Implementation of industrial research and development aimed at developing new technology for the production of surface measures to limit the development of bacteria and microfragments of silver produced by electrochemical methods on an industrial scale. (Q97930)
Jump to navigation
Jump to search
Project in Poland financed by DG Regio
Language | Label | Description | Also known as |
---|---|---|---|
English | Implementation of industrial research and development aimed at developing new technology for the production of surface measures to limit the development of bacteria and microfragments of silver produced by electrochemical methods on an industrial scale. |
Project in Poland financed by DG Regio |
Statements
2,228,700.0 zloty
0 references
4,169,222.04 zloty
0 references
78.46 percent
0 references
1 June 2017
0 references
30 September 2018
0 references
NANOTEC SPÓLKA Z OGRANICZONA ODPOWIEDZIALNOŚCIĄ
0 references
Celem projektu jest zatem realizacja agendy badawczej w wyniku której zostanie wytworzona nowa wiedza w postaci technologii do powierzchniowego ograniczania rozwoju bakterii i grzybów przy pomocy nano i mikrocząstek srebra wytwarzanych metodami elektrochemicznymi (w skali przemysłowej). Na bazie tej wiedzy wnioskodawca zrealizuje innowację procesową w zakresie stosowanych przez siebie produkcyjnych procesów elektrochemicznych, a także wprowadzi na rynek nowe, innowacyjne produkty w postaci bezpiecznych środków ograniczających powierzchniowo rozwój grzybów i bakterii chorobotwórczych. W wyniku wdrożenia nowej technologii zostanie zrealizowana nie tylko innowacja procesowa, ale również produktowa. W zakresie innowacji procesowej wnioskodawca zamierza opracować, na bazie wytworzonej w toku projektu nowej technologii, zaawansowany sensor nefelometryczno-turbidymetryczno-konduktometryczny wraz z inteligentnym układem sterowania parametrami procesów elektrochemicznych. Opracowana procesowa pętla zwrotna oparta na mechanizmach uczenia maszynowego i sztucznej inteligencji (w tym klasyfikatorów oraz sieci neuronowych) pozwoli na wysterowanie parametrów procesowych i w wyniku uzyskanie wąskich frakcji nano i mikrocząstek. (Polish)
0 references
Identifiers
RPKP.01.03.01-04-0067/16
0 references