Compact XUV laser sources based on the generation of high harmonics (Q3532905): Difference between revisions
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label / fr | label / fr | ||||||||||||||
Sources laser XUV compactes basées sur la génération de hauts harmoniques | |||||||||||||||
Property / summary | |||||||||||||||
L’objectif de l’activité de recherche envisagée est la recherche et la mise en œuvre dans les délais les plus brefs des nouvelles technologies de GHH. Les systèmes laser XUV de l’AFS doivent donc être préparés pour répondre aux exigences croissantes de nouvelles applications telles que l’inspection dans l’industrie des semi-conducteurs ou l’imagerie médicale, ainsi que pour préserver ou développer l’avance technologique existante. (French) | |||||||||||||||
Property / summary: L’objectif de l’activité de recherche envisagée est la recherche et la mise en œuvre dans les délais les plus brefs des nouvelles technologies de GHH. Les systèmes laser XUV de l’AFS doivent donc être préparés pour répondre aux exigences croissantes de nouvelles applications telles que l’inspection dans l’industrie des semi-conducteurs ou l’imagerie médicale, ainsi que pour préserver ou développer l’avance technologique existante. (French) / rank | |||||||||||||||
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Property / summary: L’objectif de l’activité de recherche envisagée est la recherche et la mise en œuvre dans les délais les plus brefs des nouvelles technologies de GHH. Les systèmes laser XUV de l’AFS doivent donc être préparés pour répondre aux exigences croissantes de nouvelles applications telles que l’inspection dans l’industrie des semi-conducteurs ou l’imagerie médicale, ainsi que pour préserver ou développer l’avance technologique existante. (French) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 9 December 2021
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Revision as of 16:35, 9 December 2021
Project Q3532905 in Germany
Language | Label | Description | Also known as |
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English | Compact XUV laser sources based on the generation of high harmonics |
Project Q3532905 in Germany |
Statements
57,600.0 Euro
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72,000.0 Euro
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80.0 percent
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1 May 2019
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30 April 2021
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Active Fiber Systems GmbH
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07745 Jena
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Ziel der geplanten Forschungstätigkeit ist die Erforschung und möglichst zeitnahe Produktumsetzung neuartiger HHG-Technologien. Die XUV-Lasersysteme der AFS gilt es damit auf die stetig wachsenden Anforderungen neuartiger Applikationen wie die Inspektion in der Halbleiterindustrie oder die medizinische Bildgebung vorzubereiten und den bestehenden technologischen Vorsprung zu sichern bzw. weiter auszubauen. (German)
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The aim of the planned research activity is to research and implement novel HHG technologies as soon as possible. The XUV laser systems of the AFS must therefore be prepared for the ever-growing requirements of novel applications such as inspection in the semiconductor industry or medical imaging and to secure or further expand the existing technological advantage. (English)
17 November 2021
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L’objectif de l’activité de recherche envisagée est la recherche et la mise en œuvre dans les délais les plus brefs des nouvelles technologies de GHH. Les systèmes laser XUV de l’AFS doivent donc être préparés pour répondre aux exigences croissantes de nouvelles applications telles que l’inspection dans l’industrie des semi-conducteurs ou l’imagerie médicale, ainsi que pour préserver ou développer l’avance technologique existante. (French)
9 December 2021
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Identifiers
DE_TEMPORARY_ESF_128868
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