Installation of an Arn+ CLUSTER IONES FUENT to improve the capacity of the photoelectron SPECTROSCOPY Unit (Q3150645): Difference between revisions
Jump to navigation
Jump to search
(Changed label, description and/or aliases in de, and other parts: Adding German translations) |
(Changed label, description and/or aliases in nl, and other parts: Adding Dutch translations) |
||||||||||||||
| label / nl | label / nl | ||||||||||||||
Installatie van een Arn+ CLUSTER ionen fuent ter verbetering van de capaciteit van de foto-elektron SPECTROSCOPY Unit | |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch) | |||||||||||||||
| Property / summary: Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 December 2021
| |||||||||||||||
Revision as of 11:54, 17 December 2021
Project Q3150645 in Spain
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | Installation of an Arn+ CLUSTER IONES FUENT to improve the capacity of the photoelectron SPECTROSCOPY Unit |
Project Q3150645 in Spain |
Statements
194,428.0 Euro
0 references
243,035.0 Euro
0 references
80.0 percent
0 references
1 January 2018
0 references
31 December 2020
0 references
UNIVERSIDAD DE CADIZ
0 references
36°31'43.28"N, 6°11'24.79"W
0 references
11028
0 references
Se solicita la adquisición de una fuente de iones de clúster de Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) para su incorporación al equipo Kratos Axis Ultra que presta servicio en la Unidad de Espectroscopía de Fotoelectrones de los Servicios Centrales de Investigación Científica y Tecnológica de la Universidad de Cádiz (UEF-UCA). La incorporación de una GCIS reemplazará la fuente de iones Minibeam I, instalada en el equipo desde su adquisición, que se trata de una fuente de iones de muy bajas prestaciones, y que no es capaz de prestar el servicio de calidad que se le demanda a la UEF-UCA. La instalación de la GCIS en el equipo permitirá realizar estudios de perfiles de profundidad, de manera efectiva y con un mínimo daño químico, en relación tanto a cambios de la distribución elemental de las especies que componen las superficies que se van generando con el desbastado iónico, como a cambios en el estado de oxidación y/o entorno químico de los elementos expuestos. En este sentido, el uso de la GCIS permite realizar el desbastado iónico de una amplia variedad de superficies: metales, óxidos, semiconductores, polímeros orgánicos o materiales biológicos. La actualización de la UEF-UCA con la fuente de iones de altas prestaciones permitirá a la unidad ofrecer un mejor servicio, habida cuenta de que el sistema dispone de un accesorio de rotación Zalar, que permitirá igualmente, en combinación con el uso de la GCIS, el decapado homogéneo y con el mínimo impacto, incluso de muestras en polvo (Spanish)
0 references
The acquisition of a Gas Cluster Ion Source (GCIS) to update the Kratos Axis Ultra spectrometer, that provides services in the Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), is requested. The incorporation of a GCIS will replace the Minibeam I ion source, installed in the equipment since its acquisition, and which is low performance source that is not adequate to provide the service with the quality level demanded by the UEF-UCA users. The installation of the GCIS in the equipment will allow it to perform depth profile studies, with high performance, and little chemical damage, avoiding changes in the elemental distribution of the surface species, or changes in the oxidation state and/or chemical environment of the elements. In this sense, the use of the GCIS allows to perform the etching of a wide variety of surfaces: metals, oxides, semiconductors, organic polymers or even biological materials. The update of the UEF-UCA with the high-performance ion source will allow the unit to offer a better service, given that the unit is also equipped with a Zalar rotation accessory, which will also allow, in combination with the use of the GCIS, the homogeneous etching of the surfaces, with the minimum impact, even of powdered samples. (English)
0 references
Nous demandons l’acquisition d’une source d’ions clusters auprès d’Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) en vue de son incorporation dans l’équipe Kratos Axis Ultra qui sert dans l’unité de spectroscopie photoélectronique des services centraux de recherche scientifique et technologique de l’Université de Cadiz (UEF-UCA). L’incorporation d’un GCIS remplacera la source ionique minibeam I, installée dans l’équipement depuis son acquisition, qui est une source d’ions très peu performants et qui n’est pas en mesure de fournir le service de qualité requis par l’UEF-UCA. L’installation du GCIS dans l’équipement permettra d’effectuer des études de profils de profondeur, efficacement et avec des dommages chimiques minimes, tant en ce qui concerne les changements dans la répartition élémentaire des espèces qui composent les surfaces générées par l’oxydation ionique que les changements dans l’état d’oxydation ou l’environnement chimique des éléments exposés. En ce sens, l’utilisation de GCIS permet le rugissement ionique d’une grande variété de surfaces: métaux, oxydes, semi-conducteurs, polymères organiques ou matériaux biologiques. La mise à jour de l’UEF-UCA avec la source d’ions haute performance permettra à l’unité d’offrir un meilleur service, étant donné que le système dispose d’un accessoire de rotation Zalar, qui permettra également, en combinaison avec l’utilisation de GCIS, un décapage homogène et avec un impact minimal, y compris des échantillons de poudre. (French)
2 December 2021
0 references
Wir fordern die Übernahme einer Quelle von Clusterionen von Ar (GCIS, Gascluster Ion Source) zur Aufnahme in das Kratos Axis Ultra Team, das in der Photoelectron Spectroscopy Unit der Central Scientific and Technological Research Services der University of Cadiz (UEF-UCA) dient. Der Einbau eines GCIS ersetzt die Ionenquelle Minibeam I, die seit ihrer Übernahme in die Anlage eingebaut ist, die eine Quelle für sehr niedrige Ionen ist und die nicht in der Lage ist, den von UEF-UCA geforderten Qualitätsdienst zu erbringen. Der Einbau des GCIS in die Ausrüstung ermöglicht es, Tiefenprofile effektiv und mit minimalen chemischen Schäden zu untersuchen, sowohl in Bezug auf Veränderungen der Elementverteilung der Art, die die mit dem Ionenrauchen erzeugten Flächen bilden, als auch zu Veränderungen im Zustand der Oxidation oder der chemischen Umgebung der exponierten Elemente. In diesem Sinne ermöglicht der Einsatz von GCIS das Ionenrauschen einer Vielzahl von Oberflächen: Metalle, Oxiden, Halbleiter, organische Polymere oder biologische Materialien. Die Aktualisierung des UEF-UCA mit der leistungsstarken Ionenquelle ermöglicht es dem Gerät, einen besseren Service zu bieten, da das System über ein Zalar-Rotationszubehör verfügt, das in Kombination mit der Verwendung von GCIS auch homogene Beizen und mit minimalem Aufprall, einschließlich Pulverproben, ermöglicht. (German)
9 December 2021
0 references
Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch)
17 December 2021
0 references
Puerto Real
0 references
Identifiers
EQC2018-004499-P
0 references