Installation of an Arn+ CLUSTER IONES FUENT to improve the capacity of the photoelectron SPECTROSCOPY Unit (Q3150645): Difference between revisions
Jump to navigation
Jump to search
(Created claim: summary (P836): Nous demandons l’acquisition d’une source d’ions clusters auprès d’Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) en vue de son incorporation dans l’équipe Kratos Axis Ultra qui sert dans l’unité de spectroscopie photoélectronique des services centraux de recherche scientifique et technologique de l’Université de Cadiz (UEF-UCA). L’incorporation d’un GCIS remplacera la source ionique minibeam I, installée dans l’équipement depuis son acquisition, qui est une...) |
(Changed label, description and/or aliases in pt) |
||||||||||||||
| (10 intermediate revisions by 2 users not shown) | |||||||||||||||
| label / de | label / de | ||||||||||||||
Installation einer Arn+ CLUSTER Ionensicherung zur Verbesserung der Leistungsfähigkeit der Photoelektronen SPECTROSCOPY-Einheit | |||||||||||||||
| label / nl | label / nl | ||||||||||||||
Installatie van een Arn+ CLUSTER ionen fuent ter verbetering van de capaciteit van de foto-elektron SPECTROSCOPY Unit | |||||||||||||||
| label / it | label / it | ||||||||||||||
Installazione di un Arn+ CLUSTER iones fuent per migliorare la capacità dell'unità fotoelectron SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / el | label / el | ||||||||||||||
Εγκατάσταση ενός Arn+ CLUSTER iones fuent για τη βελτίωση της χωρητικότητας της μονάδας φωτοηλεκτρονίων SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / da | label / da | ||||||||||||||
Installation af en Arn+ CLUSTER ioner fuent for at forbedre kapaciteten af fotoelektron SPECTROSCOPY Unit | |||||||||||||||
| label / fi | label / fi | ||||||||||||||
Asennus Arn + CLUSTER ionit turhaan parantaa valoelektroni SPECTROSCOPY-yksikön kapasiteettia | |||||||||||||||
| label / mt | label / mt | ||||||||||||||
Installazzjoni ta ‘arn+ CLUSTER iones fuent biex tittejjeb il-kapaċità tal-photoelectron SPECTROSCOPY Unit | |||||||||||||||
| label / lv | label / lv | ||||||||||||||
Arn+ CLUSTER jonu uzstādīšana, lai uzlabotu fotoelektronu SPECTROSCOPY vienības jaudu | |||||||||||||||
| label / sk | label / sk | ||||||||||||||
Inštalácia Arn+ CLUSTER iones fuent pre zlepšenie kapacity fotoelektrónu SPECTROSCOPY jednotky | |||||||||||||||
| label / ga | label / ga | ||||||||||||||
Suiteáil Arn+ CLUSTER Iones Fuent chun feabhas a chur ar chumas an Aonaid photoelectron SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / cs | label / cs | ||||||||||||||
Instalace iontů Arn+ CLUSTER fuent ke zlepšení kapacity fotoelektronové jednotky SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / pt | label / pt | ||||||||||||||
Instalação de um Arn+ CLUSTER IONES FUENT para melhorar a capacidade da unidade fotoeléctrica SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / et | label / et | ||||||||||||||
Arn+ CLUSTER ioonide paigaldamine, et parandada fotoelektroonilise SPECTROSCOPY üksuse võimsust | |||||||||||||||
| label / hu | label / hu | ||||||||||||||
Arn+ CLUSTER ionok beszerelése a SPECTROSCOPY fotoelektron kapacitásának növelése érdekében | |||||||||||||||
| label / bg | label / bg | ||||||||||||||
Монтаж на Arn+ CLUSTER йони фуент за подобряване на капацитета на фотоелектронното устройство SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / lt | label / lt | ||||||||||||||
Įrengimas Arn+ CLUSTER jonų fuent pagerinti fotoelektronų SPECTROSCOPY vieneto talpa | |||||||||||||||
| label / hr | label / hr | ||||||||||||||
Instalacija Arn+ CLUSTER iones fuent za poboljšanje kapaciteta fotoelektrona SPECTROSCOPY Jedinica | |||||||||||||||
| label / sv | label / sv | ||||||||||||||
Installation av en Arn+ CLUSTER iones fuent för att förbättra kapaciteten hos fotoelektron SPECTROSCOPY-enheten | |||||||||||||||
| label / ro | label / ro | ||||||||||||||
Instalarea unui ioni Arn+ CLUSTER fuent pentru a îmbunătăți capacitatea unității fotoelectron SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / sl | label / sl | ||||||||||||||
Namestitev Arn+ CLUSTER ionov fuent za izboljšanje zmogljivosti fotoelektronske enote SPECTROSCOPY | |||||||||||||||
| label / pl | label / pl | ||||||||||||||
Instalacja iones Arn+ CLUSTER w celu poprawy wydajności fotoelektronu SPECTROSCOPY Unit | |||||||||||||||
| description / bg | description / bg | ||||||||||||||
Проект Q3150645 в Испания | |||||||||||||||
| description / hr | description / hr | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 u Španjolskoj | |||||||||||||||
| description / hu | description / hu | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 Spanyolországban | |||||||||||||||
| description / cs | description / cs | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 ve Španělsku | |||||||||||||||
| description / da | description / da | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 i Spanien | |||||||||||||||
| description / nl | description / nl | ||||||||||||||
Project Q3150645 in Spanje | |||||||||||||||
| description / et | description / et | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 Hispaanias | |||||||||||||||
| description / fi | description / fi | ||||||||||||||
Projekti Q3150645 Espanjassa | |||||||||||||||
| description / fr | description / fr | ||||||||||||||
Projet Q3150645 en Espagne | |||||||||||||||
| description / de | description / de | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 in Spanien | |||||||||||||||
| description / el | description / el | ||||||||||||||
Έργο Q3150645 στην Ισπανία | |||||||||||||||
| description / ga | description / ga | ||||||||||||||
Tionscadal Q3150645 sa Spáinn | |||||||||||||||
| description / it | description / it | ||||||||||||||
Progetto Q3150645 in Spagna | |||||||||||||||
| description / lv | description / lv | ||||||||||||||
Projekts Q3150645 Spānijā | |||||||||||||||
| description / lt | description / lt | ||||||||||||||
Projektas Q3150645 Ispanijoje | |||||||||||||||
| description / mt | description / mt | ||||||||||||||
Proġett Q3150645 fi Spanja | |||||||||||||||
| description / pl | description / pl | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 w Hiszpanii | |||||||||||||||
| description / pt | description / pt | ||||||||||||||
Projeto Q3150645 na Espanha | |||||||||||||||
| description / ro | description / ro | ||||||||||||||
Proiectul Q3150645 în Spania | |||||||||||||||
| description / sk | description / sk | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 v Španielsku | |||||||||||||||
| description / sl | description / sl | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 v Španiji | |||||||||||||||
| description / es | description / es | ||||||||||||||
Proyecto Q3150645 en España | |||||||||||||||
| description / sv | description / sv | ||||||||||||||
Projekt Q3150645 i Spanien | |||||||||||||||
| Property / budget | |||||||||||||||
| |||||||||||||||
| Property / budget: 243,035.0 Euro / rank | |||||||||||||||
| Property / co-financing rate | |||||||||||||||
| |||||||||||||||
| Property / co-financing rate: 80.0 percent / rank | |||||||||||||||
| Property / EU contribution | |||||||||||||||
| |||||||||||||||
| Property / EU contribution: 194,428.0 Euro / rank | |||||||||||||||
| Property / end time | |||||||||||||||
| |||||||||||||||
| Property / end time: 31 December 2020 / rank | |||||||||||||||
| Property / summary: The acquisition of a Gas Cluster Ion Source (GCIS) to update the Kratos Axis Ultra spectrometer, that provides services in the Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), is requested. The incorporation of a GCIS will replace the Minibeam I ion source, installed in the equipment since its acquisition, and which is low performance source that is not adequate to provide the service with the quality level demanded by the UEF-UCA users. The installation of the GCIS in the equipment will allow it to perform depth profile studies, with high performance, and little chemical damage, avoiding changes in the elemental distribution of the surface species, or changes in the oxidation state and/or chemical environment of the elements. In this sense, the use of the GCIS allows to perform the etching of a wide variety of surfaces: metals, oxides, semiconductors, organic polymers or even biological materials. The update of the UEF-UCA with the high-performance ion source will allow the unit to offer a better service, given that the unit is also equipped with a Zalar rotation accessory, which will also allow, in combination with the use of the GCIS, the homogeneous etching of the surfaces, with the minimum impact, even of powdered samples. (English) / qualifier | |||||||||||||||
readability score: 0.5109417934300942
| |||||||||||||||
| Property / postal code | |||||||||||||||
| Property / postal code: 11028 / rank | |||||||||||||||
| Property / location (string) | |||||||||||||||
| Property / location (string): Puerto Real / rank | |||||||||||||||
| Property / coordinate location | |||||||||||||||
| |||||||||||||||
| Property / coordinate location: 36°31'43.28"N, 6°11'24.79"W / rank | |||||||||||||||
