Installation of an Arn+ CLUSTER IONES FUENT to improve the capacity of the photoelectron SPECTROSCOPY Unit (Q3150645)
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Project Q3150645 in Spain
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | Installation of an Arn+ CLUSTER IONES FUENT to improve the capacity of the photoelectron SPECTROSCOPY Unit |
Project Q3150645 in Spain |
Statements
194,428.0 Euro
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243,035.0 Euro
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80.0 percent
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1 January 2018
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31 December 2020
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UNIVERSIDAD DE CADIZ
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36°31'43.28"N, 6°11'24.79"W
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11028
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Se solicita la adquisición de una fuente de iones de clúster de Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) para su incorporación al equipo Kratos Axis Ultra que presta servicio en la Unidad de Espectroscopía de Fotoelectrones de los Servicios Centrales de Investigación Científica y Tecnológica de la Universidad de Cádiz (UEF-UCA). La incorporación de una GCIS reemplazará la fuente de iones Minibeam I, instalada en el equipo desde su adquisición, que se trata de una fuente de iones de muy bajas prestaciones, y que no es capaz de prestar el servicio de calidad que se le demanda a la UEF-UCA. La instalación de la GCIS en el equipo permitirá realizar estudios de perfiles de profundidad, de manera efectiva y con un mínimo daño químico, en relación tanto a cambios de la distribución elemental de las especies que componen las superficies que se van generando con el desbastado iónico, como a cambios en el estado de oxidación y/o entorno químico de los elementos expuestos. En este sentido, el uso de la GCIS permite realizar el desbastado iónico de una amplia variedad de superficies: metales, óxidos, semiconductores, polímeros orgánicos o materiales biológicos. La actualización de la UEF-UCA con la fuente de iones de altas prestaciones permitirá a la unidad ofrecer un mejor servicio, habida cuenta de que el sistema dispone de un accesorio de rotación Zalar, que permitirá igualmente, en combinación con el uso de la GCIS, el decapado homogéneo y con el mínimo impacto, incluso de muestras en polvo (Spanish)
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The acquisition of a Gas Cluster Ion Source (GCIS) to update the Kratos Axis Ultra spectrometer, that provides services in the Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), is requested. The incorporation of a GCIS will replace the Minibeam I ion source, installed in the equipment since its acquisition, and which is low performance source that is not adequate to provide the service with the quality level demanded by the UEF-UCA users. The installation of the GCIS in the equipment will allow it to perform depth profile studies, with high performance, and little chemical damage, avoiding changes in the elemental distribution of the surface species, or changes in the oxidation state and/or chemical environment of the elements. In this sense, the use of the GCIS allows to perform the etching of a wide variety of surfaces: metals, oxides, semiconductors, organic polymers or even biological materials. The update of the UEF-UCA with the high-performance ion source will allow the unit to offer a better service, given that the unit is also equipped with a Zalar rotation accessory, which will also allow, in combination with the use of the GCIS, the homogeneous etching of the surfaces, with the minimum impact, even of powdered samples. (English)
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Nous demandons l’acquisition d’une source d’ions clusters auprès d’Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) en vue de son incorporation dans l’équipe Kratos Axis Ultra qui sert dans l’unité de spectroscopie photoélectronique des services centraux de recherche scientifique et technologique de l’Université de Cadiz (UEF-UCA). L’incorporation d’un GCIS remplacera la source ionique minibeam I, installée dans l’équipement depuis son acquisition, qui est une source d’ions très peu performants et qui n’est pas en mesure de fournir le service de qualité requis par l’UEF-UCA. L’installation du GCIS dans l’équipement permettra d’effectuer des études de profils de profondeur, efficacement et avec des dommages chimiques minimes, tant en ce qui concerne les changements dans la répartition élémentaire des espèces qui composent les surfaces générées par l’oxydation ionique que les changements dans l’état d’oxydation ou l’environnement chimique des éléments exposés. En ce sens, l’utilisation de GCIS permet le rugissement ionique d’une grande variété de surfaces: métaux, oxydes, semi-conducteurs, polymères organiques ou matériaux biologiques. La mise à jour de l’UEF-UCA avec la source d’ions haute performance permettra à l’unité d’offrir un meilleur service, étant donné que le système dispose d’un accessoire de rotation Zalar, qui permettra également, en combinaison avec l’utilisation de GCIS, un décapage homogène et avec un impact minimal, y compris des échantillons de poudre. (French)
2 December 2021
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Puerto Real
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Identifiers
EQC2018-004499-P
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