The development of a new device, the nano-scale reference plate for a system for monitoring surface observations in micro- and nanoscale. (Q81354): Difference between revisions
Jump to navigation
Jump to search
(Created claim: summary (P836): Reference_reference_programme_aids:SA.42799 (2015/X), aid_de_de minimis:§ 42 of the Regulation of the Minister of Infrastructure and Development of 10 July 2015 on the provision of financial assistance by the Polish Agency for Enterprise Development in the framework of the Operational Programme Smart Growth 2014-2020.This project involves the development and testing of a new device, the nano-scale reference plate (for the corrective system for t...) |
(Changed an Item) |
||
Property / programme | |||
Property / programme: Smart growth - PL - ERDF / rank | |||
Normal rank |
Revision as of 12:02, 26 March 2020
Project in Poland financed by DG Regio
Language | Label | Description | Also known as |
---|---|---|---|
English | The development of a new device, the nano-scale reference plate for a system for monitoring surface observations in micro- and nanoscale. |
Project in Poland financed by DG Regio |
Statements
254,991.5 zloty
0 references
368,987.7 zloty
0 references
85.0 percent
0 references
2 January 2018
0 references
30 April 2019
0 references
CORRESCOPY MICHAŁ DYKAS
0 references
Numer_referencyjny_programu_pomocowego: SA.42799(2015/X), pomoc_de_minimis: §42 rozporządzenia Ministra Infrastruktury i Rozwoju z dnia 10 lipca 2015 r. w sprawie udzielania przez Polską Agencję Rozwoju Przedsiębiorczości pomocy finansowej w ramach Programu Operacyjnego Inteligentny Rozwój 2014–2020.Projekt zakłada opracowanie i przebadanie nowego wyrobu - nanokalibracyjnej płytki wzorcowej (dla systemu korelacyjnej obserwacji powierzchni w mikro- i nanoskali oraz optymalizacje systemu korelacyjnej obserwacji do współpracy z opracowanymi próbkami. Finalny produkt będzie miał cechy innowacyjne wyróżniające go od obecnie znanych rozwiązań tj. -funkcjonalność, poprzez uniwersalność płytki wzorcowej użytkownik może zastosować jedną i tą samą płytkę wzorcową w wielu urządzeniach mikroskopowych (wykorzystujących np. światło czy wiązkę elektronową); -zwiększona odporność produktu na czynniki zewnętrzne, poprzez wprowadzoną uniwersalność płytki, musi ona być odporna na wiele czynników zewnętrznych w których będzie używana, np. temperaturę, środki chemiczne, czy działanie promieniowania; -precyzyjność płytki, przy produkcji wykonane zostaną nanomarkery, które pozwalają na znaczące (nawet o rząd wielkości) zwiększenie precyzji ustalania położenia badanego preparatu oraz ulepszoną kalibrację mikroskopów pod kątem obrazowania korelacyjnego; -dodatkowo, wprowadzony będzie także układ nanomarkerów na powierzchni refencyjnej uchwytu systemu korelacyjnej obserwacji, pozwalający znacząco zwiększyć precyzję pozycjonowania próbki, w tym także ilościowo ocenić odchylenie ortogonalności ustawienia uchwytu. -opracowana zostanie procedura wprowadzania nastaw i obliczania współczynników korekcyjnych pozycjonowania próbki. Nowe rozwiązanie może zwiększyć precyzję pozycjonowania próbki kilkukrotnie, a nawet o rząd wielkości. Wprowadzone innowacje będą skutkować znacznym podniesieniem jakości całego systemu k (Polish)
0 references
Reference_reference_programme_aids:SA.42799 (2015/X), aid_de_de minimis:§ 42 of the Regulation of the Minister of Infrastructure and Development of 10 July 2015 on the provision of financial assistance by the Polish Agency for Enterprise Development in the framework of the Operational Programme Smart Growth 2014-2020.This project involves the development and testing of a new device, the nano-scale reference plate (for the corrective system for the observation of areas in micro- and nanoscale, and the optimisation of the system of correlation observation for the cooperation with the samples developed.The final product will have innovative features which distinguish it from today’s known solutions, i.e.The functionality, through the universality of the reference plate, can be used by the user to use one and the same model plate in a number of microscope devices (e.g. light or electron beam);— the increased resilience of the product to external factors, through the introduced universality of the plate, must be resistant to a wide range of external factors in which it will be used, e.g. temperature, chemicals, or radiation;— the precision of the plate, with production of nanomarker, which allows significant (even of the order of size) to increase the precision of the determination of the position of the preparation to be considered and the improved calibration for correlation imaging microscopes;— in addition, a system of nanomarkers will also be put in place at the refractive area of the corrective system, which makes it possible to significantly increase the accuracy of the positioning of the sample, including a quantification of the orthogonal deviation of the handle.A procedure for the introduction and calculation of the correction coefficients of the sample will be drawn up.The new solution may increase the precision of the positioning of the sample several times and even of the order of magnitude.The innovations introduced will lead to a significant improvement in the quality of the system as a whole. (English)
0 references
Identifiers
POIR.02.03.02-18-0019/17
0 references