Compact XUV laser sources based on the generation of high harmonics (Q3532905): Difference between revisions
Jump to navigation
Jump to search
(Changed label, description and/or aliases in fr, and other parts: Adding French translations) |
(Changed label, description and/or aliases in nl, and other parts: Adding Dutch translations) |
||||||||||||||
| label / nl | label / nl | ||||||||||||||
Compacte XUV laserbronnen gebaseerd op de generatie van hoge harmonischen | |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Het doel van de geplande onderzoeksactiviteiten is om zo snel mogelijk nieuwe HHG-technologieën te onderzoeken en te implementeren. De XUV-lasersystemen van de AFS moeten daarom voorbereid zijn op de steeds grotere eisen van nieuwe toepassingen zoals inspectie in de halfgeleiderindustrie of medische beeldvorming en om het bestaande technologische voordeel veilig te stellen of verder uit te breiden. (Dutch) | |||||||||||||||
| Property / summary: Het doel van de geplande onderzoeksactiviteiten is om zo snel mogelijk nieuwe HHG-technologieën te onderzoeken en te implementeren. De XUV-lasersystemen van de AFS moeten daarom voorbereid zijn op de steeds grotere eisen van nieuwe toepassingen zoals inspectie in de halfgeleiderindustrie of medische beeldvorming en om het bestaande technologische voordeel veilig te stellen of verder uit te breiden. (Dutch) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Het doel van de geplande onderzoeksactiviteiten is om zo snel mogelijk nieuwe HHG-technologieën te onderzoeken en te implementeren. De XUV-lasersystemen van de AFS moeten daarom voorbereid zijn op de steeds grotere eisen van nieuwe toepassingen zoals inspectie in de halfgeleiderindustrie of medische beeldvorming en om het bestaande technologische voordeel veilig te stellen of verder uit te breiden. (Dutch) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 21 December 2021
| |||||||||||||||
Revision as of 11:43, 21 December 2021
Project Q3532905 in Germany
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | Compact XUV laser sources based on the generation of high harmonics |
Project Q3532905 in Germany |
Statements
57,600.0 Euro
0 references
72,000.0 Euro
0 references
80.0 percent
0 references
1 May 2019
0 references
30 April 2021
0 references
Active Fiber Systems GmbH
0 references
50°54'32.44"N, 11°34'31.40"E
0 references
50°54'32.44"N, 11°34'31.40"E
0 references
07745 Jena
0 references
Ziel der geplanten Forschungstätigkeit ist die Erforschung und möglichst zeitnahe Produktumsetzung neuartiger HHG-Technologien. Die XUV-Lasersysteme der AFS gilt es damit auf die stetig wachsenden Anforderungen neuartiger Applikationen wie die Inspektion in der Halbleiterindustrie oder die medizinische Bildgebung vorzubereiten und den bestehenden technologischen Vorsprung zu sichern bzw. weiter auszubauen. (German)
0 references
The aim of the planned research activity is to research and implement novel HHG technologies as soon as possible. The XUV laser systems of the AFS must therefore be prepared for the ever-growing requirements of novel applications such as inspection in the semiconductor industry or medical imaging and to secure or further expand the existing technological advantage. (English)
17 November 2021
0 references
L’objectif de l’activité de recherche envisagée est la recherche et la mise en œuvre dans les délais les plus brefs des nouvelles technologies de GHH. Les systèmes laser XUV de l’AFS doivent donc être préparés pour répondre aux exigences croissantes de nouvelles applications telles que l’inspection dans l’industrie des semi-conducteurs ou l’imagerie médicale, ainsi que pour préserver ou développer l’avance technologique existante. (French)
9 December 2021
0 references
Het doel van de geplande onderzoeksactiviteiten is om zo snel mogelijk nieuwe HHG-technologieën te onderzoeken en te implementeren. De XUV-lasersystemen van de AFS moeten daarom voorbereid zijn op de steeds grotere eisen van nieuwe toepassingen zoals inspectie in de halfgeleiderindustrie of medische beeldvorming en om het bestaande technologische voordeel veilig te stellen of verder uit te breiden. (Dutch)
21 December 2021
0 references
Identifiers
DE_TEMPORARY_ESF_128868
0 references