No label defined (Q94488)
Jump to navigation
Jump to search
Project in Poland financed by DG Regio
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | No label defined |
Project in Poland financed by DG Regio |
Statements
2,457,548.44 zloty
0 references
4,508,627.22 zloty
0 references
60.0 percent
0 references
6 March 2017
0 references
29 December 2018
0 references
XTPL SA
0 references
Przedmiotem niniejszego Projektu jest opracowanie 4 demonstracyjnych prototypów drukarki laboratoryjnej wraz z odpowiednimi formułami nanotuszy oraz dokonania pierwszych wdrożeń u potencjalnych klientów w ramach beta testów (w trakcie których interakcyjnie wprowadzane będą poprawki i udoskonalenia). Po zakończeniu projektu spółka przystąpi do komercyjnej sprzedaży drukarek laboratoryjnych i tuszu. Projekt będzie składać się z dwóch etapów: •Faza I – wytworzenie 4 prototypów drukarki laboratoryjnej na podstawie którego stworzony będzie przedseryjny model drukarki laboratoryjnej, opracowanie odpowiedniej formuły nanotuszu (w kilku wariantach) oraz przeprowadzenie wewnętrznych testów walidacyjnych (testy alfa); • Faza II– zewnętrzne testy walidacyjne w warunkach zbliżonych do rzeczywistych (testy beta) których efektem będzie umożliwienie uruchomienia produkcji krótkoseryjnej drukarek laboratoryjnych i walidacja tej technologii na rynku. Na tym etapie rozpocznie się również bardzo intensywna promocja technologii prowadząca do wdrożenia na rynek przemysłowej wersji drukarki. Projekt doprowadzi do rozwoju przełomowej technologii ultraprecyzyjnego drukowania szerokiej gamy nanomateriałów. Drukowanie metalicznych nanomateriałów, umożliwi wytwarzanie ultracienkich linii przewodzących prąd elektryczny, które jednocześnie umożliwią osiągnięcie niespotykanej dotychczas optycznej przejrzystości wytwarzanych struktur. Wykorzystanie powyższych cech technologii XTPL pozwoli na opracowanie nowej generacji warstw TCF (Transparent Conductive Films). Technologia XTPL umożliwi produkowanie warstw TCF o niskim koszcie jednostkowym, o bardzo wysokiej optycznej transparentności przy zachowaniu bardzo niskiej rezystancji powierzchniowej. Opracowywana technologia ma zastosowanie w globalnych branżach cienkowarstwowych ogniw słonecznych oraz w branży producentów wyświetlaczy, ekranów dotykowych oraz elastycznej elektroniki. (Polish)
0 references
Identifiers
RPDS.01.02.02-02-0014/17
0 references