| Property / contained in NUTS | |||||||||||||||
| Property / contained in NUTS: Cádiz Province / rank | |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Wir fordern die Übernahme einer Quelle von Clusterionen von Ar (GCIS, Gascluster Ion Source) zur Aufnahme in das Kratos Axis Ultra Team, das in der Photoelectron Spectroscopy Unit der Central Scientific and Technological Research Services der University of Cadiz (UEF-UCA) dient. Der Einbau eines GCIS ersetzt die Ionenquelle Minibeam I, die seit ihrer Übernahme in die Anlage eingebaut ist, die eine Quelle für sehr niedrige Ionen ist und die nicht in der Lage ist, den von UEF-UCA geforderten Qualitätsdienst zu erbringen. Der Einbau des GCIS in die Ausrüstung ermöglicht es, Tiefenprofile effektiv und mit minimalen chemischen Schäden zu untersuchen, sowohl in Bezug auf Veränderungen der Elementverteilung der Art, die die mit dem Ionenrauchen erzeugten Flächen bilden, als auch zu Veränderungen im Zustand der Oxidation oder der chemischen Umgebung der exponierten Elemente. In diesem Sinne ermöglicht der Einsatz von GCIS das Ionenrauschen einer Vielzahl von Oberflächen: Metalle, Oxiden, Halbleiter, organische Polymere oder biologische Materialien. Die Aktualisierung des UEF-UCA mit der leistungsstarken Ionenquelle ermöglicht es dem Gerät, einen besseren Service zu bieten, da das System über ein Zalar-Rotationszubehör verfügt, das in Kombination mit der Verwendung von GCIS auch homogene Beizen und mit minimalem Aufprall, einschließlich Pulverproben, ermöglicht. (German) | |||||||||||||||
| Property / summary: Wir fordern die Übernahme einer Quelle von Clusterionen von Ar (GCIS, Gascluster Ion Source) zur Aufnahme in das Kratos Axis Ultra Team, das in der Photoelectron Spectroscopy Unit der Central Scientific and Technological Research Services der University of Cadiz (UEF-UCA) dient. Der Einbau eines GCIS ersetzt die Ionenquelle Minibeam I, die seit ihrer Übernahme in die Anlage eingebaut ist, die eine Quelle für sehr niedrige Ionen ist und die nicht in der Lage ist, den von UEF-UCA geforderten Qualitätsdienst zu erbringen. Der Einbau des GCIS in die Ausrüstung ermöglicht es, Tiefenprofile effektiv und mit minimalen chemischen Schäden zu untersuchen, sowohl in Bezug auf Veränderungen der Elementverteilung der Art, die die mit dem Ionenrauchen erzeugten Flächen bilden, als auch zu Veränderungen im Zustand der Oxidation oder der chemischen Umgebung der exponierten Elemente. In diesem Sinne ermöglicht der Einsatz von GCIS das Ionenrauschen einer Vielzahl von Oberflächen: Metalle, Oxiden, Halbleiter, organische Polymere oder biologische Materialien. Die Aktualisierung des UEF-UCA mit der leistungsstarken Ionenquelle ermöglicht es dem Gerät, einen besseren Service zu bieten, da das System über ein Zalar-Rotationszubehör verfügt, das in Kombination mit der Verwendung von GCIS auch homogene Beizen und mit minimalem Aufprall, einschließlich Pulverproben, ermöglicht. (German) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Wir fordern die Übernahme einer Quelle von Clusterionen von Ar (GCIS, Gascluster Ion Source) zur Aufnahme in das Kratos Axis Ultra Team, das in der Photoelectron Spectroscopy Unit der Central Scientific and Technological Research Services der University of Cadiz (UEF-UCA) dient. Der Einbau eines GCIS ersetzt die Ionenquelle Minibeam I, die seit ihrer Übernahme in die Anlage eingebaut ist, die eine Quelle für sehr niedrige Ionen ist und die nicht in der Lage ist, den von UEF-UCA geforderten Qualitätsdienst zu erbringen. Der Einbau des GCIS in die Ausrüstung ermöglicht es, Tiefenprofile effektiv und mit minimalen chemischen Schäden zu untersuchen, sowohl in Bezug auf Veränderungen der Elementverteilung der Art, die die mit dem Ionenrauchen erzeugten Flächen bilden, als auch zu Veränderungen im Zustand der Oxidation oder der chemischen Umgebung der exponierten Elemente. In diesem Sinne ermöglicht der Einsatz von GCIS das Ionenrauschen einer Vielzahl von Oberflächen: Metalle, Oxiden, Halbleiter, organische Polymere oder biologische Materialien. Die Aktualisierung des UEF-UCA mit der leistungsstarken Ionenquelle ermöglicht es dem Gerät, einen besseren Service zu bieten, da das System über ein Zalar-Rotationszubehör verfügt, das in Kombination mit der Verwendung von GCIS auch homogene Beizen und mit minimalem Aufprall, einschließlich Pulverproben, ermöglicht. (German) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 9 December 2021
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch) | |||||||||||||||
| Property / summary: Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 December 2021
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Chiediamo l'acquisizione di una fonte di ioni cluster da Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) per essere incorporata nel team Kratos Axis Ultra che serve nell'Unità spettroscopia fotoelettronica dei Servizi Centrali di Ricerca Scientifica e Tecnologica dell'Università di Cadice (UEF-UCA). L'incorporazione di un GCIS sostituirà la sorgente ionica minibeam I, installata nell'apparecchiatura sin dalla sua acquisizione, che è una fonte di ioni a bassissime prestazioni e che non è in grado di fornire il servizio di qualità richiesto da UEF-UCA. L'installazione del GCIS nell'apparecchiatura consentirà di effettuare studi di profili di profondità, in modo efficace e con minimi danni chimici, sia in relazione alle variazioni nella distribuzione elementare delle specie che compongono le superfici generate con la sgrossatura ionica, sia ai cambiamenti nello stato di ossidazione o ambiente chimico degli elementi esposti. In questo senso, l'uso del GCIS consente la sgrossatura ionica di un'ampia varietà di superfici: metalli, ossidi, semiconduttori, polimeri organici o materiali biologici. L'aggiornamento dell'UEF-UCA con la sorgente ionica ad alte prestazioni consentirà all'unità di offrire un servizio migliore, dato che il sistema ha un accessorio di rotazione Zalar, che consentirà anche, in combinazione con l'uso di GCIS, decapaggio omogeneo e con impatto minimo, inclusi campioni di polvere. (Italian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Chiediamo l'acquisizione di una fonte di ioni cluster da Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) per essere incorporata nel team Kratos Axis Ultra che serve nell'Unità spettroscopia fotoelettronica dei Servizi Centrali di Ricerca Scientifica e Tecnologica dell'Università di Cadice (UEF-UCA). L'incorporazione di un GCIS sostituirà la sorgente ionica minibeam I, installata nell'apparecchiatura sin dalla sua acquisizione, che è una fonte di ioni a bassissime prestazioni e che non è in grado di fornire il servizio di qualità richiesto da UEF-UCA. L'installazione del GCIS nell'apparecchiatura consentirà di effettuare studi di profili di profondità, in modo efficace e con minimi danni chimici, sia in relazione alle variazioni nella distribuzione elementare delle specie che compongono le superfici generate con la sgrossatura ionica, sia ai cambiamenti nello stato di ossidazione o ambiente chimico degli elementi esposti. In questo senso, l'uso del GCIS consente la sgrossatura ionica di un'ampia varietà di superfici: metalli, ossidi, semiconduttori, polimeri organici o materiali biologici. L'aggiornamento dell'UEF-UCA con la sorgente ionica ad alte prestazioni consentirà all'unità di offrire un servizio migliore, dato che il sistema ha un accessorio di rotazione Zalar, che consentirà anche, in combinazione con l'uso di GCIS, decapaggio omogeneo e con impatto minimo, inclusi campioni di polvere. (Italian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Chiediamo l'acquisizione di una fonte di ioni cluster da Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) per essere incorporata nel team Kratos Axis Ultra che serve nell'Unità spettroscopia fotoelettronica dei Servizi Centrali di Ricerca Scientifica e Tecnologica dell'Università di Cadice (UEF-UCA). L'incorporazione di un GCIS sostituirà la sorgente ionica minibeam I, installata nell'apparecchiatura sin dalla sua acquisizione, che è una fonte di ioni a bassissime prestazioni e che non è in grado di fornire il servizio di qualità richiesto da UEF-UCA. L'installazione del GCIS nell'apparecchiatura consentirà di effettuare studi di profili di profondità, in modo efficace e con minimi danni chimici, sia in relazione alle variazioni nella distribuzione elementare delle specie che compongono le superfici generate con la sgrossatura ionica, sia ai cambiamenti nello stato di ossidazione o ambiente chimico degli elementi esposti. In questo senso, l'uso del GCIS consente la sgrossatura ionica di un'ampia varietà di superfici: metalli, ossidi, semiconduttori, polimeri organici o materiali biologici. L'aggiornamento dell'UEF-UCA con la sorgente ionica ad alte prestazioni consentirà all'unità di offrire un servizio migliore, dato che il sistema ha un accessorio di rotazione Zalar, che consentirà anche, in combinazione con l'uso di GCIS, decapaggio omogeneo e con impatto minimo, inclusi campioni di