Q3680279 (Q3680279): Difference between revisions
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| Property / coordinate location | |||||||||||
49°12'0.97"N, 0°20'57.37"W
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Normal rank | |||||||||||
Revision as of 09:44, 18 November 2021
Project Q3680279 in France
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | No label defined |
Project Q3680279 in France |
Statements
278,400.00 Euro
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556,800.0 Euro
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50.0 percent
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1 October 2019
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30 September 2022
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CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
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49°12'0.97"N, 0°20'57.37"W
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14052
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Le laboratoire CRISMAT, en partenariat avec le CIMAP, vise à acquérir un équipement d'ablation laser de grande surface, afin de soutenir ses activités de couches minces, et notamment les activités sur le nouveau conducteur transparent SrVO3. Ces matériaux, les conducteurs transparents, sont nécessaires lorsqu'il faut combiner la transparence à la lumière visible et un contact électrique, ce qui est le cas dans une large gamme d'applications comme les écrans plats ou tactiles, les diodes photoluminescentes ou encore les cellules photovoltaïques. L'oxyde d'indium-étain (ITO), le matériau standard industriel, souffre de la rareté d'un des éléments constituants, l'Indium, ce qui a conduit à une forte activité de recherche pour identifier des conducteurs transparents alternatifs sans Indium. Par ses propriétés comparables à l'ITO, le SrVO3 se propose comme un matériau alternatif, dont son caractère de conducteur transparent a été démontré seulement en 2016.Etant actif dans la recherche utilisant le SrVO3 depuis quelques années, le CRISMAT a concentré ses efforts sur le développement et surtout sur l'intégration de cet oxyde de type pérovskite sur des substrats de bas coût, en partenariat avec le CIMAP. Lors du projet commun Labex EMC3 « COTRA (2017/2018), nous avons pu mettre en évidence l'intérêt technologique de ce matériau et démontrer son intégration sur verre, ce qui fait actuellement sujet d'un dépôt de brevet. Le SrVO3 est également un des sujets de recherche du projet ANR « Polynash (2018 2022), qui vise à intégrer des oxydes complexes sur des substrats bas coût par l'utilisation de nanofeuillets. Nous sommes alors en mesure d'utiliser une large gamme des substrats pour élaborer des couches minces cristallines de ce nouveau conducteur transparent.Néanmoins, il y a encore un verrou technologique important à lever pour envisager le transfert technologique : le dépôt sur grande surface. Notre technique de dépôt, l'ablation laser pulsé (PLD Pulsed laser Deposition) est une des techniques les mieux adaptées au dépôt de couches minces de ce type d'oxydes, mais exige pour les grandes surfaces un équipement adapté permettant le balayage du laser sur des surfaces plus importantes. Un tel équipement nous permettra de proposer des échantillons s'approchant des tailles utilisées dans le monde industriel, favorisant les échanges avec ces acteurs, pour un transfert technologique plus aisé non seulement du SrVO3, mais aussi d'autres matériaux fonctionnels. (French)
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Identifiers
19P03195
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