micro/nano scale and the resulting increase in roughness, hence the active surface, plays an important role in optimising the performance of a material for specific applications. For example, the effects of wetting, reflectivity, friction and adhesion that take place on the interface between materials are strongly influenced by the size and shape of surface microstructures.The aim of NanoRoll is to develop and produce functional surfaces with continuous roll-to-roll lithographic processes. The aim is to convert the production process from a batch-to-batch to a continuous combination of lithography using a laser beam and the hylic nano-printing lithographic method (R2RNIL). Access to high-frequency/pulse and laser energy and synchronisation for lithography on cylindrical metal substrates (matrix/mults) is offered as an alternative method for producing matrices compatible with the nano-printing lithographic method. It is a challenge to create hierarchical structures by combining micro and dwarf structures on the same surface, giving a comparative advantage for the production of cheap and flexible functional surfaces. NIL lithography is found in the semiconductor roadmap (ITRS roadmap) as a rising and promising lithographic method for achieving high lithographic resolution (sub-10 nm). In 2015 the global nano-formulation market stood at 1.9 B$ and you estimate that it will reach 19,1 B$ by 2020. NIL technology accounts for 82.9 % of the total nano-formative process market as 72.8 % belongs to UV-NIL technology. In 2020 it is projected that UV-NIL technology will exceed $1,4.The main objectives of the NanoRoll proposal are: Access and application of laser beam lithography for the construction of high-definition structures with continuous topography and high performance, (ii) design, creation and reproduction of hierarchical (micro/nano) structures with continuous lithographic processes, (iii) certification and pilot production of large-scale (100 m²) functional surfaces with self-defined properties. We believe that the NanoRoll proposal will bring benefits due to a strong reduction in the industrial production chain. Finally, on the basis of a description of the exploitable results for each member involved, a map of exploitation and/or commercialisation will be drawn up, including quantitative estimates of the economic impact. (English)
2 July 2021
0.3202948779792351
0 references
La modification des propriétés de la surface à l’échelle micro/nano et l’augmentation de rugosité qui en résulte, donc la surface active, jouent un rôle important dans l’optimisation des performances d’un matériau pour des applications spécifiques. Par exemple, les phénomènes de macération, de réflectivité, de friction et d’adhérence qui se produisent sur l’interface entre les matériaux sont fortement influencés par la taille et la forme des microstructures de surface.Le but de NanoRoll est de développer et de produire des surfaces fonctionnelles par des processus lithographiques continus (roll-to-roll). L’objectif est de passer du processus de production d’un lot à une combinaison continue de lithographie à l’aide d’un faisceau laser et de la méthode de lithographie par nanoimpression hylindrique (R2RNIL). L’accès à l’énergie et à la synchronisation à haute fréquence/pulse et laser pour la lithographie sur substrats métalliques cylindriques (matrice/moule) est offert comme méthode alternative pour produire une matrice compatible avec la méthode lithographique par nanoimpression. Il est difficile de créer des structures hiérarchiques en combinant des structures petites et naines sur la même surface, ce qui donne un avantage comparatif pour la production de surfaces fonctionnelles peu coûteuses et flexibles. La lithographie NIL se trouve sur la feuille de route des semi-conducteurs (feuille de route de l’ITRS) comme méthode lithographique en hausse et prometteuse pour obtenir (sub-10 nm) une haute résolution lithographique. En 2015, le marché mondial des nanoformateurs s’élevait à 1,9 milliard de dollars et vous estimez qu’il atteindra 19,1 milliards de dollars d’ici 2020. La technologie NIL représente 82,9 % du marché total des procédés de nanoformage, 72,8 % appartenant à la technologie UV-NIL. En 2020, on prévoit que la technologie UV-NIL dépassera 1,4 milliard de dollars. Les principaux objectifs de la proposition NanoRoll sont les suivants: accès et application de la lithographie laser pour la construction de structures à haute définition avec topographie continue et haute performance, (ii) conception, création et reproduction de structures hiérarchiques (micro/nano) à processus lithographiques continus, (iii) certification et production pilote de surfaces fonctionnelles de grande surface (100 m²) avec des propriétés autodéfinies. Nous pensons que la proposition de NanoRoll apportera des avantages en raison d’une forte réduction de la chaîne de production industrielle. Enfin, sur la base de la description des résultats exploitables pour chaque membre concerné, une carte de l’exploitation et/ou de la commercialisation, comprenant des estimations quantitatives de l’impact économique, sera établie. (French)
29 November 2021
0 references
Die Modifikation der Eigenschaften der Oberfläche auf der Mikro-Nano-Skala und die daraus resultierende Erhöhung der Rauheit, also der aktiven Oberfläche, spielt eine wichtige Rolle bei der Optimierung der Leistung eines Materials für bestimmte Anwendungen. Zum Beispiel werden die Mazeration, Reflexivität, Reibungs- und Haftungsphänomene, die an der Schnittstelle zwischen Materialien auftreten, stark von der Größe und Form von Oberflächenmikrostrukturen beeinflusst.Der Zweck von NanoRoll ist es, funktionale Oberflächen durch kontinuierliche (Roll-to-Roll) lithographische Prozesse zu entwickeln und herzustellen. Ziel ist es, den Produktionsprozess von einem Batch auf eine kontinuierliche Lithographie-Kombination mit Laserstrahl und der hylindrischen Nanodrucklithographie (R2RNIL) umzustellen. Der Zugang zu Hochfrequenz-/Puls- und Laserenergie und Synchronisation für Lithographie auf zylindrischen Metallsubstraten (Matrix/Mould) wird als alternative Methode zur Herstellung von Matrix-kompatibel mit der lithographischen Nanodruckmethode angeboten. Es ist schwierig, hierarchische Strukturen zu schaffen, indem kleine und Zwergstrukturen auf der gleichen Oberfläche kombiniert werden, was einen komparativen Vorteil für die Produktion von billigen und flexiblen Funktionsoberflächen bietet. Die NIL-Lithographie ist auf der Halbleiter-Fahrplankarte (ITRS Roadmap) als steigendes und vielversprechendes lithographisches Verfahren zu finden, um (sub-10 nm) eine hohe lithographische Auflösung zu erreichen. Im Jahr 2015 lag der globale Markt für Nanoformen bei 1,9 B$ und Sie schätzen, dass er bis 2020 19,1 B$ erreichen wird. Die Nil-Technologie macht 82,9 % des gesamten Nanoumformungsmarktes aus, da 72,8 % der UV-NIL-Technologie angehören. Im Jahr 2020 wird davon ausgegangen, dass die UV-NIL-Technologie 1,4 B$ übersteigt.Die Hauptziele des NanoRoll-Vorschlags sind: Zugang und Anwendung der Laserstrahllithographie für den Bau von hochauflösenden Strukturen mit kontinuierlicher Topographie und hoher Leistung, ii) Entwurf, Erstellung und Reproduktion von hierarchischen (Mikro-/Nano-)Strukturen mit kontinuierlichen lithografischen Prozessen, (iii) Zertifizierung und Pilotproduktion von großen Flächen (100 m²) funktionellen Flächen mit selbst definierten Eigenschaften. Wir sind der Ansicht, dass der Vorschlag NanoRoll durch eine starke Verringerung der industriellen Produktionskette Vorteile bringen wird. Schließlich wird auf der Grundlage der Beschreibung der verwertbaren Ergebnisse für jedes betroffene Mitglied eine Karte der Ausbeutung und/oder Kommerzialisierung, einschließlich quantitativer Schätzungen der wirtschaftlichen Auswirkungen, erstellt. (German)