polvere. (Italian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 16 January 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Ζητείται η απόκτηση μιας πηγής ιόντων συστάδων αερίου (GCIS) για την επικαιροποίηση του φασματόμετρου του άξονα Kratos Ultra, που παρέχει υπηρεσίες στη Μονάδα Φασματοσκοπίας Φωτοηλεκτρονίων της Κεντρικής Επιστημονικής και Τεχνολογικής Έρευνας του Πανεπιστημίου του Cádiz (UEF-UCA). Η ενσωμάτωση ενός GCIS θα αντικαταστήσει την πηγή ιόντων Minibeam I, η οποία είναι εγκατεστημένη στον εξοπλισμό από την αγορά του, και η οποία είναι πηγή χαμηλής απόδοσης που δεν είναι επαρκής για την παροχή της υπηρεσίας με το επίπεδο ποιότητας που απαιτούν οι χρήστες UEF-UCA. Η εγκατάσταση του GCIS στον εξοπλισμό θα του επιτρέψει να διεξάγει μελέτες προφίλ βάθους, με υψηλές επιδόσεις και ελάχιστες χημικές βλάβες, αποφεύγοντας αλλαγές στη στοιχειώδη κατανομή των επιφανειακών ειδών ή αλλαγές στην κατάσταση οξείδωσης ή/και στο χημικό περιβάλλον των στοιχείων. Υπό την έννοια αυτή, η χρήση του GCIS επιτρέπει την εκτέλεση της χάραξης μιας ευρείας ποικιλίας επιφανειών: μέταλλα, οξείδια, ημιαγωγοί, οργανικά πολυμερή ή ακόμη και βιολογικά υλικά. Η επικαιροποίηση του UEF-UCA με την πηγή ιόντων υψηλής απόδοσης θα επιτρέψει στη μονάδα να προσφέρει καλύτερη εξυπηρέτηση, δεδομένου ότι η μονάδα είναι επίσης εξοπλισμένη με εξάρτημα περιστροφής Zalar, το οποίο θα επιτρέψει επίσης, σε συνδυασμό με τη χρήση του GCIS, την ομοιογενή χάραξη των επιφανειών, με την ελάχιστη πρόσκρουση, ακόμη και των κονιοποιημένων δειγμάτων. (Greek) | |||||||||||||||
| Property / summary: Ζητείται η απόκτηση μιας πηγής ιόντων συστάδων αερίου (GCIS) για την επικαιροποίηση του φασματόμετρου του άξονα Kratos Ultra, που παρέχει υπηρεσίες στη Μονάδα Φασματοσκοπίας Φωτοηλεκτρονίων της Κεντρικής Επιστημονικής και Τεχνολογικής Έρευνας του Πανεπιστημίου του Cádiz (UEF-UCA). Η ενσωμάτωση ενός GCIS θα αντικαταστήσει την πηγή ιόντων Minibeam I, η οποία είναι εγκατεστημένη στον εξοπλισμό από την αγορά του, και η οποία είναι πηγή χαμηλής απόδοσης που δεν είναι επαρκής για την παροχή της υπηρεσίας με το επίπεδο ποιότητας που απαιτούν οι χρήστες UEF-UCA. Η εγκατάσταση του GCIS στον εξοπλισμό θα του επιτρέψει να διεξάγει μελέτες προφίλ βάθους, με υψηλές επιδόσεις και ελάχιστες χημικές βλάβες, αποφεύγοντας αλλαγές στη στοιχειώδη κατανομή των επιφανειακών ειδών ή αλλαγές στην κατάσταση οξείδωσης ή/και στο χημικό περιβάλλον των στοιχείων. Υπό την έννοια αυτή, η χρήση του GCIS επιτρέπει την εκτέλεση της χάραξης μιας ευρείας ποικιλίας επιφανειών: μέταλλα, οξείδια, ημιαγωγοί, οργανικά πολυμερή ή ακόμη και βιολογικά υλικά. Η επικαιροποίηση του UEF-UCA με την πηγή ιόντων υψηλής απόδοσης θα επιτρέψει στη μονάδα να προσφέρει καλύτερη εξυπηρέτηση, δεδομένου ότι η μονάδα είναι επίσης εξοπλισμένη με εξάρτημα περιστροφής Zalar, το οποίο θα επιτρέψει επίσης, σε συνδυασμό με τη χρήση του GCIS, την ομοιογενή χάραξη των επιφανειών, με την ελάχιστη πρόσκρουση, ακόμη και των κονιοποιημένων δειγμάτων. (Greek) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Ζητείται η απόκτηση μιας πηγής ιόντων συστάδων αερίου (GCIS) για την επικαιροποίηση του φασματόμετρου του άξονα Kratos Ultra, που παρέχει υπηρεσίες στη Μονάδα Φασματοσκοπίας Φωτοηλεκτρονίων της Κεντρικής Επιστημονικής και Τεχνολογικής Έρευνας του Πανεπιστημίου του Cádiz (UEF-UCA). Η ενσωμάτωση ενός GCIS θα αντικαταστήσει την πηγή ιόντων Minibeam I, η οποία είναι εγκατεστημένη στον εξοπλισμό από την αγορά του, και η οποία είναι πηγή χαμηλής απόδοσης που δεν είναι επαρκής για την παροχή της υπηρεσίας με το επίπεδο ποιότητας που απαιτούν οι χρήστες UEF-UCA. Η εγκατάσταση του GCIS στον εξοπλισμό θα του επιτρέψει να διεξάγει μελέτες προφίλ βάθους, με υψηλές επιδόσεις και ελάχιστες χημικές βλάβες, αποφεύγοντας αλλαγές στη στοιχειώδη κατανομή των επιφανειακών ειδών ή αλλαγές στην κατάσταση οξείδωσης ή/και στο χημικό περιβάλλον των στοιχείων. Υπό την έννοια αυτή, η χρήση του GCIS επιτρέπει την εκτέλεση της χάραξης μιας ευρείας ποικιλίας επιφανειών: μέταλλα, οξείδια, ημιαγωγοί, οργανικά πολυμερή ή ακόμη και βιολογικά υλικά. Η επικαιροποίηση του UEF-UCA με την πηγή ιόντων υψηλής απόδοσης θα επιτρέψει στη μονάδα να προσφέρει καλύτερη εξυπηρέτηση, δεδομένου ότι η μονάδα είναι επίσης εξοπλισμένη με εξάρτημα περιστροφής Zalar, το οποίο θα επιτρέψει επίσης, σε συνδυασμό με τη χρήση του GCIS, την ομοιογενή χάραξη των επιφανειών, με την ελάχιστη πρόσκρουση, ακόμη και των κονιοποιημένων δειγμάτων. (Greek) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Køb af en Gas Cluster Ion Source (GCIS) til at opdatere Kratos Axis Ultra spektrometer, der leverer tjenester i Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), anmodes om. Inkorporeringen af en GCIS vil erstatte Minibeam I-ion-kilden, der er installeret i udstyret siden erhvervelsen, og som er en kilde med lav ydeevne, som ikke er tilstrækkelig til at levere tjenesten med det kvalitetsniveau, som UEF-UCA-brugerne kræver. Installationen af GCIS i udstyret vil gøre det muligt at udføre dybdeprofil undersøgelser, med høj ydeevne, og lidt kemisk skade, undgå ændringer i den elementære fordeling af overfladearter, eller ændringer i oxidation tilstand og/eller kemiske miljø af elementerne. I denne forstand giver brugen af GCIS mulighed for at udføre ætsning af en bred vifte af overflader: metaller, oxider, halvledere, organiske polymerer eller endog biologiske materialer. Opdateringen af UEF-UCA med den højtydende ionkilde vil gøre det muligt for enheden at tilbyde en bedre service, da enheden også er udstyret med et Zalar rotationstilbehør, som i kombination med brugen af GCIS også vil give mulighed for en homogen ætsning af overfladerne, med minimal indvirkning, selv af pulveriserede prøver. (Danish) | |||||||||||||||
| Property / summary: Køb af en Gas Cluster Ion Source (GCIS) til at opdatere Kratos Axis Ultra spektrometer, der leverer tjenester i Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), anmodes om. Inkorporeringen af en GCIS vil erstatte Minibeam I-ion-kilden, der er installeret i udstyret siden erhvervelsen, og som er en kilde med lav ydeevne, som ikke er tilstrækkelig til at levere tjenesten med det kvalitetsniveau, som UEF-UCA-brugerne kræver. Installationen af GCIS i udstyret vil gøre det muligt at udføre dybdeprofil undersøgelser, med høj ydeevne, og lidt kemisk skade, undgå ændringer i den elementære fordeling af overfladearter, eller ændringer i oxidation tilstand og/eller kemiske miljø af elementerne. I denne forstand giver brugen af GCIS mulighed for at udføre ætsning af en bred vifte af overflader: metaller, oxider, halvledere, organiske polymerer eller endog biologiske materialer. Opdateringen af UEF-UCA med den højtydende ionkilde vil gøre det muligt for enheden at tilbyde en bedre service, da enheden også er udstyret med et Zalar rotationstilbehør, som i kombination med brugen af GCIS også vil give mulighed for en homogen ætsning af overfladerne, med minimal indvirkning, selv af pulveriserede prøver. (Danish) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Køb af en Gas Cluster Ion Source (GCIS) til at opdatere Kratos Axis Ultra spektrometer, der leverer tjenester i Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), anmodes om. Inkorporeringen af en GCIS vil erstatte Minibeam I-ion-kilden, der er installeret i udstyret siden erhvervelsen, og som er en kilde med lav ydeevne, som ikke er tilstrækkelig til at levere tjenesten med det kvalitetsniveau, som UEF-UCA-brugerne kræver. Installationen af GCIS i udstyret vil gøre det muligt at udføre dybdeprofil undersøgelser, med høj ydeevne, og lidt kemisk skade, undgå ændringer i den elementære fordeling af overfladearter, eller ændringer i oxidation tilstand og/eller kemiske miljø af elementerne. I denne forstand giver brugen af GCIS mulighed for at udføre ætsning af en bred vifte af overflader: metaller, oxider, halvledere, organiske polymerer eller endog biologiske materialer. Opdateringen af UEF-UCA med den højtydende ionkilde vil gøre det muligt for enheden at tilbyde en bedre service, da enheden også er udstyret med et Zalar rotationstilbehør, som i kombination med brugen af GCIS også vil give mulighed for en homogen ætsning af overfladerne, med minimal indvirkning, selv af pulveriserede prøver. (Danish) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Pyydetään hankkimaan kaasuklusteri-ionilähde (GCIS) päivittämään Kratos Axis Ultra -spektrometri, joka tarjoaa palveluja Cádizin yliopiston (UEF-UCA) tiede- ja teknologiatutkimuspalvelujen (UEF-UCA) keskitetyn tiede- ja teknologiatutkimuksen yksikön Photoelectron Spectroscopy Unit -yksikössä. GCIS-järjestelmän käyttöönotto korvaa Minibeam I -ionilähteen, joka on asennettu laitteisiin sen hankinnan jälkeen ja joka on heikko suorituskykyinen lähde, joka ei riitä tarjoamaan palvelua UEF-UCA:n käyttäjien vaatiman laatutason mukaisesti. GCIS: n asentaminen laitteisiin mahdollistaa syvyysprofiilin tutkimukset, joilla on korkea suorituskyky, ja vähäiset kemialliset vauriot välttäen pintalajin alkuainejakauman muutoksia tai alkuaineiden hapettumistilassa ja/tai kemiallisessa ympäristössä tapahtuvia muutoksia. Tässä mielessä GCIS: n käyttö mahdollistaa useiden eri pintojen syövytyksen: metallit, oksidit, puolijohteet, orgaaniset polymeerit tai jopa biologiset materiaalit. UEF-UCA:n päivittäminen korkean suorituskyvyn ionilähteellä mahdollistaa sen, että yksikkö voi tarjota parempaa palvelua, koska yksikössä on myös Zalar-kiertolisälaite, joka mahdollistaa GCIS:n käytön lisäksi myös pintojen homogeenisen etsauksen, jolla on mahdollisimman vähäinen vaikutus, jopa jauhettujen näytteiden kanssa. (Finnish) | |||||||||||||||
