Filing of a patent application for a PCT procedure for the production method of ultra-thin conductive metallic lines (Q81659)
Jump to navigation
Jump to search
Project in Poland financed by DG Regio
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | Filing of a patent application for a PCT procedure for the production method of ultra-thin conductive metallic lines |
Project in Poland financed by DG Regio |
Statements
315,682.0 zloty
0 references
631,364.0 zloty
0 references
50.0 percent
0 references
18 January 2016
0 references
31 March 2020
0 references
XTPL SA
0 references
Numer_referencyjny_programu_pomocowego: SA.42799(2015/X), przeznaczenie_pomocy_publicznej: art. 28 rozporządzenia Komisji nr 651/2014Przedmiotem projektu jest przeprowadzenie procedury międzynarodowego zgłoszenia patentowego dla metody wytwarzania ultra-cienkich przewodzących linii metalicznych Poprzez podjęcie działań zmierzających do uzyskania ochrony własności przemysłowej Spółka XTPL Sp z o.o. (dalej jako XTPL) znacząco przybliży się do zrealizowania głównego celu swojej działalności tj. komercjalizacji pomysłu technologicznego jaki stworzyli wybitni młodzi polscy naukowcy dr inż. Filip Granek oraz dr inż. Zbigniew Rozynek. Obaj są stypendystami Fundacji na rzecz Nauki Polskiej oraz MNiSW. Obaj naukowcy, przez ponad 8 lat każdy, pracowali naukowo w prestiżowych jednostkach naukowych poza granicami Polski: F. Granek pracował w Holandii, Niemczech, Australii oraz Chinach. Z. Rozynek pracował w Austrii, Wielkiej Brytanii, Szwecji oraz Norwegii. Są oni autorami wielu publikacji w prestiżowych czasopismach naukowych w tym Nature, a F. Granek jest autorem kilkunastu międzynarodowych zgłoszeń patentowych. Pomysł na przełomową metodę wytwarzania ultra-cienkich przewodzących linii metalicznych powstał na styku ich kompetencji oraz doświadczeń naukowych. Przeprowadzone dotychczas prace B+R doprowadziły do opracowania metody technologicznej, dzięki której wytworzono metaliczne ścieżki przewodzące o szerokości 5 mikrometrów! (metoda ich wytwarzania stanowi przedmiot zgłoszenia). Dla porównania standardowo wykorzystywane techniki druku nanomateriałów pozwalają na uzyskanie szerokości linii w zakresie 50-100 um. Jednocześnie rezystancja elektryczna pojedynczych wytworzonych linii wynosi 3 Ohm dla linii o długości 1 cm. Rozwijany proces technologiczny jest zatem niezwykle obiecujący z punktu widzenia możliwości uzyskania bardzo cienkich i bardzo dobrze przewodzących linii metalicznych, dzięki czemu przedmiot planowanego zgłoszenia stanowi odpowiedź na rosnące na rynku zapotrze (Polish)
0 references
Reference number of the aid programme: SA.42799(2015/X), intended for public aid: Article 28 of Commission Regulation No 651/2014The object of the project is to conduct an international patent application procedure for the production of ultra-thin conductive metallic lines.By taking measures aimed at obtaining protection of industrial property, XTPL Sp z o.o. (hereinafter as XTPL) will be significantly closer to achieving the main objective of its activity, i.e. commercialisation of the technological idea created by outstanding young Polish scientists dr Enż. Filip Granek and Dr. Eng. I'm Zbigniew Rozynek. Both are scholarships from the Foundation for Polish Science and the Ministry of Science. Both scientists, for over 8 years each, have worked scientifically in prestigious scientific units outside Poland: Granek worked in the Netherlands, Germany, Australia and China. Rozynek worked in Austria, the United Kingdom, Sweden and Norway. They are the authors of many publications in prestigious scientific journals, including Nature, and F. Granek is the author of several international patent applications. The idea for a groundbreaking method of producing ultra-thin conductive metallic lines came from the interface of their competences and scientific experiences. R & D work carried out so far led to the development of a technological method, which produced metallic conductive paths with a width of 5 micrometers! (the method of their manufacture is the subject of notification). For comparison, standard nanomaterial printing techniques allow to obtain line widths in the range of 50-100 um. At the same time, the electric resistance of individual lines produced is 3 Ohm for lines with a length of 1 cm. The technological process developed is therefore extremely promising from the point of view of the possibility of obtaining very thin and very well conductive metallic lines, thanks to which the object of the planned notification is a response to the growing heat on the market. (English)
14 October 2020
0 references
Identifiers
POIR.02.03.04-02-0001/16
0 references