5 December 2021
0 references
De wijziging van de eigenschappen van het oppervlak op de micro-/nanoschaal en de daaruit voortvloeiende toename van ruwheid, dus het actieve oppervlak, spelen een belangrijke rol bij het optimaliseren van de prestaties van een materiaal voor specifieke toepassingen. Zo worden maceratie-, reflectie-, wrijvings- en hechtverschijnselen die zich voordoen op het raakvlak tussen materialen sterk beïnvloed door de grootte en vorm van oppervlaktemicrostructuren.Het doel van NanoRoll is om functionele oppervlakken te ontwikkelen en te produceren door continue (roll-to-roll) lithografische processen. Het doel is om het productieproces over te schakelen van een batch-to-batch naar een continue combinatie van lithografie met behulp van laserstraal en de hylindrische nanoprinting lithografische methode (R2RNIL). Toegang tot hoogfrequente/puls- en laserenergie en synchronisatie voor lithografie op cilindrische metalen substraten (matrix/mould) wordt aangeboden als een alternatieve methode voor het produceren van matrix-compatibel met de lithografische methode van nanoprinting. Het is een uitdaging om hiërarchische structuren te creëren door kleine en dwergstructuren op hetzelfde oppervlak te combineren, wat een comparatief voordeel oplevert voor de productie van goedkope en flexibele functionele oppervlakken. De NIL-lithografie is te vinden op de halfgeleiderroutekaart (ITRS-routekaart) als een stijgende en veelbelovende lithografische methode om (sub-10 nm) hoge lithografische resolutie te bereiken. In 2015 stond de wereldwijde nanovormende markt op 1,9 B$ en volgens u zal deze tegen 2020 19,1 B$ bereiken. Nihil-technologie is goed voor 82,9 % van de totale markt voor nanovormende processen, aangezien 72,8 % behoort tot UV-NIL-technologie. In 2020 wordt voorspeld dat de UV-NIL-technologie 1,4 B$ zal overschrijden.De belangrijkste doelstellingen van het NanoRoll-voorstel zijn: toegang tot en toepassing van laserstraallithografie voor de bouw van high-definition structuren met continue topografie en hoge prestaties, (ii) ontwerp, creatie en reproductie van hiërarchische (micro/nano) structuren met continue lithografische processen, (iii) certificering en proefproductie van grote oppervlakte (100 m²) functionele oppervlakken met zelf gedefinieerde eigenschappen. Wij zijn van mening dat het NanoRoll-voorstel voordelen zal opleveren als gevolg van een sterke vermindering van de industriële productieketen. Ten slotte zal op basis van de beschrijving van de voor elk betrokken lid te exploiteren resultaten een kaart van exploitatie en/of commercialisering worden opgesteld, met inbegrip van kwantitatieve ramingen van de economische gevolgen. (Dutch)
16 December 2021
0 references
La modifica delle proprietà della superficie sulla scala micro/nano e il conseguente aumento della rugosità, quindi la superficie attiva, svolge un ruolo importante nell'ottimizzazione delle prestazioni di un materiale per applicazioni specifiche. Ad esempio, i fenomeni di macerazione, riflettività, attrito e adesione che si verificano sull'interfaccia tra materiali sono fortemente influenzati dalle dimensioni e dalla forma delle microstrutture superficiali. Lo scopo di NanoRoll è quello di sviluppare e produrre superfici funzionali mediante processi litografici continui (roll-to-roll). L'obiettivo è quello di passare dal processo di produzione da batch-to-batch a una combinazione continua di litografia utilizzando il fascio laser e il metodo litografico della nanostampa ilindrica (R2RNIL). L'accesso all'energia ad alta frequenza/impulso e laser e la sincronizzazione per la litografia su substrati metallici cilindrici (matrice/muffa) sono offerti come metodo alternativo per la produzione di matrice compatibile con il metodo litografico nanoprinting. È difficile creare strutture gerarchiche combinando piccole e nane sulla stessa superficie dando un vantaggio comparativo per la produzione di superfici funzionali a basso costo e flessibili. La litografia NIL si trova sulla mappa stradale dei semiconduttori (tabella di marcia dell'ITRS) come metodo litografico crescente e promettente per raggiungere (sub-10 nm) alta risoluzione litografica. Nel 2015, il mercato globale delle nanoformazioni si è attestato a 1,9 B$ e si stima che raggiungerà 19,1 B$ entro il 2020. La tecnologia NIL rappresenta l'82,9 % del mercato totale dei processi di nanoformatura, dato che il 72,8 % appartiene alla tecnologia UV-NIL. Nel 2020 si prevede che la tecnologia UV-NIL supererà 1,4 B$.Gli obiettivi principali della proposta NanoRoll sono: accesso e applicazione della litografia a fascio laser per la costruzione di strutture ad alta definizione con topografia continua e prestazioni elevate, (ii) progettazione, creazione e riproduzione di strutture gerarchiche (micro/nano) con processi litografici continui, (iii) certificazione e produzione pilota di grandi superfici funzionali (100 m²) con proprietà autodefinite. Riteniamo che la proposta NanoRoll porterà benefici a seguito di una forte riduzione della catena di produzione industriale. Infine, sulla base della descrizione dei risultati sfruttabili per ciascun membro interessato, sarà elaborata una mappa dello sfruttamento e/o della commercializzazione, comprendente stime quantitative dell'impatto economico. (Italian)
14 January 2022
0 references