| Property / summary: Pyydetään hankkimaan kaasuklusteri-ionilähde (GCIS) päivittämään Kratos Axis Ultra -spektrometri, joka tarjoaa palveluja Cádizin yliopiston (UEF-UCA) tiede- ja teknologiatutkimuspalvelujen (UEF-UCA) keskitetyn tiede- ja teknologiatutkimuksen yksikön Photoelectron Spectroscopy Unit -yksikössä. GCIS-järjestelmän käyttöönotto korvaa Minibeam I -ionilähteen, joka on asennettu laitteisiin sen hankinnan jälkeen ja joka on heikko suorituskykyinen lähde, joka ei riitä tarjoamaan palvelua UEF-UCA:n käyttäjien vaatiman laatutason mukaisesti. GCIS: n asentaminen laitteisiin mahdollistaa syvyysprofiilin tutkimukset, joilla on korkea suorituskyky, ja vähäiset kemialliset vauriot välttäen pintalajin alkuainejakauman muutoksia tai alkuaineiden hapettumistilassa ja/tai kemiallisessa ympäristössä tapahtuvia muutoksia. Tässä mielessä GCIS: n käyttö mahdollistaa useiden eri pintojen syövytyksen: metallit, oksidit, puolijohteet, orgaaniset polymeerit tai jopa biologiset materiaalit. UEF-UCA:n päivittäminen korkean suorituskyvyn ionilähteellä mahdollistaa sen, että yksikkö voi tarjota parempaa palvelua, koska yksikössä on myös Zalar-kiertolisälaite, joka mahdollistaa GCIS:n käytön lisäksi myös pintojen homogeenisen etsauksen, jolla on mahdollisimman vähäinen vaikutus, jopa jauhettujen näytteiden kanssa. (Finnish) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Pyydetään hankkimaan kaasuklusteri-ionilähde (GCIS) päivittämään Kratos Axis Ultra -spektrometri, joka tarjoaa palveluja Cádizin yliopiston (UEF-UCA) tiede- ja teknologiatutkimuspalvelujen (UEF-UCA) keskitetyn tiede- ja teknologiatutkimuksen yksikön Photoelectron Spectroscopy Unit -yksikössä. GCIS-järjestelmän käyttöönotto korvaa Minibeam I -ionilähteen, joka on asennettu laitteisiin sen hankinnan jälkeen ja joka on heikko suorituskykyinen lähde, joka ei riitä tarjoamaan palvelua UEF-UCA:n käyttäjien vaatiman laatutason mukaisesti. GCIS: n asentaminen laitteisiin mahdollistaa syvyysprofiilin tutkimukset, joilla on korkea suorituskyky, ja vähäiset kemialliset vauriot välttäen pintalajin alkuainejakauman muutoksia tai alkuaineiden hapettumistilassa ja/tai kemiallisessa ympäristössä tapahtuvia muutoksia. Tässä mielessä GCIS: n käyttö mahdollistaa useiden eri pintojen syövytyksen: metallit, oksidit, puolijohteet, orgaaniset polymeerit tai jopa biologiset materiaalit. UEF-UCA:n päivittäminen korkean suorituskyvyn ionilähteellä mahdollistaa sen, että yksikkö voi tarjota parempaa palvelua, koska yksikössä on myös Zalar-kiertolisälaite, joka mahdollistaa GCIS:n käytön lisäksi myös pintojen homogeenisen etsauksen, jolla on mahdollisimman vähäinen vaikutus, jopa jauhettujen näytteiden kanssa. (Finnish) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
L-akkwist ta’ Sors Ion Cluster tal-Gass (GCIS) biex jaġġorna l-Kratos Axis Ultra spettrometru, li jipprovdi servizzi fl-Unità tal-Ispettroskopija Photoelectron tas-Servizzi ta’ Riċerka Xjentifika u Teknoloġika Ċentrali tal-Università ta’ Cádiz (UEF-UCA), huwa mitlub. L-inkorporazzjoni ta’ GCIS se tissostitwixxi s-sors tal-jone Minibeam I, installat fit-tagħmir mill-akkwist tiegħu, u li huwa sors ta’ prestazzjoni baxxa li mhuwiex adegwat biex jipprovdi s-servizz bil-livell ta’ kwalità mitlub mill-utenti tal-UEF-UCA. L-installazzjoni tal-GCIS fit-tagħmir se tippermettilha twettaq studji tal-profil tal-fond, bi prestazzjoni għolja, u ftit ħsara kimika, filwaqt li tevita bidliet fid-distribuzzjoni elementali tal-ispeċi tal-wiċċ, jew bidliet fl-istat ta’ ossidazzjoni u/jew fl-ambjent kimiku tal-elementi. F’dan is-sens, l-użu tal-GCIS jippermetti li jitwettaq l-inċiżjoni ta’ varjetà wiesgħa ta’ uċuħ: metalli, ossidi, semikondutturi, polimeri organiċi jew saħansitra materjali bijoloġiċi. L-aġġornament tal-UEF-UCA bis-sors ta’ joni ta’ prestazzjoni għolja se jippermetti lill-unità toffri servizz aħjar, peress li l-unità hija mgħammra wkoll b’aċċessorju ta’ rotazzjoni Zalar, li jippermetti wkoll, flimkien mal-użu tal-GCIS, l-inċiżjoni omoġenja tal-uċuħ, bl-impatt minimu, anke ta’ kampjuni f’forma ta’ trab. (Maltese) | |||||||||||||||
| Property / summary: L-akkwist ta’ Sors Ion Cluster tal-Gass (GCIS) biex jaġġorna l-Kratos Axis Ultra spettrometru, li jipprovdi servizzi fl-Unità tal-Ispettroskopija Photoelectron tas-Servizzi ta’ Riċerka Xjentifika u Teknoloġika Ċentrali tal-Università ta’ Cádiz (UEF-UCA), huwa mitlub. L-inkorporazzjoni ta’ GCIS se tissostitwixxi s-sors tal-jone Minibeam I, installat fit-tagħmir mill-akkwist tiegħu, u li huwa sors ta’ prestazzjoni baxxa li mhuwiex adegwat biex jipprovdi s-servizz bil-livell ta’ kwalità mitlub mill-utenti tal-UEF-UCA. L-installazzjoni tal-GCIS fit-tagħmir se tippermettilha twettaq studji tal-profil tal-fond, bi prestazzjoni għolja, u ftit ħsara kimika, filwaqt li tevita bidliet fid-distribuzzjoni elementali tal-ispeċi tal-wiċċ, jew bidliet fl-istat ta’ ossidazzjoni u/jew fl-ambjent kimiku tal-elementi. F’dan is-sens, l-użu tal-GCIS jippermetti li jitwettaq l-inċiżjoni ta’ varjetà wiesgħa ta’ uċuħ: metalli, ossidi, semikondutturi, polimeri organiċi jew saħansitra materjali bijoloġiċi. L-aġġornament tal-UEF-UCA bis-sors ta’ joni ta’ prestazzjoni għolja se jippermetti lill-unità toffri servizz aħjar, peress li l-unità hija mgħammra wkoll b’aċċessorju ta’ rotazzjoni Zalar, li jippermetti wkoll, flimkien mal-użu tal-GCIS, l-inċiżjoni omoġenja tal-uċuħ, bl-impatt minimu, anke ta’ kampjuni f’forma ta’ trab. (Maltese) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: L-akkwist ta’ Sors Ion Cluster tal-Gass (GCIS) biex jaġġorna l-Kratos Axis Ultra spettrometru, li jipprovdi servizzi fl-Unità tal-Ispettroskopija Photoelectron tas-Servizzi ta’ Riċerka Xjentifika u Teknoloġika Ċentrali tal-Università ta’ Cádiz (UEF-UCA), huwa mitlub. L-inkorporazzjoni ta’ GCIS se tissostitwixxi s-sors tal-jone Minibeam I, installat fit-tagħmir mill-akkwist tiegħu, u li huwa sors ta’ prestazzjoni baxxa li mhuwiex adegwat biex jipprovdi s-servizz bil-livell ta’ kwalità mitlub mill-utenti tal-UEF-UCA. L-installazzjoni tal-GCIS fit-tagħmir se tippermettilha twettaq studji tal-profil tal-fond, bi prestazzjoni għolja, u ftit ħsara kimika, filwaqt li tevita bidliet fid-distribuzzjoni elementali tal-ispeċi tal-wiċċ, jew bidliet fl-istat ta’ ossidazzjoni u/jew fl-ambjent kimiku tal-elementi. F’dan is-sens, l-użu tal-GCIS jippermetti li jitwettaq l-inċiżjoni ta’ varjetà wiesgħa ta’ uċuħ: metalli, ossidi, semikondutturi, polimeri organiċi jew saħansitra materjali bijoloġiċi. L-aġġornament tal-UEF-UCA bis-sors ta’ joni ta’ prestazzjoni għolja se jippermetti lill-unità toffri servizz aħjar, peress li l-unità hija mgħammra wkoll b’aċċessorju ta’ rotazzjoni Zalar, li jippermetti wkoll, flimkien mal-użu tal-GCIS, l-inċiżjoni omoġenja tal-uċuħ, bl-impatt minimu, anke ta’ kampjuni f’forma ta’ trab. (Maltese) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Tiek pieprasīta gāzes klastera jonu avota (GCIS) iegāde, lai atjauninātu Kratos Axis Ultra spektrometru, kas sniedz pakalpojumus Kadisas Universitātes Centrālās zinātniskās un tehnoloģiskās izpētes pakalpojumu (UEF-UCA) Fotoelectron spektroskopijas nodaļā. GCIS iekļaušana aizstās Minibeam I jonu avotu, kas uzstādīts iekārtā kopš tā iegādes un kas ir zemas veiktspējas avots, kas nav pietiekams, lai sniegtu pakalpojumu ar kvalitātes līmeni, ko pieprasa UEF-UCA lietotāji. GCIS uzstādīšana iekārtā ļaus tai veikt dziļuma profila pētījumus ar augstu veiktspēju un mazu ķīmisku bojājumu, izvairoties no izmaiņām virsmas sugu elementārajā sadalījumā vai izmaiņām elementu oksidācijas stāvoklī un/vai ķīmiskajā vidē. Šajā ziņā GCIS izmantošana ļauj veikt visdažādāko virsmu kodināšanu: metāli, oksīdi, pusvadītāji, organiskie polimēri vai pat bioloģiski materiāli. UEF-UCA atjaunināšana ar augstas veiktspējas jonu avotu ļaus vienībai piedāvāt labākus pakalpojumus, ņemot vērā, ka ierīce ir aprīkota arī ar Zalar rotācijas piederumu, kas kopā ar GCIS izmantošanu ļaus arī viendabīgu virsmu kodināšanu ar minimālu triecienu pat pulverveida paraugiem. (Latvian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Tiek pieprasīta gāzes klastera jonu avota (GCIS) iegāde, lai atjauninātu Kratos Axis Ultra spektrometru, kas sniedz pakalpojumus Kadisas Universitātes Centrālās zinātniskās un tehnoloģiskās izpētes pakalpojumu (UEF-UCA) Fotoelectron spektroskopijas nodaļā. GCIS iekļaušana aizstās Minibeam I jonu avotu, kas uzstādīts iekārtā kopš tā iegādes un kas ir zemas veiktspējas avots, kas nav pietiekams, lai sniegtu pakalpojumu ar kvalitātes līmeni, ko pieprasa UEF-UCA