No label defined (Q81659)
Jump to navigation
Jump to search
Project in Poland financed by DG Regio
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | No label defined |
Project in Poland financed by DG Regio |
Statements
315,682.0 zloty
0 references
638,264.0 zloty
0 references
50.0 percent
0 references
18 January 2016
0 references
31 March 2020
0 references
XTPL SA
0 references
Numer_referencyjny_programu_pomocowego: SA.42799(2015/X), przeznaczenie_pomocy_publicznej: art. 28 rozporządzenia Komisji nr 651/2014Przedmiotem projektu jest przeprowadzenie procedury międzynarodowego zgłoszenia patentowego dla metody wytwarzania ultra-cienkich przewodzących linii metalicznych Poprzez podjęcie działań zmierzających do uzyskania ochrony własności przemysłowej Spółka XTPL Sp z o.o. (dalej jako XTPL) znacząco przybliży się do zrealizowania głównego celu swojej działalności tj. komercjalizacji pomysłu technologicznego jaki stworzyli wybitni młodzi polscy naukowcy dr inż. Filip Granek oraz dr inż. Zbigniew Rozynek. Obaj są stypendystami Fundacji na rzecz Nauki Polskiej oraz MNiSW. Obaj naukowcy, przez ponad 8 lat każdy, pracowali naukowo w prestiżowych jednostkach naukowych poza granicami Polski: F. Granek pracował w Holandii, Niemczech, Australii oraz Chinach. Z. Rozynek pracował w Austrii, Wielkiej Brytanii, Szwecji oraz Norwegii. Są oni autorami wielu publikacji w prestiżowych czasopismach naukowych w tym Nature, a F. Granek jest autorem kilkunastu międzynarodowych zgłoszeń patentowych. Pomysł na przełomową metodę wytwarzania ultra-cienkich przewodzących linii metalicznych powstał na styku ich kompetencji oraz doświadczeń naukowych. Przeprowadzone dotychczas prace B+R doprowadziły do opracowania metody technologicznej, dzięki której wytworzono metaliczne ścieżki przewodzące o szerokości 5 mikrometrów! (metoda ich wytwarzania stanowi przedmiot zgłoszenia). Dla porównania standardowo wykorzystywane techniki druku nanomateriałów pozwalają na uzyskanie szerokości linii w zakresie 50-100 um. Jednocześnie rezystancja elektryczna pojedynczych wytworzonych linii wynosi 3 Ohm dla linii o długości 1 cm. Rozwijany proces technologiczny jest zatem niezwykle obiecujący z punktu widzenia możliwości uzyskania bardzo cienkich i bardzo dobrze przewodzących linii metalicznych, dzięki czemu przedmiot planowanego zgłoszenia stanowi odpowiedź na rosnące na rynku zapotrze (Polish)
0 references
Identifiers
POIR.02.03.04-02-0001/16
0 references