La modificación de las propiedades de la superficie en la escala micro/nano y el consiguiente aumento de la rugosidad, por lo tanto la superficie activa, juegan un papel importante en la optimización del rendimiento de un material para aplicaciones específicas. Por ejemplo, los fenómenos de maceración, reflectividad, fricción y adherencia que se producen en la interfaz entre materiales están fuertemente influenciados por el tamaño y la forma de las microestructuras superficiales. El propósito de NanoRoll es desarrollar y producir superficies funcionales mediante procesos litográficos continuos (roll-to-roll). El objetivo es cambiar el proceso de producción de un lote a un lote a una combinación continua de litografía utilizando el haz láser y el método litográfico de nanoimpresión hindú (R2RNIL). El acceso a la energía de alta frecuencia/pulso y láser y la sincronización para litografía en sustratos metálicos cilíndricos (matriz/molde) se ofrece como un método alternativo para producir compatible con la matriz con el método litográfico de nanoimpresión. Es difícil crear estructuras jerárquicas mediante la combinación de estructuras pequeñas y enanas en la misma superficie, lo que da una ventaja comparativa para la producción de superficies funcionales baratas y flexibles. La litografía NIL se encuentra en la hoja de ruta de semiconductores (hoja de ruta del IRS) como un método litográfico ascendente y prometedor para lograr (sub-10 nm) alta resolución litográfica. En 2015, el mercado mundial de nanoformación se situó en 1,9 B$ y se estima que alcanzará los 19,1 B$ en 2020. La tecnología NIL representa el 82,9 % del mercado total de procesos de nanoformación, ya que el 72,8 % pertenece a la tecnología UV-NIL. En 2020 se prevé que la tecnología UV-NIL superará los 1,4 B$. Los principales objetivos de la propuesta de NanoRoll son: acceso y aplicación de litografía de haz láser para la construcción de estructuras de alta definición con topografía continua y alto rendimiento, (ii) diseño, creación y reproducción de estructuras jerárquicas (micro/nano) con procesos litográficos continuos, (iii) certificación y producción piloto de superficies funcionales de gran superficie (100 m²) con propiedades autodefinidas. Creemos que la propuesta de NanoRoll aportará beneficios como resultado de una fuerte reducción de la cadena de producción industrial. Por último, sobre la base de la descripción de los resultados explotables para cada miembro implicado, se elaborará un mapa de explotación o comercialización, con estimaciones cuantitativas del impacto económico. (Spanish)
15 January 2022
0 references
Pinnaomaduste muutmine mikro-/nanoskaalal ja sellest tulenev kareduse suurenemine, seega ka aktiivne pind, mängib olulist rolli materjali jõudluse optimeerimisel konkreetsete rakenduste jaoks. Näiteks materjalide kokkupuutel toimuva niisutamise, peegelduvuse, hõõrdumise ja haardumise mõju mõjutab tugevalt pinna mikrostruktuuride suurus ja kuju. NanoRolli eesmärk on arendada ja toota funktsionaalseid pindu pidevate rull-rull litograafiliste protsessidega. Eesmärk on muuta tootmisprotsess partiiks pidevaks litograafia kombinatsiooniks, kasutades laserkiirt ja hylic nano-printimise litograafiameetodit (R2RNIL). Nanotrüki litograafiameetodiga ühilduvate maatriksite tootmiseks pakutakse alternatiivse meetodina juurdepääsu kõrgsagedusele/impulsi- ja laserenergiale ning sünkroniseerimisele litograafia jaoks silindriliste metallsubstraatide (maatriks/mults) puhul. On väljakutse luua hierarhilisi struktuure, kombineerides samal pinnal mikro- ja kääbusstruktuure, andes suhtelise eelise odavate ja paindlike funktsionaalsete pindade tootmiseks. Nil litograafiat leidub pooljuhtide teekaardis (ITRSi teekaart) kui kasvavat ja paljulubavat litograafilist meetodit kõrge litograafilise lahutusvõime saavutamiseks (alapunkt 10 nm). 2015. aastal oli ülemaailmne nanoformulatsiooni turg 1,9 B$ ja teie hinnangul jõuab see 2020. aastaks 19,1 B$-ni. Nanotehnoloogia moodustab 82,9 % nanovormimisprotsesside koguturust, kuna 72,8 % kuulub UV-NIL-tehnoloogiale. Aastal 2020 on prognoositud, et UV-NIL tehnoloogia ületab $1,4.Peamised eesmärgid NanoRoll ettepaneku on: Laserkiire litograafia kättesaadavus ja rakendamine pideva topograafia ja kõrgjõudlusega kõrglahutusega struktuuride ehitamiseks, ii) pidevate litograafiliste protsessidega hierarhiliste (mikro-/nano)struktuuride projekteerimine, loomine ja paljundamine, iii) suurte (100 m²) funktsionaalsete pindade sertifitseerimine ja katsetootmine isemääratletud omadustega. Usume, et NanoRolli ettepanek toob kasu tööstusliku tootmisahela tugevast vähenemisest. Lõpuks koostatakse iga asjaomase liikme kohta kasutatavate tulemuste kirjelduse põhjal kasutamise ja/või turustamise kaart, mis sisaldab ka kvantitatiivseid hinnanguid majandusliku mõju kohta. (Estonian)
28 July 2022
0 references
Paviršiaus savybių pakeitimas mikro/nano skalėje ir dėl to padidėjęs šiurkštumas, taigi ir aktyvusis paviršius, atlieka svarbų vaidmenį optimizuojant medžiagos veikimą konkrečioms reikmėms. Pavyzdžiui, sudrėkinimo, atspindžio, trinties ir sukibimo poveikiui, kuris vyksta medžiagų sąsajai, didelę įtaką daro paviršiaus mikrostruktūrų dydis ir forma. NanoRoll tikslas yra sukurti ir gaminti funkcinius paviršius su nuolatiniais ritininiais litografiniais procesais. Tikslas – gamybos procesą iš partijos partijos paversti nuolatiniu litografijos deriniu, naudojant lazerinį pluoštą ir hilo nanospausdinimo litografinį metodą (R2RNIL). Galimybė naudotis aukšto dažnio/impulso ir lazerio energija ir sinchronizacija litografijoje ant cilindrinių metalų substratų (rišiklis/dauginiai) yra alternatyvus matricų, suderinamų su nanospausdinimo litografiniu metodu, gamybos metodas. Tai iššūkis sukurti hierarchines struktūras, sujungiant mikro ir nykštukines struktūras tame pačiame paviršiuje, suteikiant lyginamąjį pranašumą pigių ir lanksčių funkcinių paviršių gamybai. Nulinė litografija nustatyta puslaidininkių plane (ITRS veiksmų planas) kaip augantis ir perspektyvus litografinis metodas aukštai litografinei gebai pasiekti (sub-10 nm). 2015 m. pasaulinė nanoformuliavimo rinka buvo 1,9 B$, ir jūs apskaičiavote, kad iki 2020 m. ji pasieks 19,1 B$. NIL technologija sudaro 82,9 proc. visos nanoformacijos procesų rinkos, nes 72,8 proc. priklauso UV-NIL technologijai. Prognozuojama, kad 2020 m. UV-NIL technologija viršys $1,4.Pagrindiniai „NanoRoll“ pasiūlymo tikslai yra šie: Galimybė naudoti lazerinio pluošto litografiją aukštos raiškos struktūroms su nuolatine topografija ir didelio našumo projektavimu ir taikymu, ii) hierarchinių (mikro/nano) struktūrų projektavimu, kūrimu ir dauginimu taikant nuolatinius litografinius procesus, iii) didelio masto (100 m²) funkcinių paviršių su savitomis savybėmis sertifikavimu ir bandomąja gamyba. Manome, kad „NanoRoll“ pasiūlymas duos naudos dėl didelio pramoninės gamybos grandinės sumažėjimo. Galiausiai, remiantis kiekvieno susijusio nario naudojamų rezultatų aprašymu, bus parengtas eksploatavimo ir (arba) komercializacijos žemėlapis, įskaitant kiekybinius ekonominio poveikio įvertinimus. (Lithuanian)
28 July 2022
0 references