lietotāji. GCIS uzstādīšana iekārtā ļaus tai veikt dziļuma profila pētījumus ar augstu veiktspēju un mazu ķīmisku bojājumu, izvairoties no izmaiņām virsmas sugu elementārajā sadalījumā vai izmaiņām elementu oksidācijas stāvoklī un/vai ķīmiskajā vidē. Šajā ziņā GCIS izmantošana ļauj veikt visdažādāko virsmu kodināšanu: metāli, oksīdi, pusvadītāji, organiskie polimēri vai pat bioloģiski materiāli. UEF-UCA atjaunināšana ar augstas veiktspējas jonu avotu ļaus vienībai piedāvāt labākus pakalpojumus, ņemot vērā, ka ierīce ir aprīkota arī ar Zalar rotācijas piederumu, kas kopā ar GCIS izmantošanu ļaus arī viendabīgu virsmu kodināšanu ar minimālu triecienu pat pulverveida paraugiem. (Latvian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Tiek pieprasīta gāzes klastera jonu avota (GCIS) iegāde, lai atjauninātu Kratos Axis Ultra spektrometru, kas sniedz pakalpojumus Kadisas Universitātes Centrālās zinātniskās un tehnoloģiskās izpētes pakalpojumu (UEF-UCA) Fotoelectron spektroskopijas nodaļā. GCIS iekļaušana aizstās Minibeam I jonu avotu, kas uzstādīts iekārtā kopš tā iegādes un kas ir zemas veiktspējas avots, kas nav pietiekams, lai sniegtu pakalpojumu ar kvalitātes līmeni, ko pieprasa UEF-UCA lietotāji. GCIS uzstādīšana iekārtā ļaus tai veikt dziļuma profila pētījumus ar augstu veiktspēju un mazu ķīmisku bojājumu, izvairoties no izmaiņām virsmas sugu elementārajā sadalījumā vai izmaiņām elementu oksidācijas stāvoklī un/vai ķīmiskajā vidē. Šajā ziņā GCIS izmantošana ļauj veikt visdažādāko virsmu kodināšanu: metāli, oksīdi, pusvadītāji, organiskie polimēri vai pat bioloģiski materiāli. UEF-UCA atjaunināšana ar augstas veiktspējas jonu avotu ļaus vienībai piedāvāt labākus pakalpojumus, ņemot vērā, ka ierīce ir aprīkota arī ar Zalar rotācijas piederumu, kas kopā ar GCIS izmantošanu ļaus arī viendabīgu virsmu kodināšanu ar minimālu triecienu pat pulverveida paraugiem. (Latvian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Požaduje sa akvizícia iónového zdroja plynového klastra (GCIS) na aktualizáciu spektrometra Kratos Axis Ultra, ktorý poskytuje služby v jednotke fotoelektrónovej spektroskopie Ústrednej vedecko-technickej výskumnej služby Cádizskej univerzity (UEF-UCA). Zabudovaním systému GCIS sa nahradí zdroj iónov Minibeam I nainštalovaný v zariadení od jeho nadobudnutia a ktorý je zdrojom s nízkou výkonnosťou, ktorý nie je dostatočný na to, aby poskytoval službu na úrovni kvality požadovanej používateľmi UEF-UCA. Inštalácia GCIS do zariadenia mu umožní vykonávať hĺbkové profilové štúdie s vysokým výkonom a malým chemickým poškodením, čím sa zabráni zmenám elementárneho rozloženia povrchových druhov alebo zmenám v oxidačnom stave a/alebo chemickom prostredí prvkov. V tomto zmysle používanie GCIS umožňuje vykonávať leptanie širokej škály povrchov: kovy, oxidy, polovodiče, organické polyméry alebo dokonca biologické materiály. Aktualizácia UEF-UCA s vysokovýkonným zdrojom iónov umožní jednotke ponúknuť lepšie služby vzhľadom na to, že jednotka je vybavená aj Zalarovým rotačným doplnkom, ktorý v kombinácii s použitím GCIS tiež umožní homogénne leptanie povrchov s minimálnym dopadom aj práškových vzoriek. (Slovak) | |||||||||||||||
| Property / summary: Požaduje sa akvizícia iónového zdroja plynového klastra (GCIS) na aktualizáciu spektrometra Kratos Axis Ultra, ktorý poskytuje služby v jednotke fotoelektrónovej spektroskopie Ústrednej vedecko-technickej výskumnej služby Cádizskej univerzity (UEF-UCA). Zabudovaním systému GCIS sa nahradí zdroj iónov Minibeam I nainštalovaný v zariadení od jeho nadobudnutia a ktorý je zdrojom s nízkou výkonnosťou, ktorý nie je dostatočný na to, aby poskytoval službu na úrovni kvality požadovanej používateľmi UEF-UCA. Inštalácia GCIS do zariadenia mu umožní vykonávať hĺbkové profilové štúdie s vysokým výkonom a malým chemickým poškodením, čím sa zabráni zmenám elementárneho rozloženia povrchových druhov alebo zmenám v oxidačnom stave a/alebo chemickom prostredí prvkov. V tomto zmysle používanie GCIS umožňuje vykonávať leptanie širokej škály povrchov: kovy, oxidy, polovodiče, organické polyméry alebo dokonca biologické materiály. Aktualizácia UEF-UCA s vysokovýkonným zdrojom iónov umožní jednotke ponúknuť lepšie služby vzhľadom na to, že jednotka je vybavená aj Zalarovým rotačným doplnkom, ktorý v kombinácii s použitím GCIS tiež umožní homogénne leptanie povrchov s minimálnym dopadom aj práškových vzoriek. (Slovak) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Požaduje sa akvizícia iónového zdroja plynového klastra (GCIS) na aktualizáciu spektrometra Kratos Axis Ultra, ktorý poskytuje služby v jednotke fotoelektrónovej spektroskopie Ústrednej vedecko-technickej výskumnej služby Cádizskej univerzity (UEF-UCA). Zabudovaním systému GCIS sa nahradí zdroj iónov Minibeam I nainštalovaný v zariadení od jeho nadobudnutia a ktorý je zdrojom s nízkou výkonnosťou, ktorý nie je dostatočný na to, aby poskytoval službu na úrovni kvality požadovanej používateľmi UEF-UCA. Inštalácia GCIS do zariadenia mu umožní vykonávať hĺbkové profilové štúdie s vysokým výkonom a malým chemickým poškodením, čím sa zabráni zmenám elementárneho rozloženia povrchových druhov alebo zmenám v oxidačnom stave a/alebo chemickom prostredí prvkov. V tomto zmysle používanie GCIS umožňuje vykonávať leptanie širokej škály povrchov: kovy, oxidy, polovodiče, organické polyméry alebo dokonca biologické materiály. Aktualizácia UEF-UCA s vysokovýkonným zdrojom iónov umožní jednotke ponúknuť lepšie služby vzhľadom na to, že jednotka je vybavená aj Zalarovým rotačným doplnkom, ktorý v kombinácii s použitím GCIS tiež umožní homogénne leptanie povrchov s minimálnym dopadom aj práškových vzoriek. (Slovak) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Iarrtar éadáil Foinse ian Braisle Gáis (GCIS) chun an Ultra-speictriméadar Kratos Axis a nuashonrú, a sholáthraíonn seirbhísí in Aonad Speictreascópachta Photoelectron de Lársheirbhísí Taighde Eolaíochta agus Teicneolaíochta Ollscoil Cádiz (UEF-UCA). Cuirfidh ionchorprú GCIS in ionad an fhoinse ian Minibeam I, suiteáilte sa trealamh ó fuarthas é, agus a bhfuil foinse feidhmíochta íseal nach bhfuil leordhóthanach chun an tseirbhís a sholáthar leis an leibhéal cáilíochta a éilíonn úsáideoirí UEF-UCA. Ligfidh suiteáil an GCIS sa trealamh staidéir ar phróifíl dhoimhne a dhéanamh, le hardfheidhmíocht, agus damáiste beag ceimiceach, ag seachaint athruithe i ndáileadh eiliminteach na speiceas dromchla, nó athruithe i staid ocsaídiúcháin agus/nó timpeallacht cheimiceach na n-eilimintí. Sa chiall seo, ligeann úsáid an GCIS raon leathan dromchlaí a eitseáil: miotail, ocsaídí, leathsheoltóirí, polaiméirí orgánacha nó fiú ábhair bhitheolaíocha. Tabharfaidh nuashonrú UEF-UCA leis an bhfoinse ian ardfheidhmíochta deis don aonad seirbhís níos fearr a thairiscint, ós rud é go bhfuil cúlpháirtí uainíochta Zalar feistithe freisin, rud a cheadóidh freisin, in éineacht le húsáid an GCIS, eitseáil aonchineálach na ndromchlaí, leis an tionchar íosta, fiú samplaí púdraithe. (Irish) | |||||||||||||||
| Property / summary: Iarrtar éadáil Foinse ian Braisle Gáis (GCIS) chun an Ultra-speictriméadar Kratos Axis a nuashonrú, a sholáthraíonn seirbhísí in Aonad Speictreascópachta Photoelectron de Lársheirbhísí Taighde Eolaíochta agus Teicneolaíochta Ollscoil Cádiz (UEF-UCA). Cuirfidh ionchorprú GCIS in ionad an fhoinse ian Minibeam I, suiteáilte sa trealamh ó fuarthas é, agus a bhfuil foinse feidhmíochta íseal nach bhfuil leordhóthanach chun an tseirbhís a sholáthar leis an leibhéal cáilíochta a éilíonn úsáideoirí UEF-UCA. Ligfidh suiteáil an GCIS sa trealamh staidéir ar phróifíl dhoimhne a dhéanamh, le hardfheidhmíocht, agus damáiste beag ceimiceach, ag seachaint athruithe i ndáileadh eiliminteach na speiceas dromchla, nó athruithe i staid ocsaídiúcháin agus/nó timpeallacht cheimiceach na n-eilimintí. Sa chiall seo, ligeann úsáid an GCIS raon leathan dromchlaí a eitseáil: miotail, ocsaídí, leathsheoltóirí, polaiméirí orgánacha nó fiú ábhair bhitheolaíocha. Tabharfaidh nuashonrú UEF-UCA leis an bhfoinse ian ardfheidhmíochta deis don aonad seirbhís níos fearr a thairiscint, ós rud é go bhfuil cúlpháirtí uainíochta Zalar feistithe freisin, rud a cheadóidh freisin, in éineacht le húsáid an GCIS, eitseáil aonchineálach na ndromchlaí, leis an tionchar íosta, fiú samplaí púdraithe. (Irish) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Iarrtar éadáil Foinse ian Braisle Gáis (GCIS) chun an Ultra-speictriméadar Kratos Axis a nuashonrú, a sholáthraíonn seirbhísí in Aonad Speictreascópachta Photoelectron de Lársheirbhísí Taighde Eolaíochta agus Teicneolaíochta Ollscoil Cádiz (UEF-UCA). Cuirfidh ionchorprú GCIS in ionad an fhoinse ian Minibeam I, suiteáilte sa trealamh ó fuarthas é, agus a bhfuil foinse feidhmíochta íseal nach bhfuil leordhóthanach chun an tseirbhís a sholáthar leis an leibhéal cáilíochta a éilíonn úsáideoirí UEF-UCA. Ligfidh suiteáil an GCIS sa trealamh staidéir ar phróifíl dhoimhne a dhéanamh, le hardfheidhmíocht, agus damáiste beag ceimiceach, ag seachaint athruithe i ndáileadh eiliminteach na speiceas dromchla, nó athruithe