Promjena površinskih svojstava na mikro/nano ljestvici i posljedično povećanje hrapavosti, stoga aktivna površina, imaju važnu ulogu u optimizaciji učinkovitosti materijala za određene primjene. Na primjer, na učinke vlaženja, refleksije, trenja i prianjanja koji se odvijaju na sučelju između materijala snažno utječu veličina i oblik površinskih mikrostruktura. Cilj NanoRoll-a je razviti i proizvesti funkcionalne površine s kontinuiranim litografskim procesima roll-to-roll. Cilj je pretvoriti proizvodni proces iz serije u seriju u kontinuiranu kombinaciju litografije pomoću laserske zrake i hiličnog litografske metode nanotiska (R2RNIL). Pristup visokofrekventnoj/pulsnoj i laserskoj energiji te sinkronizacija za litografiju na cilindričnim metalnim supstratima (matrica/mults) nudi se kao alternativna metoda za proizvodnju matrica kompatibilnih s litografskom metodom nanotiska. Izazov je stvoriti hijerarhijske strukture kombiniranjem mikro i patuljastih struktura na istoj površini, čime se daje komparativna prednost za proizvodnju jeftinih i fleksibilnih funkcionalnih površina. Nil litografija nalazi se u poluvodičkom planu (ITRS plan) kao rastuća i obećavajuća litografska metoda za postizanje visoke litografske rezolucije (pod-10 nm). U 2015. godini globalno tržište nano formulacije iznosilo je 1,9 B$ i procjenjujete da će do 2020. dosegnuti 19,1 B$. Nulta tehnologija čini 82,9 % ukupnog tržišta nanooblikovanih procesa jer 72,8 % pripada UV-NIL tehnologiji. U 2020. predviđa se da će UV-NIL tehnologija premašiti $1,4.Glavni ciljevi prijedloga NanoRoll su: Pristup i primjena litografije laserske zrake za izgradnju struktura visoke razlučivosti s kontinuiranom topografijom i visokim performansama, (ii) projektiranje, stvaranje i reprodukcija hijerarhijskih (mikro/nano) struktura s kontinuiranim litografskim procesima, (iii) certificiranje i pilot proizvodnja velikih (100 m²) funkcionalnih površina s samodefiniranim svojstvima. Vjerujemo da će prijedlog NanoRoll donijeti koristi zbog snažnog smanjenja lanca industrijske proizvodnje. Naposljetku, na temelju opisa rezultata koji se mogu iskoristiti za svakog uključenog člana izradit će se karta iskorištavanja i/ili komercijalizacije, uključujući kvantitativne procjene gospodarskog učinka. (Croatian)
28 July 2022
0 references
Modifikácia povrchových vlastností na mikro/nano stupnici a výsledné zvýšenie drsnosti, teda aktívny povrch, zohráva dôležitú úlohu pri optimalizácii výkonu materiálu pre špecifické aplikácie. Napríklad účinky zvlhčovania, odrazu, trenia a priľnavosti, ktoré sa odohrávajú na rozhraní medzi materiálmi, sú silne ovplyvnené veľkosťou a tvarom povrchových mikroštruktúr. Cieľom spoločnosti NanoRoll je vyvinúť a vytvoriť funkčné povrchy s kontinuálnymi litografickými procesmi roll-to-roll. Cieľom je transformovať výrobný proces zo šarže na dávku na kontinuálnu kombináciu litografie pomocou laserového lúča a litografickej metódy hylickej nanotlače (R2RNIL). Prístup k vysokofrekvenčnej/impulznej a laserovej energii a synchronizácia litografie na valcových kovových substrátoch (matrice/multy) sa ponúka ako alternatívna metóda na výrobu matríc kompatibilných s litografickou metódou nanotlače. Je výzvou vytvoriť hierarchické štruktúry kombináciou mikro a trpaslíkových štruktúr na rovnakom povrchu, čo poskytuje komparatívnu výhodu pre výrobu lacných a flexibilných funkčných povrchov. Nulová litografia sa nachádza v polovodičovom pláne (plán ITTRS) ako rastúca a sľubná litografická metóda na dosiahnutie vysokého litografického rozlíšenia (sub-10 nm). V roku 2015 bol globálny trh nanoformulácie 1,9 B$ a odhadujete, že do roku 2020 dosiahne 19,1 B$. Nulová technológia predstavuje 82,9 % celkového trhu s nanoformatívnymi procesmi, keďže 72,8 % patrí do technológie UV-NIL. V roku 2020 sa predpokladá, že technológia UV-NIL prekročí $1,4.Hlavné ciele návrhu NanoRoll sú: Prístup a aplikácia litografie laserového lúča na výstavbu štruktúr s vysokým rozlíšením s nepretržitou topografiou a vysokým výkonom, ii) návrh, tvorba a reprodukcia hierarchických (mikro/nano) štruktúr s kontinuálnymi litografickými procesmi, iii) certifikácia a pilotná výroba veľkoplošných (100 m²) funkčných povrchov so samodefinovanými vlastnosťami. Veríme, že návrh NanoRoll prinesie výhody vďaka výraznému zníženiu priemyselného výrobného reťazca. Napokon, na základe opisu využiteľných výsledkov pre každého zúčastneného člena sa vypracuje mapa využívania a/alebo komercializácie vrátane kvantitatívnych odhadov hospodárskeho vplyvu. (Slovak)
28 July 2022
0 references
Pinnan ominaisuuksien muuttaminen mikro-/nano-asteikolla ja siitä johtuva karheuden lisääntyminen, mikä tarkoittaa aktiivista pintaa, on tärkeä tekijä materiaalin suorituskyvyn optimoinnissa tietyissä sovelluksissa. Esimerkiksi pintojen mikrorakenteiden koko ja muoto vaikuttavat voimakkaasti materiaalien välisessä rajapinnassa tapahtuvan kostutuksen, heijastavuuden, kitkan ja tarttuvuuden vaikutuksiin. NanoRollin tavoitteena on kehittää ja tuottaa toiminnallisia pintoja, joissa on jatkuva rulla-rulla litografinen prosessi. Tavoitteena on muuntaa tuotantoprosessi erästä eräksi jatkuvaksi litografiayhdistelmäksi, jossa käytetään lasersädettä ja hyliini-nanopainatuslitografista menetelmää (R2RNIL). Sylinterimäisten metallisubstraattien (matriisi/mults) litografian nopea/pulssi- ja laserenergia ja synkronointi tarjotaan vaihtoehtoisena menetelmänä nanotulostuslitografisen menetelmän kanssa yhteensopivien matriisien tuottamiseksi. On haaste luoda hierarkkisia rakenteita yhdistämällä mikro- ja kääpiörakenteet samalla pinnalla, mikä antaa suhteellisen edun halpojen ja joustavien toiminnallisten pintojen tuottamiselle. Puolijohteiden etenemissuunnitelmassa (ITRS-etenemissuunnitelma) ei ole litografiaa, joka on nouseva ja lupaava litografinen menetelmä korkean litografisen resoluution (sub-10 nm) saavuttamiseksi. Vuonna 2015 maailmanlaajuiset nanoformulaatiomarkkinat olivat 1,9 B$ ja arvioitte, että ne saavuttavat 19,1 B $ vuoteen 2020 mennessä. Nollateknologian osuus nanoprosessien kokonaismarkkinoista on 82,9 prosenttia, sillä 72,8 prosenttia kuuluu UV-NIL-teknologiaan. Vuonna 2020 ennustetaan, että UV-NIL-teknologia ylittää $1,4.NanoRoll-ehdotuksen päätavoitteet ovat: Lasersäteen litografian saatavuus ja soveltaminen sellaisten teräväpiirtorakenteiden rakentamiseen, joissa on jatkuva topografia ja suorituskyky, ii) hierarkkisten (mikro-nano) rakenteiden suunnittelu, luominen ja jäljentäminen jatkuvalla litografisella prosessilla, iii) suurten (100 m²) toiminnallisten pintojen sertifiointi ja pilottituotanto, joilla on itse määritellyt ominaisuudet. Uskomme, että NanoRoll-ehdotus tuo etuja teollisuuden tuotantoketjun voimakkaan vähenemisen vuoksi. Lisäksi laaditaan kunkin jäsenen osalta hyödynnettävissä olevien tulosten kuvauksen perusteella kartoitus hyödyntämisestä ja/tai kaupallistamisesta sekä määrälliset arviot taloudellisista vaikutuksista. (Finnish)
28 July 2022
0 references
Modyfikacja właściwości powierzchniowych w skali mikro/nano i wynikający z tego wzrost chropowatości, a tym samym powierzchnia aktywna, odgrywa ważną rolę w optymalizacji wydajności materiału do konkretnych zastosowań. Na przykład skutki zwilżania, odbicia, tarcia i przyczepności, które mają miejsce na styku między materiałami, są silnie uzależnione od wielkości i kształtu mikrostruktur powierzchniowych. Celem NanoRoll jest rozwój i produkcja funkcjonalnych powierzchni z ciągłymi procesami litograficznymi rolowanymi. Celem jest przekształcenie procesu produkcyjnego z partii na partię w ciągłą kombinację litografii za pomocą wiązki laserowej i metody litograficznej nanodruku hylic (R2RNIL). Dostęp do wysokoczęstotliwościowej/pulsowej i laserowej energii oraz synchronizacja litografii na metalowych podłożach cylindrycznych (matryca/mults) jest oferowana jako alternatywna metoda wytwarzania matryc kompatybilnych z metodą litograficzną nanodruku. Wyzwaniem jest stworzenie struktur hierarchicznych poprzez połączenie struktur mikro i krasnoludzkich na tej samej powierzchni, co daje przewagę komparatywną dla produkcji tanich i elastycznych powierzchni funkcjonalnych. Nil litografia znajduje się w planie działania półprzewodnikowym (mapa drogowa ITRS) jako rosnąca i obiecująca metoda litograficzna do osiągnięcia wysokiej rozdzielczości litograficznej (sub-10 nm). W 2015 r. światowy rynek nanoformulacji wyniósł 1,9 B$ i szacuje się, że do 2020 r. osiągnie 19,1 B$. Technologia nil stanowi 82,9 % całego rynku nanoformatywnego, ponieważ 72,8 % należy do technologii UV-NIL. W 2020 roku przewiduje się, że technologia UV-NIL przekroczy 1,4 USD. Głównymi celami wniosku NanoRoll są: Dostęp i zastosowanie litografii wiązki laserowej do budowy konstrukcji o wysokiej rozdzielczości z ciągłą topografią i wysoką wydajnością, (ii) projektowanie, tworzenie i reprodukcja struktur hierarchicznych (mikro/nano) z ciągłymi procesami litograficznymi, (iii) certyfikacja i produkcja pilotażowa wielkoskalowych (100 m²) powierzchni funkcjonalnych o własnych właściwościach. Uważamy, że propozycja NanoRoll przyniesie korzyści ze względu na znaczne ograniczenie łańcucha produkcji przemysłowej. Wreszcie, na podstawie opisu możliwych do wykorzystania wyników dla każdego zainteresowanego członka, zostanie sporządzona mapa eksploatacji i/lub komercjalizacji, zawierająca ilościowe szacunki skutków gospodarczych. (Polish)
28 July 2022
0 references
A mikro/nano skála felületi tulajdonságainak módosítása és az érdesség ebből eredő növekedése, így az aktív felület fontos szerepet játszik az anyag teljesítményének optimalizálásában az egyes alkalmazásokhoz. Például a nedvesítés, a fényvisszaverő képesség, a súrlódás és a tapadás hatásait, amelyek az anyagok közötti interfészen zajlanak, erősen befolyásolja a felületi mikroszerkezetek mérete és alakja. A NanoRoll célja funkcionális felületek fejlesztése és előállítása folyamatos roll-to-roll litográfiai folyamatokkal. A cél az, hogy a gyártási folyamatot egy tételről tételre alakítsák át a litográfia folyamatos kombinációjára lézersugár és a hilikás nanonyomtatású litográfiai módszer (R2RNIL) alkalmazásával. A nagyfrekvenciás/impulzus- és lézerenergiához való hozzáférést és a litográfiai szinkronizációt hengeres fém szubsztrátokon (mátrix/mátrix) kínálják alternatív módszerként a nanonyomtatási litográfiai módszerrel kompatibilis mátrixok előállításához. Kihívást jelent hierarchikus struktúrák létrehozása az ugyanazon a felületen található mikro- és törpeszerkezetek kombinálásával, komparatív előnyt biztosítva az olcsó és rugalmas funkcionális felületek előállításához. A kilenc litográfia a félvezetői ütemtervben (ITRS-ütemterv) a magas litográfiai felbontás eléréséhez szükséges növekvő és ígéretes litográfiai módszerként (sub-10 nm) található. 2015-ben a globális nanoképzési piac 1,9 B$-on állt, és úgy becsülik, hogy 2020-ra eléri az 19,1 B$-t. A nanoformatív folyamatok piacának 82,9%-át nulla technológia teszi ki, mivel 72,8%-a az UV-NIL technológiához tartozik. 2020-ban várható, hogy az UV-NIL technológia meg fogja haladni az $1,4.A NanoRoll javaslat fő célkitűzései a következők: Lézersugaras litográfia elérése és alkalmazása folyamatos domborzati és nagy teljesítményű nagyfelbontású szerkezetek építéséhez, ii. hierarchikus (mikro/nano) szerkezetek tervezése, létrehozása és reprodukciója folyamatos litográfiai eljárásokkal, iii. önálló tulajdonságokkal rendelkező nagyméretű (100 m²) funkcionális felületek tanúsítása és kísérleti gyártása. Úgy véljük, hogy a NanoRoll-javaslat az ipari termelési lánc erőteljes csökkenésének köszönhetően előnyökkel fog járni. Végezetül, az egyes érintett tagok esetében a hasznosítható eredmények leírása alapján elkészítik a hasznosítási és/vagy kereskedelmi hasznosítási térképet, amely tartalmazza a gazdasági hatás mennyiségi becslését is. (Hungarian)
28 July 2022
0 references
Modifikace povrchových vlastností na mikro/nano měřítku a výsledné zvýšení drsnosti, tedy aktivního povrchu, hraje důležitou roli při optimalizaci výkonu materiálu pro specifické aplikace. Například účinky smáčení, odrazivosti, tření a přilnavosti, které se odehrávají na rozhraní mezi materiály, jsou silně ovlivněny velikostí a tvarem povrchových mikrostruktur.Cílem NanoRoll je vyvíjet a vyrábět funkční povrchy s kontinuálními litografickými procesy roll-to-roll. Cílem je převést výrobní proces z dávkové šarže na kontinuální kombinaci litografie pomocí laserového paprsku a hylické nanotiskové litografické metody (R2RNIL). Přístup k vysokofrekvenční/pulzní a laserové energii a synchronizaci litografie na válcových kovových substrátech (matrici/ulty) je nabízen jako alternativní metoda pro výrobu matric kompatibilních s litografickou metodou nanotisku. Je výzvou vytvořit hierarchické struktury kombinací mikro a trpasličích struktur na stejném povrchu, což poskytuje komparativní výhodu pro výrobu levných a flexibilních funkčních ploch. Nulová litografie je uvedena v plánu pro polovodiče (plán ITRS) jako rostoucí a slibná litografická metoda pro dosažení vysokého litografického rozlišení (sub-10 nm). V roce 2015 činil globální trh s nanoformulací 1,9 B$ a odhadujete, že do roku 2020 dosáhne 19,1 B$. Nulová technologie představuje 82,9 % celkového trhu nanoformativních procesů, protože 72,8 % patří k technologii UV-NIL. V roce 2020 se předpokládá, že technologie UV-NIL překročí $1,4.Hlavními cíli návrhu NanoRoll jsou: Přístup a aplikace laserové litografie paprsku pro konstrukci struktur s vysokým rozlišením s kontinuální topografii a vysokým výkonem, ii) navrhování, vytváření a reprodukce hierarchických (mikro/nano) struktur s kontinuálními litografickými procesy, iii) certifikace a pilotní výroba rozsáhlých (100 m²) funkčních povrchů se samodefinovanými vlastnostmi. Věříme, že návrh společnosti NanoRoll přinese výhody díky výraznému snížení výrobního řetězce. A konečně, na základě popisu využitelných výsledků pro každého zúčastněného člena bude vypracována mapa využívání a/nebo uvádění na trh, včetně kvantitativních odhadů hospodářského dopadu. (Czech)
28 July 2022
0 references