i staid ocsaídiúcháin agus/nó timpeallacht cheimiceach na n-eilimintí. Sa chiall seo, ligeann úsáid an GCIS raon leathan dromchlaí a eitseáil: miotail, ocsaídí, leathsheoltóirí, polaiméirí orgánacha nó fiú ábhair bhitheolaíocha. Tabharfaidh nuashonrú UEF-UCA leis an bhfoinse ian ardfheidhmíochta deis don aonad seirbhís níos fearr a thairiscint, ós rud é go bhfuil cúlpháirtí uainíochta Zalar feistithe freisin, rud a cheadóidh freisin, in éineacht le húsáid an GCIS, eitseáil aonchineálach na ndromchlaí, leis an tionchar íosta, fiú samplaí púdraithe. (Irish) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Požaduje se získání iontového zdroje plynového klastru (GCIS) za účelem aktualizace spektrometru Kratos Axis Ultra, který poskytuje služby v oddělení fotoelektronové spektroskopie Ústředních služeb vědeckého a technologického výzkumu Univerzity v Cádizu (UEF-UCA). Začlenění GCIS nahradí iontový zdroj Minibeam I, instalovaný v zařízení od jeho pořízení a který je zdrojem s nízkým výkonem, který není dostatečný k tomu, aby poskytoval službu úroveň kvality požadovanou uživateli UEF-UCA. Instalace GCIS do zařízení mu umožní provádět studie hloubkového profilu s vysokým výkonem a malým chemickým poškozením, aby se zabránilo změnám v elementární distribuci povrchových druhů nebo změnám v oxidačním stavu a/nebo chemickém prostředí prvků. V tomto smyslu umožňuje použití GCIS provádět leptání široké škály povrchů: kovy, oxidy, polovodiče, organické polymery nebo dokonce biologické materiály. Aktualizace UEF-UCA s vysoce výkonným iontovým zdrojem umožní jednotce nabídnout lepší službu, vzhledem k tomu, že jednotka je také vybavena zalarovým rotačním příslušenstvím, které v kombinaci s použitím GCIS umožní homogenní leptání povrchů s minimálním dopadem, a to i v práškových vzorcích. (Czech) | |||||||||||||||
| Property / summary: Požaduje se získání iontového zdroje plynového klastru (GCIS) za účelem aktualizace spektrometru Kratos Axis Ultra, který poskytuje služby v oddělení fotoelektronové spektroskopie Ústředních služeb vědeckého a technologického výzkumu Univerzity v Cádizu (UEF-UCA). Začlenění GCIS nahradí iontový zdroj Minibeam I, instalovaný v zařízení od jeho pořízení a který je zdrojem s nízkým výkonem, který není dostatečný k tomu, aby poskytoval službu úroveň kvality požadovanou uživateli UEF-UCA. Instalace GCIS do zařízení mu umožní provádět studie hloubkového profilu s vysokým výkonem a malým chemickým poškozením, aby se zabránilo změnám v elementární distribuci povrchových druhů nebo změnám v oxidačním stavu a/nebo chemickém prostředí prvků. V tomto smyslu umožňuje použití GCIS provádět leptání široké škály povrchů: kovy, oxidy, polovodiče, organické polymery nebo dokonce biologické materiály. Aktualizace UEF-UCA s vysoce výkonným iontovým zdrojem umožní jednotce nabídnout lepší službu, vzhledem k tomu, že jednotka je také vybavena zalarovým rotačním příslušenstvím, které v kombinaci s použitím GCIS umožní homogenní leptání povrchů s minimálním dopadem, a to i v práškových vzorcích. (Czech) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Požaduje se získání iontového zdroje plynového klastru (GCIS) za účelem aktualizace spektrometru Kratos Axis Ultra, který poskytuje služby v oddělení fotoelektronové spektroskopie Ústředních služeb vědeckého a technologického výzkumu Univerzity v Cádizu (UEF-UCA). Začlenění GCIS nahradí iontový zdroj Minibeam I, instalovaný v zařízení od jeho pořízení a který je zdrojem s nízkým výkonem, který není dostatečný k tomu, aby poskytoval službu úroveň kvality požadovanou uživateli UEF-UCA. Instalace GCIS do zařízení mu umožní provádět studie hloubkového profilu s vysokým výkonem a malým chemickým poškozením, aby se zabránilo změnám v elementární distribuci povrchových druhů nebo změnám v oxidačním stavu a/nebo chemickém prostředí prvků. V tomto smyslu umožňuje použití GCIS provádět leptání široké škály povrchů: kovy, oxidy, polovodiče, organické polymery nebo dokonce biologické materiály. Aktualizace UEF-UCA s vysoce výkonným iontovým zdrojem umožní jednotce nabídnout lepší službu, vzhledem k tomu, že jednotka je také vybavena zalarovým rotačním příslušenstvím, které v kombinaci s použitím GCIS umožní homogenní leptání povrchů s minimálním dopadem, a to i v práškových vzorcích. (Czech) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Solicita-se a aquisição de uma Fonte Iónica de Agrupamento de Gás (GCIS) para atualização do espectrómetro Kratos Axis Ultra, que presta serviços na Unidade de Espectroscopia Fotoeletrónica dos Serviços Centrais de Investigação Científica e Tecnológica da Universidade de Cádiz (UEF-UCA). A incorporação de um GCIS substituirá a fonte de iões Minibeam I, instalada no equipamento desde a sua aquisição, e que é uma fonte de baixo desempenho que não é adequada para prestar o serviço com o nível de qualidade exigido pelos utilizadores da UEF-UCA. A instalação do SIG no equipamento lhe permitirá realizar estudos de perfil de profundidade, com alto desempenho e pouco dano químico, evitando alterações na distribuição elementar das espécies de superfície, ou alterações no estado de oxidação e/ou ambiente químico dos elementos. Neste sentido, a utilização do SIG permite realizar a gravação de uma grande variedade de superfícies: metais, óxidos, semicondutores, polímeros orgânicos ou mesmo materiais biológicos. A atualização do UEF-UCA com a fonte iónica de alto desempenho permitirá que a unidade ofereça um melhor serviço, uma vez que a unidade também está equipada com um acessório de rotação Zalar, o que permitirá também, em combinação com a utilização do GCIS, a gravação homogénea das superfícies, com o mínimo impacto, mesmo de amostras em pó. (Portuguese) | |||||||||||||||
| Property / summary: Solicita-se a aquisição de uma Fonte Iónica de Agrupamento de Gás (GCIS) para atualização do espectrómetro Kratos Axis Ultra, que presta serviços na Unidade de Espectroscopia Fotoeletrónica dos Serviços Centrais de Investigação Científica e Tecnológica da Universidade de Cádiz (UEF-UCA). A incorporação de um GCIS substituirá a fonte de iões Minibeam I, instalada no equipamento desde a sua aquisição, e que é uma fonte de baixo desempenho que não é adequada para prestar o serviço com o nível de qualidade exigido pelos utilizadores da UEF-UCA. A instalação do SIG no equipamento lhe permitirá realizar estudos de perfil de profundidade, com alto desempenho e pouco dano químico, evitando alterações na distribuição elementar das espécies de superfície, ou alterações no estado de oxidação e/ou ambiente químico dos elementos. Neste sentido, a utilização do SIG permite realizar a gravação de uma grande variedade de superfícies: metais, óxidos, semicondutores, polímeros orgânicos ou mesmo materiais biológicos. A atualização do UEF-UCA com a fonte iónica de alto desempenho permitirá que a unidade ofereça um melhor serviço, uma vez que a unidade também está equipada com um acessório de rotação Zalar, o que permitirá também, em combinação com a utilização do GCIS, a gravação homogénea das superfícies, com o mínimo impacto, mesmo de amostras em pó. (Portuguese) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Solicita-se a aquisição de uma Fonte Iónica de Agrupamento de Gás (GCIS) para atualização do espectrómetro Kratos Axis Ultra, que presta serviços na Unidade de Espectroscopia Fotoeletrónica dos Serviços Centrais de Investigação Científica e Tecnológica da Universidade de Cádiz (UEF-UCA). A incorporação de um GCIS substituirá a fonte de iões Minibeam I, instalada no equipamento desde a sua aquisição, e que é uma fonte de baixo desempenho que não é adequada para prestar o serviço com o nível de qualidade exigido pelos utilizadores da UEF-UCA. A instalação do SIG no equipamento lhe permitirá realizar estudos de perfil de profundidade, com alto desempenho e pouco dano químico, evitando alterações na distribuição elementar das espécies de superfície, ou alterações no estado de oxidação e/ou ambiente químico dos elementos. Neste sentido, a utilização do SIG permite realizar a gravação de uma grande variedade de superfícies: metais, óxidos, semicondutores, polímeros orgânicos ou mesmo materiais biológicos. A atualização do UEF-UCA com a fonte iónica de alto desempenho permitirá que a unidade ofereça um melhor serviço, uma vez que a unidade também está equipada com um acessório de rotação Zalar, o que permitirá também, em combinação com a utilização do GCIS, a gravação homogénea das superfícies, com o mínimo impacto, mesmo de amostras em pó. (Portuguese) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Taotletakse gaasiklastri Ion Source (GCIS) omandamist Kratos Axis Ultra spektromeetri ajakohastamiseks, mis pakub teenuseid Cádizi ülikooli (UEF-UCA) Kesk-teaduslike ja tehnoloogiliste uuringute teenuste Fotoelektroonilise spektroskoopia üksuses. GCISe lisamine asendab minibeam I ioonallikat, mis on paigaldatud seadmesse alates selle omandamisest ja mis on madala jõudlusega allikas, mis ei ole piisav teenuse osutamiseks vastavalt UEF-UCA kasutajatele nõutud kvaliteeditasemele. GCIS paigaldamine