Virsmas īpašību pārveidošanai uz mikro/nano skalas un no tā izrietošajam raupjuma pieaugumam, līdz ar to aktīvajai virsmai, ir svarīga nozīme materiāla veiktspējas optimizēšanā konkrētiem lietojumiem. Piemēram, mitrināšanas, atstarošanas, berzes un saķeres ietekmi uz materiālu saskarni spēcīgi ietekmē virsmas mikrostruktūru izmērs un forma. NanoRoll mērķis ir attīstīt un radīt funkcionālas virsmas ar nepārtrauktiem roll-to-roll litogrāfiskiem procesiem. Mērķis ir pārveidot ražošanas procesu no partijas uz partiju nepārtrauktā litogrāfijas kombinācijā, izmantojot lāzera staru un hilic nanodrukas litogrāfijas metodi (R2RNIL). Piekļuve augstfrekvences/impulsa un lāzera enerģijai un sinhronizācija litogrāfijai uz cilindriskiem metāla substrātiem (matrica/multi) tiek piedāvāta kā alternatīva metode, lai ražotu matricas, kas ir saderīgas ar nanodrukas litogrāfijas metodi. Tas ir izaicinājums radīt hierarhiskas struktūras, apvienojot mikro un punduru konstrukcijas uz vienas virsmas, dodot salīdzinošas priekšrocības lētu un elastīgu funkcionālo virsmu ražošanai. Nulles litogrāfija ir atrodama pusvadītāju ceļvedī (ITRS ceļvedī) kā augoša un daudzsološa litogrāfijas metode augstas litogrāfiskās izšķirtspējas sasniegšanai (apakš-10 nm). 2015. gadā pasaules nanoformulācijas tirgus bija 1,9 B$, un jūs lēšat, ka līdz 2020. gadam tas sasniegs 19,1 B$. NIL tehnoloģija veido 82,9 % no kopējā nanoformatīvo procesu tirgus, jo 72,8 % pieder UV-NIL tehnoloģijai. Paredzams, ka 2020. gadā UV-NIL tehnoloģija pārsniegs $1,4.NanoRoll priekšlikuma galvenie mērķi ir šādi: Lāzera staru litogrāfijas pieejamība un pielietošana augstas izšķirtspējas konstrukciju ar nepārtrauktu topogrāfiju un augstu veiktspēju būvniecībai, ii) hierarhisko (mikro/nano) konstrukciju projektēšana, radīšana un reproducēšana ar nepārtrauktiem litogrāfiskiem procesiem, iii) liela mēroga (100 m²) funkcionālo virsmu sertifikācija un izmēģinājuma ražošana ar pašdefinētām īpašībām. Mēs uzskatām, ka NanoRoll priekšlikums dos labumu, jo ievērojami samazināsies rūpnieciskās ražošanas ķēde. Visbeidzot, pamatojoties uz katra iesaistītā dalībnieka izmantojamo rezultātu aprakstu, tiks izstrādāta izmantošanas un/vai komercializācijas karte, tostarp ekonomiskās ietekmes kvantitatīvas aplēses. (Latvian)
28 July 2022
0 references
Tá ról tábhachtach ag modhnú na n-airíonna dromchla ar an micriscála/nana-scála agus an méadú a thagann dá bharr ar gharbh, dá bhrí sin, an dromchla gníomhach, maidir le feidhmíocht ábhair a bharrfheabhsú le haghaidh feidhmeanna sonracha. Mar shampla, na héifeachtaí a fhliuchadh, frithchaiteacht, cuimilte agus greamaitheacht a tharlaíonn ar an gcomhéadan idir ábhair a bhfuil tionchar láidir ag an méid agus cruth ar an dromchla microstructures.The aidhm NanoRoll a fhorbairt agus a tháirgeadh dromchlaí feidhmiúla le próisis leanúnacha rolla-go-rolla liteagrafacha. Is é an aidhm atá ann an próiseas táirgthe a thiontú ó bhaisc go baisc go meascán leanúnach de liteagrafaíocht ag baint úsáide as léas léasair agus modh liteagrafach nanaphriontála hylic (R2RNIL). Tairgtear rochtain ar fhuinneamh ardmhinicíochta/bíog agus léasair agus sioncrónú le haghaidh liteagrafaíochta ar fhoshraitheanna miotail sorcóireacha (maitrís/multaí) mar mhodh malartach chun maitrísí a tháirgeadh atá comhoiriúnach leis an modh liteagrafach nanaphriontála. Is dúshlán é struchtúir ordlathach a chruthú trí struchtúir micrea agus dwarf a chur le chéile ar an dromchla céanna, rud a thugann buntáiste comparáideach do tháirgeadh dromchlaí feidhmiúla atá saor agus solúbtha. Tá liteagrafaíocht nialais le fáil sa treochlár leathsheoltóra (treochlár ITRS) mar mhodh liteagrafach atá ag dul i méid agus a bhfuil gealladh faoi chun ardtaifeach liteagrafach (fo-10 nm) a bhaint amach. In 2015 bhí an margadh domhanda nanafhoirmithe ag 1.9 B$ agus measann tú go sroichfidh sé 19,1 B$ faoi 2020. Is ionann an teicneolaíocht nil agus 82.9 % de mhargadh iomlán an phróisis nanafhoirmithe mar go mbaineann 72.8 % le teicneolaíocht UV-NIL. In 2020 táthar ag tuar go sáróidh teicneolaíocht UV-NIL $ 1,4.Is iad príomhchuspóirí thogra NanoRoll ná: Rochtain agus cur i bhfeidhm liteagrafaíocht léis léasair do thógáil struchtúir ard-sainmhíniú le topagrafaíocht leanúnach agus ardfheidhmíochta, (ii) dearadh, cruthú agus atáirgeadh ordlathach (micrea/nana) struchtúir le próisis liteagrafacha leanúnach, (iii) deimhniú agus táirgeadh píolótach ar scála mór (100 m²) dromchlaí feidhmiúla a bhfuil airíonna féin-sainithe. Creidimid go mbeidh buntáistí ag baint leis an togra NanoRoll mar gheall ar laghdú láidir ar an slabhra táirgthe tionsclaíoch. Ar deireadh, ar bhonn cur síos ar na torthaí insaothraithe do gach comhalta lena mbaineann, dréachtófar léarscáil den saothrú agus/nó den tráchtálú, lena n-áirítear meastacháin chainníochtúla ar an tionchar eacnamaíoch. (Irish)
28 July 2022
0 references
Sprememba površinskih lastnosti na mikro/nano lestvici in posledično povečanje hrapavosti, zato aktivna površina, igrata pomembno vlogo pri optimizaciji delovanja materiala za posebne namene. Na primer, na učinke mokrenja, odbojnosti, trenja in oprijema, ki potekajo na vmesniku med materiali, močno vplivata velikost in oblika površinskih mikrostruktur. Cilj NanoRolla je razviti in izdelati funkcionalne površine z neprekinjenimi litografskimi procesi roll-to-roll. Cilj je pretvoriti proizvodni proces iz serije v serijo v neprekinjeno kombinacijo litografije z uporabo laserskega žarka in hilično nanotiskajočo litografsko metodo (R2RNIL). Dostop do visokofrekvenčne/pulzne in laserske energije ter sinhronizacija za litografijo na cilindričnih kovinskih podlagah (matriks/multi) je na voljo kot alternativna metoda za izdelavo matrik, združljivih z nanotiskanjem litografske metode. Izziv je ustvariti hierarhične strukture z združevanjem mikro in pritlikavih struktur na isti površini, kar daje primerjalno prednost proizvodnji poceni in fleksibilnih funkcionalnih površin. Ničelna litografija je v polprevodniškem načrtu (načrt ITRS) vzhajajoča in obetavna litografska metoda za doseganje visoke litografske ločljivosti (pod-10 nm). Leta 2015 je svetovni trg nanoformulacije znašal 1,9 B$ in ocenjujete, da bo do leta 2020 dosegel 19,1 B$. Nična tehnologija predstavlja 82,9 % celotnega trga nanoformativnih procesov, saj 72,8 % pripada tehnologiji UV-NIL. V letu 2020 naj bi tehnologija UV-NIL presegla $1,4.Glavni cilji predloga NanoRoll so: Dostop in uporaba litografije laserskega žarka za gradnjo struktur visoke ločljivosti z neprekinjeno topografijo in visoko zmogljivostjo, (ii) oblikovanje, ustvarjanje in reprodukcijo hierarhičnih (mikro/nano) struktur z neprekinjenimi litografskimi procesi, (iii) certificiranje in pilotna proizvodnja velikih (100 m²) funkcionalnih površin s samoopredeljenimi lastnostmi. Menimo, da bo predlog NanoRoll prinesel koristi zaradi močnega zmanjšanja industrijske proizvodne verige. Na podlagi opisa rezultatov, ki jih je mogoče izkoristiti za vsako udeleženo članico, bo pripravljen zemljevid izkoriščanja in/ali komercializacije, vključno s kvantitativnimi ocenami gospodarskega učinka. (Slovenian)
28 July 2022
0 references
Модификацията на свойствата на повърхността на микро/нанока и произтичащото от това увеличаване на грапавостта, оттам и активната повърхност, играят важна роля за оптимизиране на производителността на материала за специфични приложения. Например, ефектите от мокренето, отразяващата способност, триенето и сцеплението, които се извършват върху интерфейса между материалите, са силно повлияни от размера и формата на повърхностните микроструктури.Целта на NanoRoll е да развива и произвежда функционални повърхности с непрекъснати литографски процеси от ролка до ролка. Целта е производственият процес да се преобразува от партида в партида в непрекъсната комбинация от литография с помощта на лазерен лъч и литографски метод за нанопечат (R2RNIL). Достъпът до високочестотна/импулсна и лазерна енергия и синхронизация за литография върху цилиндрични метални субстрати (матрица/мултисти) се предлага като алтернативен метод за производство на матрици, съвместими с литографския метод за нанопечат. Предизвикателство е да се създадат йерархични структури чрез комбиниране на микро- и джуджета структури на една и съща повърхност, което дава сравнително предимство за производството на евтини и гъвкави функционални повърхности. Нулевата литография се намира в пътната карта за полупроводниковите елементи (Пътна карта на IRS) като нарастващ и обещаващ литографски метод за постигане на висока литографска разделителна способност (под-10 nm). През 2015 г. световният пазар на наноформулация беше 1,9 B$ и според вас ще достигне 19,1 B$ до 2020 г. Нулевата технология представлява 82,9 % от общия пазар на наноформативни процеси, тъй като 72,8 % принадлежи към UV-NIL технология. През 2020 г. се предвижда, че технологията UV-NIL ще надхвърли $1,4.Основните цели на предложението за NanoRoll са: Достъп и прилагане на литография с лазерен лъч за изграждане на структури с висока разделителна способност с непрекъсната топография и висока производителност, ii) проектиране, създаване и възпроизвеждане на йерархични (микро/нано) структури с непрекъснати литографски процеси, iii) сертифициране и пилотно производство на широкомащабни (100 m²) функционални повърхности със самоопределени свойства. Считаме, че предложението NanoRoll ще донесе ползи поради силното намаляване на промишлената производствена верига. Накрая, въз основа на описание на резултатите, които могат да се използват за всеки участващ член, ще бъде изготвена карта на експлоатацията и/или комерсиализацията, включително количествени оценки на икономическото въздействие. (Bulgarian)
28 July 2022
0 references
Il-modifika tal-proprjetajiet tal-wiċċ fuq l-iskala mikro/nano u ż-żieda li tirriżulta fil-ħruxija, għalhekk il-wiċċ attiv, għandhom rwol importanti fl-ottimizzazzjoni tal-prestazzjoni ta’ materjal għal applikazzjonijiet speċifiċi. Pereżempju, l-effetti tat-tixrib, ir-riflettività, il-frizzjoni u l-adeżjoni li jseħħu fuq l-interface bejn il-materjali huma influwenzati ħafna mid-daqs u l-forma tal-mikrostrutturi tal-wiċċ. L-għan ta’ NanoRoll huwa li jiżviluppa u jipproduċi uċuħ funzjonali bi proċessi litografiċi kontinwi roll-to-roll. L-għan huwa li l-proċess ta’ produzzjoni jinbidel minn lott għal lott għal kombinazzjoni kontinwa ta’ litografija bl-użu ta’ raġġ tal-lejżer u l-metodu litografiku ta’ nanostampar hylic (R2RNIL). L-aċċess għall-enerġija ta’ frekwenza għolja/tal-impuls u tal-lejżer u s-sinkronizzazzjoni għal-litografija fuq sottostrati ċilindriċi tal-metall (matriċi/mults) huwa offrut bħala metodu alternattiv għall-produzzjoni ta’ matriċi kompatibbli mal-metodu litografiku tan-nanostampar. Hija sfida li jinħolqu strutturi ġerarkiċi billi jiġu kkombinati l-istrutturi mikro u dwarf fuq l-istess wiċċ, u dan jagħti vantaġġ komparattiv għall-produzzjoni ta’ uċuħ funzjonali rħas u flessibbli. Il-litografija nil tinsab fil-pjan direzzjonali tas-semikondutturi (pjan direzzjonali tal-ITRS) bħala metodu litografiku li qed jiżdied u promettenti għall-kisba ta’ riżoluzzjoni litografika għolja (sub-10 nm). Fl-2015 is-suq globali tan-nanoformulazzjoni kien ta’ 1.9 B$ u tistma li se jilħaq 19,1 B$ sal-2020. It-teknoloġija nil tammonta għal 82.9 % tat-total tas-suq tal-proċess nanoformattiv peress li 72.8 % tappartjeni għat-teknoloġija UV-NIL. Fl-2020 huwa previst li t-teknoloġija UV-NIL se taqbeż $1,4.L-għanijiet ewlenin tal-proposta ta’ NanoRoll huma: L-aċċess u l-applikazzjoni tal-litografija b’raġġ tal-lejżer għall-kostruzzjoni ta’ strutturi ta’ definizzjoni għolja b’topografija kontinwa u bi prestazzjoni għolja, (ii) id-disinn, il-ħolqien u r-riproduzzjoni ta’ strutturi ġerarkiċi (mikro/nano) bi proċessi litografiċi kontinwi, (iii) iċ-ċertifikazzjoni u l-produzzjoni pilota ta’ uċuħ funzjonali fuq skala kbira (100 m²) bi proprjetajiet awtodefiniti. Aħna nemmnu li l-proposta ta’ NanoRoll se ġġib benefiċċji minħabba tnaqqis qawwi fil-katina tal-produzzjoni industrijali. Fl-aħħar nett, fuq il-bażi ta’ deskrizzjoni tar-riżultati li jistgħu jiġu sfruttati għal kull membru involut, se titfassal mappa ta’ sfruttament u/jew kummerċjalizzazzjoni, inklużi stimi kwantitattivi tal-impatt ekonomiku. (Maltese)
28 July 2022
0 references
A modificação das propriedades da superfície na escala micro/nano e o aumento resultante na rugosidade, daqui a superfície ativa, jogam um papel importante em otimizar o desempenho de um material para aplicações específicas. Por exemplo, os efeitos da umidade, refletividade, fricção e adesão que ocorrem na interface entre os materiais são fortemente influenciados pelo tamanho e forma das microestruturas de superfície. O objetivo é converter o processo de produção de um lote a lote para uma combinação contínua de litografia utilizando um feixe laser e o método litográfico de nanoimpressão hílica (R2RNIL). O acesso à energia de alta frequência/pulso e laser e a sincronização para litografia em substratos metálicos cilíndricos (matriz/mults) são oferecidos como um método alternativo para a produção de matrizes compatíveis com o método litográfico de nanoimpressão. É um desafio criar estruturas hierárquicas combinando estruturas micro e anãs na mesma superfície, dando uma vantagem comparativa para a produção de superfícies funcionais baratas e flexíveis. A litografia NIL é encontrada no roteiro de semicondutores (roteiro ITRS) como um método litográfico crescente e promissor para alcançar alta resolução litográfica (sub-10 nm). Em 2015, o mercado global de nanoformulação situou-se em 1,9 B$ e estima-se que atingirá 19,1 B$ até 2020. A tecnologia NIL representa 82,9 % do mercado total de processos nanoformativos, uma vez que 72,8 % pertence à tecnologia UV-NIL. Em 2020, prevê-se que a tecnologia UV-NIL exceda $1,4. Os principais objetivos da proposta NanoRoll são: Acesso e aplicação da litografia por raio laser para a construção de estruturas de alta definição com topografia contínua e elevado desempenho, ii) conceção, criação e reprodução de estruturas hierárquicas (micro/nano) com processos litográficos contínuos, iii) certificação e produção-piloto de superfícies funcionais em grande escala (100 m2) com propriedades autodefinidas. Acreditamos que a proposta da NanoRoll trará benefícios devido a uma forte redução na cadeia de produção industrial. Por último, com base numa descrição dos resultados exploráveis para cada membro envolvido, será elaborado um mapa de exploração e/ou comercialização, incluindo estimativas quantitativas do impacto económico. (Portuguese)
28 July 2022
0 references