seadmesse võimaldab teha sügavusprofiili uuringuid, kõrge jõudlusega ja vähese keemilise kahjuga, vältides muutusi pinnaliikide elementaarses jaotumises või elementide oksüdatsiooni olekus ja/või keemilises keskkonnas. Selles mõttes võimaldab GCIS kasutamine teha mitmesuguste pindade söövitamist: metallid, oksiidid, pooljuhid, orgaanilised polümeerid või isegi bioloogilised materjalid. UEF-UCA ajakohastamine kõrgjõudlusega iooniallikaga võimaldab üksusel pakkuda paremat teenust, arvestades, et seade on varustatud ka Zalari pööramise tarvikuga, mis võimaldab koos GCIS-i kasutamisega ka pindade ühtlast söövitamist minimaalse löögiga, isegi pulbriliste proovide puhul. (Estonian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Taotletakse gaasiklastri Ion Source (GCIS) omandamist Kratos Axis Ultra spektromeetri ajakohastamiseks, mis pakub teenuseid Cádizi ülikooli (UEF-UCA) Kesk-teaduslike ja tehnoloogiliste uuringute teenuste Fotoelektroonilise spektroskoopia üksuses. GCISe lisamine asendab minibeam I ioonallikat, mis on paigaldatud seadmesse alates selle omandamisest ja mis on madala jõudlusega allikas, mis ei ole piisav teenuse osutamiseks vastavalt UEF-UCA kasutajatele nõutud kvaliteeditasemele. GCIS paigaldamine seadmesse võimaldab teha sügavusprofiili uuringuid, kõrge jõudlusega ja vähese keemilise kahjuga, vältides muutusi pinnaliikide elementaarses jaotumises või elementide oksüdatsiooni olekus ja/või keemilises keskkonnas. Selles mõttes võimaldab GCIS kasutamine teha mitmesuguste pindade söövitamist: metallid, oksiidid, pooljuhid, orgaanilised polümeerid või isegi bioloogilised materjalid. UEF-UCA ajakohastamine kõrgjõudlusega iooniallikaga võimaldab üksusel pakkuda paremat teenust, arvestades, et seade on varustatud ka Zalari pööramise tarvikuga, mis võimaldab koos GCIS-i kasutamisega ka pindade ühtlast söövitamist minimaalse löögiga, isegi pulbriliste proovide puhul. (Estonian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Taotletakse gaasiklastri Ion Source (GCIS) omandamist Kratos Axis Ultra spektromeetri ajakohastamiseks, mis pakub teenuseid Cádizi ülikooli (UEF-UCA) Kesk-teaduslike ja tehnoloogiliste uuringute teenuste Fotoelektroonilise spektroskoopia üksuses. GCISe lisamine asendab minibeam I ioonallikat, mis on paigaldatud seadmesse alates selle omandamisest ja mis on madala jõudlusega allikas, mis ei ole piisav teenuse osutamiseks vastavalt UEF-UCA kasutajatele nõutud kvaliteeditasemele. GCIS paigaldamine seadmesse võimaldab teha sügavusprofiili uuringuid, kõrge jõudlusega ja vähese keemilise kahjuga, vältides muutusi pinnaliikide elementaarses jaotumises või elementide oksüdatsiooni olekus ja/või keemilises keskkonnas. Selles mõttes võimaldab GCIS kasutamine teha mitmesuguste pindade söövitamist: metallid, oksiidid, pooljuhid, orgaanilised polümeerid või isegi bioloogilised materjalid. UEF-UCA ajakohastamine kõrgjõudlusega iooniallikaga võimaldab üksusel pakkuda paremat teenust, arvestades, et seade on varustatud ka Zalari pööramise tarvikuga, mis võimaldab koos GCIS-i kasutamisega ka pindade ühtlast söövitamist minimaalse löögiga, isegi pulbriliste proovide puhul. (Estonian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
A Cádizi Egyetem Központi Tudományos és Technológiai Kutatási Szolgálatának (UEF-UCA) fotoelektronspektroszkópiai egységében szolgáltatásokat nyújtó Kratos Axis Ultra spektrométer frissítéséhez gázklaszter-ionforrás (GCIS) beszerzését kérik. A GCIS beépítése a beszerzés óta a berendezésbe telepített minibeam I ionforrás helyébe lép, és amely alacsony teljesítményű forrás, amely nem megfelelő ahhoz, hogy a szolgáltatást az UEF-UCA felhasználók által megkövetelt minőségi színvonalon nyújtsa. A GCIS felszerelése lehetővé teszi, hogy mélységprofil-vizsgálatokat végezzen nagy teljesítményű és kevés kémiai károsodással, elkerülve a felszíni fajok elemi eloszlásának megváltozását, vagy az elemek oxidációs állapotában és/vagy kémiai környezetében bekövetkező változásokat. Ebben az értelemben a GCIS használata lehetővé teszi a különböző felületek maratását: fémek, oxidok, félvezetők, szerves polimerek vagy akár biológiai anyagok. Az UEF-UCA nagy teljesítményű ionforrással történő frissítése lehetővé teszi az egység számára, hogy jobb szolgáltatást nyújtson, mivel az egység Zalar forgási tartozékkal is rendelkezik, amely a GCIS használatával együtt lehetővé teszi a felületek homogén maratását is, a minimális behatással, még a porított minták esetében is. (Hungarian) | |||||||||||||||
| Property / summary: A Cádizi Egyetem Központi Tudományos és Technológiai Kutatási Szolgálatának (UEF-UCA) fotoelektronspektroszkópiai egységében szolgáltatásokat nyújtó Kratos Axis Ultra spektrométer frissítéséhez gázklaszter-ionforrás (GCIS) beszerzését kérik. A GCIS beépítése a beszerzés óta a berendezésbe telepített minibeam I ionforrás helyébe lép, és amely alacsony teljesítményű forrás, amely nem megfelelő ahhoz, hogy a szolgáltatást az UEF-UCA felhasználók által megkövetelt minőségi színvonalon nyújtsa. A GCIS felszerelése lehetővé teszi, hogy mélységprofil-vizsgálatokat végezzen nagy teljesítményű és kevés kémiai károsodással, elkerülve a felszíni fajok elemi eloszlásának megváltozását, vagy az elemek oxidációs állapotában és/vagy kémiai környezetében bekövetkező változásokat. Ebben az értelemben a GCIS használata lehetővé teszi a különböző felületek maratását: fémek, oxidok, félvezetők, szerves polimerek vagy akár biológiai anyagok. Az UEF-UCA nagy teljesítményű ionforrással történő frissítése lehetővé teszi az egység számára, hogy jobb szolgáltatást nyújtson, mivel az egység Zalar forgási tartozékkal is rendelkezik, amely a GCIS használatával együtt lehetővé teszi a felületek homogén maratását is, a minimális behatással, még a porított minták esetében is. (Hungarian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: A Cádizi Egyetem Központi Tudományos és Technológiai Kutatási Szolgálatának (UEF-UCA) fotoelektronspektroszkópiai egységében szolgáltatásokat nyújtó Kratos Axis Ultra spektrométer frissítéséhez gázklaszter-ionforrás (GCIS) beszerzését kérik. A GCIS beépítése a beszerzés óta a berendezésbe telepített minibeam I ionforrás helyébe lép, és amely alacsony teljesítményű forrás, amely nem megfelelő ahhoz, hogy a szolgáltatást az UEF-UCA felhasználók által megkövetelt minőségi színvonalon nyújtsa. A GCIS felszerelése lehetővé teszi, hogy mélységprofil-vizsgálatokat végezzen nagy teljesítményű és kevés kémiai károsodással, elkerülve a felszíni fajok elemi eloszlásának megváltozását, vagy az elemek oxidációs állapotában és/vagy kémiai környezetében bekövetkező változásokat. Ebben az értelemben a GCIS használata lehetővé teszi a különböző felületek maratását: fémek, oxidok, félvezetők, szerves polimerek vagy akár biológiai anyagok. Az UEF-UCA nagy teljesítményű ionforrással történő frissítése lehetővé teszi az egység számára, hogy jobb szolgáltatást nyújtson, mivel az egység Zalar forgási tartozékkal is rendelkezik, amely a GCIS használatával együtt lehetővé teszi a felületek homogén maratását is, a minimális behatással, még a porított minták esetében is. (Hungarian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Изисква се придобиването на газов клъстер йонен източник (GCIS) за актуализиране на ултраспектрометъра Kratos Axis, който предоставя услуги в звеното за фотоелектронна спектроскопия на Централното научно-техническо изследване на Университета в Кадис (UEF-UCA). Въвеждането на GCIS ще замени йонния източник Minibeam I, инсталиран в оборудването след неговото придобиване и който е източник с ниска производителност, който не е достатъчен за предоставянето на услугата с нивото на качество, изисквано от потребителите на UEF-UCA. Инсталирането на GCIS в оборудването ще му позволи да извършва дълбочинни профилни проучвания, с висока производителност и малко химическо увреждане, като се избягват промени в елементарното разпределение на повърхностните видове или промени в състоянието на окисляване и/или химическата среда на елементите. В този смисъл използването на GCIS позволява да се извърши ецване на голямо разнообразие от повърхности: метали, оксиди, полупроводници, органични полимери или дори биологични материали. Актуализирането на UEF-UCA с високопроизводителния източник на йони ще позволи на устройството да предлага по-добро обслужване, като се има предвид, че устройството е оборудвано и с ротационен аксесоар Zalar, който също така ще позволи, в комбинация с използването на GCIS, хомогенното ецване на повърхностите, с минимално въздействие, дори на прахообразни проби. (Bulgarian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Изисква се придобиването на газов клъстер йонен източник (GCIS) за актуализиране на ултраспектрометъра Kratos Axis, който предоставя услуги в звеното за фотоелектронна спектроскопия на Централното научно-техническо изследване на Университета в Кадис (UEF-UCA). Въвеждането на GCIS ще замени йонния източник Minibeam I, инсталиран в оборудването след неговото придобиване и който е източник с ниска производителност, който не е достатъчен за предоставянето на услугата с нивото