Ændringen af overfladeegenskaberne på mikro-/nanoskalaen og den deraf følgende stigning i ruhed, dermed den aktive overflade, spiller en vigtig rolle i optimeringen af et materiales ydeevne til specifikke anvendelser. For eksempel påvirkes virkningerne af befugtning, refleksion, friktion og vedhæftning, der finder sted på grænsefladen mellem materialer, stærkt af størrelsen og formen af overflademikrostrukturer.Formålet med NanoRoll er at udvikle og producere funktionelle overflader med kontinuerlig roll-to-roll litografiske processer. Formålet er at omdanne produktionsprocessen fra batch-til-batch til en kontinuerlig kombination af litografi ved hjælp af en laserstråle og den litografiske metode til hylic nanotrykning (R2RNIL). Adgang til højfrekvent/impuls- og laserenergi og synkronisering til litografi på cylindriske metalsubstrater (matrix/mults) tilbydes som en alternativ metode til fremstilling af matricer, der er kompatible med den litografiske metode til nanotryk. Det er en udfordring at skabe hierarkiske strukturer ved at kombinere mikro- og dværgstrukturer på samme overflade, hvilket giver en komparativ fordel for produktionen af billige og fleksible funktionelle overflader. Nilllitografi findes i halvlederkøreplanen (ITRS-køreplanen) som en stigende og lovende litografisk metode til at opnå høj litografisk opløsning (sub-10 nm). I 2015 var det globale nanoformuleringsmarked 1,9 B$, og du anslår, at det vil nå 19,1 B$ i 2020. Ingen teknologi tegner sig for 82,9 % af det samlede marked for nanodannende procesprocesser, da 72,8 % tilhører UV-NIL-teknologi. I 2020 forventes det, at UV-NIL-teknologien vil overstige $1,4.De vigtigste mål med NanoRoll-forslaget er: Adgang til og anvendelse af laserstrålelitteratur til konstruktion af højopløsningskonstruktioner med kontinuerlig topografi og høj ydeevne, ii) design, skabelse og reproduktion af hierarkiske (mikro/nano) strukturer med kontinuerlig litografiske processer, iii) certificering og pilotproduktion af store (100 m²) funktionelle overflader med selvdefinerede egenskaber. Vi mener, at NanoRoll-forslaget vil medføre fordele som følge af en kraftig reduktion i industriproduktionskæden. Endelig vil der på grundlag af en beskrivelse af de resultater, der kan udnyttes for hvert af de involverede medlemmer, blive udarbejdet et kort over udnyttelse og/eller markedsføring, herunder kvantitative skøn over de økonomiske virkninger. (Danish)
28 July 2022
0 references
Modificarea proprietăților suprafeței pe scara micro/nano și creșterea rezultată a rugozității, prin urmare a suprafeței active, joacă un rol important în optimizarea performanței unui material pentru aplicații specifice. De exemplu, efectele umezirii, reflexivității, frecării și aderenței care au loc pe interfața dintre materiale sunt puternic influențate de dimensiunea și forma microstructurilor de suprafață. Scopul NanoRoll este de a dezvolta și produce suprafețe funcționale cu procese litografice continue roll-to-roll. Scopul este de a converti procesul de producție dintr-un lot în lot într-o combinație continuă de litografie utilizând un fascicul laser și metoda litografică nanoimprimare hilică (R2RNIL). Accesul la energie de înaltă frecvență/puls și laser și sincronizare pentru litografie pe substraturi metalice cilindrice (matrice/mulți) este oferit ca metodă alternativă pentru producerea matricelor compatibile cu metoda litografică nanoimprimare. Este o provocare să se creeze structuri ierarhice prin combinarea structurilor micro și pitice pe aceeași suprafață, oferind un avantaj comparativ pentru producția de suprafețe funcționale ieftine și flexibile. Litografia zero se găsește în foaia de parcurs privind semiconductorii (foaia de parcurs ITRS) ca o metodă litografică în creștere și promițătoare pentru obținerea unei rezoluții litografice înalte (sub-10 nm). În 2015, piața globală a nanoformării a fost de 1,9 miliarde de dolari și estimați că va ajunge la 19,1 miliarde USD până în 2020. Tehnologia nulă reprezintă 82,9 % din piața totală a proceselor nanoformative, întrucât 72,8 % aparține tehnologiei UV-NIL. În 2020, se estimează că tehnologia UV-NIL va depăși $1,4.Principalele obiective ale propunerii NanoRoll sunt: Accesul și aplicarea litografiei fasciculului laser pentru construcția de structuri de înaltă definiție cu topografie continuă și înaltă performanță, (ii) proiectarea, crearea și reproducerea structurilor ierarhice (micro/nano) cu procese litografice continue, (iii) certificarea și producția pilot de suprafețe funcționale de mari dimensiuni (100 m²) cu proprietăți autodefinite. Considerăm că propunerea NanoRoll va aduce beneficii datorită unei reduceri puternice a lanțului de producție industrială. În cele din urmă, pe baza unei descrieri a rezultatelor exploatabile pentru fiecare membru implicat, se va elabora o hartă a exploatării și/sau a comercializării, inclusiv estimări cantitative ale impactului economic. (Romanian)
28 July 2022
0 references
Modifieringen av ytegenskaperna på mikro/nanoskalan och den resulterande ökningen av ojämnheten, därav den aktiva ytan, spelar en viktig roll för att optimera prestandan hos ett material för specifika tillämpningar. Till exempel påverkas effekterna av vätning, reflexivitet, friktion och vidhäftning på gränssnittet mellan material kraftigt av storleken och formen på ytmikrostrukturer.Syftet med NanoRoll är att utveckla och producera funktionella ytor med kontinuerliga litografiska processer. Syftet är att omvandla produktionsprocessen från batch-till-batch till en kontinuerlig kombination av litografi med hjälp av en laserstråle och den hyliciska nanoprinting litografiska metoden (R2RNIL). Tillgång till högfrekvens-/puls- och laserenergi och synkronisering för litografi på cylindriska metallsubstrat (matriser/mulor) erbjuds som en alternativ metod för att producera matriser som är kompatibla med den litografiska nanotryckmetoden. Det är en utmaning att skapa hierarkiska strukturer genom att kombinera mikro- och dvärgstrukturer på samma yta, vilket ger en komparativ fördel för produktion av billiga och flexibla funktionella ytor. Nil litografi finns i färdplanen för halvledare (ITRS-färdplanen) som en stigande och lovande litografisk metod för att uppnå hög litografisk upplösning (sub-10 nm). År 2015 låg den globala marknaden för nanoformulering på 1,9 miljarder dollar och du uppskattar att den kommer att nå 19,1 B$ fram till 2020. Ingen teknik står för 82,9 % av den totala marknaden för nanoformativa processer, eftersom 72,8 % tillhör UV-NIL-teknik. År 2020 beräknas UV-NIL-tekniken överstiga 1,4 dollar.De viktigaste målen med NanoRoll-förslaget är följande: Tillgång till och tillämpning av laserstrålelitografi för konstruktion av högupplösta strukturer med kontinuerlig topografi och hög prestanda, ii) utformning, skapande och reproduktion av hierarkiska (mikro/nano) strukturer med kontinuerliga litografiska processer, iii) certifiering och pilotproduktion av storskaliga (100 m²) funktionella ytor med självdefinierade egenskaper. Vi anser att NanoRoll-förslaget kommer att medföra fördelar tack vare en kraftig minskning av den industriella produktionskedjan. På grundval av en beskrivning av de exploaterbara resultaten för varje berörd medlem kommer en karta över utnyttjande och/eller kommersialisering att upprättas, inklusive kvantitativa uppskattningar av de ekonomiska konsekvenserna. (Swedish)
28 July 2022
0 references
Identifiers
5.048.498
0 references