на качество, изисквано от потребителите на UEF-UCA. Инсталирането на GCIS в оборудването ще му позволи да извършва дълбочинни профилни проучвания, с висока производителност и малко химическо увреждане, като се избягват промени в елементарното разпределение на повърхностните видове или промени в състоянието на окисляване и/или химическата среда на елементите. В този смисъл използването на GCIS позволява да се извърши ецване на голямо разнообразие от повърхности: метали, оксиди, полупроводници, органични полимери или дори биологични материали. Актуализирането на UEF-UCA с високопроизводителния източник на йони ще позволи на устройството да предлага по-добро обслужване, като се има предвид, че устройството е оборудвано и с ротационен аксесоар Zalar, който също така ще позволи, в комбинация с използването на GCIS, хомогенното ецване на повърхностите, с минимално въздействие, дори на прахообразни проби. (Bulgarian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Изисква се придобиването на газов клъстер йонен източник (GCIS) за актуализиране на ултраспектрометъра Kratos Axis, който предоставя услуги в звеното за фотоелектронна спектроскопия на Централното научно-техническо изследване на Университета в Кадис (UEF-UCA). Въвеждането на GCIS ще замени йонния източник Minibeam I, инсталиран в оборудването след неговото придобиване и който е източник с ниска производителност, който не е достатъчен за предоставянето на услугата с нивото на качество, изисквано от потребителите на UEF-UCA. Инсталирането на GCIS в оборудването ще му позволи да извършва дълбочинни профилни проучвания, с висока производителност и малко химическо увреждане, като се избягват промени в елементарното разпределение на повърхностните видове или промени в състоянието на окисляване и/или химическата среда на елементите. В този смисъл използването на GCIS позволява да се извърши ецване на голямо разнообразие от повърхности: метали, оксиди, полупроводници, органични полимери или дори биологични материали. Актуализирането на UEF-UCA с високопроизводителния източник на йони ще позволи на устройството да предлага по-добро обслужване, като се има предвид, че устройството е оборудвано и с ротационен аксесоар Zalar, който също така ще позволи, в комбинация с използването на GCIS, хомогенното ецване на повърхностите, с минимално въздействие, дори на прахообразни проби. (Bulgarian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Prašoma įsigyti dujų klasterio jonų šaltinį (GCIS) siekiant atnaujinti Kratos Axis Ultra spektrometras, kuris teikia paslaugas Kadiso universiteto Centrinio mokslinių ir technologinių tyrimų paslaugų fotoelektroninės spektroskopijos skyriuje (UEF-UCA). Įdiegus GCIS bus pakeistas įrenginyje nuo įsigijimo įrengtą „Minibeam I jonų“ šaltinis, kuris yra mažo našumo šaltinis, kuris nėra tinkamas teikti paslaugą UEF-UCA naudotojų reikalaujamu kokybės lygiu. GCIS įrengimas įrangoje leis jai atlikti gylio profilio tyrimus, pasižyminčius dideliu našumu ir mažais cheminiais pažeidimais, išvengiant paviršiaus rūšių elementinio pasiskirstymo pokyčių arba elementų oksidacijos būklės ir (arba) cheminės aplinkos pokyčių. Šia prasme GCIS naudojimas leidžia atlikti įvairių paviršių ėsdinimą: metalai, oksidai, puslaidininkiai, organiniai polimerai ar net biologinės medžiagos. UEF-UCA atnaujinimas su aukštos kokybės jonų šaltiniu leis įrenginiui pasiūlyti geresnę paslaugą, atsižvelgiant į tai, kad įrenginyje taip pat yra „Zalar“ sukimosi priedas, kuris kartu su GCIS leis vienalytis paviršių ėsdinimas su minimaliu smūgiu, net miltelių pavidalo mėginių. (Lithuanian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Prašoma įsigyti dujų klasterio jonų šaltinį (GCIS) siekiant atnaujinti Kratos Axis Ultra spektrometras, kuris teikia paslaugas Kadiso universiteto Centrinio mokslinių ir technologinių tyrimų paslaugų fotoelektroninės spektroskopijos skyriuje (UEF-UCA). Įdiegus GCIS bus pakeistas įrenginyje nuo įsigijimo įrengtą „Minibeam I jonų“ šaltinis, kuris yra mažo našumo šaltinis, kuris nėra tinkamas teikti paslaugą UEF-UCA naudotojų reikalaujamu kokybės lygiu. GCIS įrengimas įrangoje leis jai atlikti gylio profilio tyrimus, pasižyminčius dideliu našumu ir mažais cheminiais pažeidimais, išvengiant paviršiaus rūšių elementinio pasiskirstymo pokyčių arba elementų oksidacijos būklės ir (arba) cheminės aplinkos pokyčių. Šia prasme GCIS naudojimas leidžia atlikti įvairių paviršių ėsdinimą: metalai, oksidai, puslaidininkiai, organiniai polimerai ar net biologinės medžiagos. UEF-UCA atnaujinimas su aukštos kokybės jonų šaltiniu leis įrenginiui pasiūlyti geresnę paslaugą, atsižvelgiant į tai, kad įrenginyje taip pat yra „Zalar“ sukimosi priedas, kuris kartu su GCIS leis vienalytis paviršių ėsdinimas su minimaliu smūgiu, net miltelių pavidalo mėginių. (Lithuanian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Prašoma įsigyti dujų klasterio jonų šaltinį (GCIS) siekiant atnaujinti Kratos Axis Ultra spektrometras, kuris teikia paslaugas Kadiso universiteto Centrinio mokslinių ir technologinių tyrimų paslaugų fotoelektroninės spektroskopijos skyriuje (UEF-UCA). Įdiegus GCIS bus pakeistas įrenginyje nuo įsigijimo įrengtą „Minibeam I jonų“ šaltinis, kuris yra mažo našumo šaltinis, kuris nėra tinkamas teikti paslaugą UEF-UCA naudotojų reikalaujamu kokybės lygiu. GCIS įrengimas įrangoje leis jai atlikti gylio profilio tyrimus, pasižyminčius dideliu našumu ir mažais cheminiais pažeidimais, išvengiant paviršiaus rūšių elementinio pasiskirstymo pokyčių arba elementų oksidacijos būklės ir (arba) cheminės aplinkos pokyčių. Šia prasme GCIS naudojimas leidžia atlikti įvairių paviršių ėsdinimą: metalai, oksidai, puslaidininkiai, organiniai polimerai ar net biologinės medžiagos. UEF-UCA atnaujinimas su aukštos kokybės jonų šaltiniu leis įrenginiui pasiūlyti geresnę paslaugą, atsižvelgiant į tai, kad įrenginyje taip pat yra „Zalar“ sukimosi priedas, kuris kartu su GCIS leis vienalytis paviršių ėsdinimas su minimaliu smūgiu, net miltelių pavidalo mėginių. (Lithuanian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Zahtijeva se nabava ionskog izvora plinskog klastera (GCIS) za ažuriranje ultra spektrometra Kratos osi, koji pruža usluge u jedinici za fotoelektronsku spektroskopiju Središnje službe za znanstvena i tehnološka istraživanja Sveučilišta Cádiz (UEF-UCA). Uključivanjem GCIS-a zamijenit će se izvor iona Minibeam I, instaliran u opremu od njezine nabave, a koji je izvor niskih performansi koji nije prikladan za pružanje usluge s razinom kvalitete koju zahtijevaju korisnici UEF-UCA-e. Ugradnja GCIS-a u opremu omogućit će obavljanje dubinskih studija profila, s visokim performansama i malim kemijskim oštećenjem, izbjegavajući promjene u elementarnoj distribuciji površinskih vrsta ili promjene u oksidacijskom stanju i/ili kemijskom okruženju elemenata. U tom smislu, upotreba GCIS-a omogućuje jetkanje širokog raspona površina: metali, oksidi, poluvodiči, organski polimeri ili čak biološki materijali. Ažuriranje UEF-UCA s visokoučinkovitim ionskim izvorom omogućit će jedinici da ponudi bolju uslugu, s obzirom na to da je jedinica također opremljena Zalar rotacijskim priborom, što će također omogućiti, u kombinaciji s upotrebom GCIS-a, homogeno jetkanje površina, s minimalnim udarcem, čak i uzoraka u prahu. (Croatian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Zahtijeva se nabava ionskog izvora plinskog klastera (GCIS) za ažuriranje ultra spektrometra Kratos osi, koji pruža usluge u jedinici za fotoelektronsku spektroskopiju Središnje službe za znanstvena i tehnološka istraživanja Sveučilišta Cádiz (UEF-UCA). Uključivanjem GCIS-a zamijenit će se izvor iona Minibeam I, instaliran u opremu od njezine nabave, a koji je izvor niskih performansi koji nije prikladan za pružanje usluge s razinom kvalitete koju zahtijevaju korisnici UEF-UCA-e. Ugradnja GCIS-a u opremu omogućit će obavljanje dubinskih studija profila, s visokim performansama i malim kemijskim oštećenjem, izbjegavajući promjene u elementarnoj distribuciji površinskih vrsta ili promjene u oksidacijskom stanju i/ili kemijskom okruženju elemenata. U tom smislu, upotreba GCIS-a omogućuje jetkanje širokog raspona površina: metali, oksidi, poluvodiči, organski polimeri ili čak biološki materijali. Ažuriranje UEF-UCA s visokoučinkovitim ionskim izvorom omogućit će jedinici da ponudi bolju uslugu, s obzirom na to da je jedinica također opremljena Zalar rotacijskim priborom, što će također omogućiti, u kombinaciji s upotrebom GCIS-a, homogeno jetkanje površina, s minimalnim udarcem, čak i uzoraka u prahu. (Croatian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Zahtijeva se nabava ionskog izvora plinskog klastera (GCIS) za ažuriranje ultra spektrometra Kratos osi, koji pruža usluge u jedinici za fotoelektronsku spektroskopiju Središnje službe za znanstvena i tehnološka istraživanja Sveučilišta Cádiz (UEF-UCA). Uključivanjem GCIS-a zamijenit će se izvor iona Minibeam I, instaliran u opremu od njezine nabave, a koji je izvor niskih performansi koji nije prikladan za pružanje usluge s razinom kvalitete koju zahtijevaju korisnici UEF-UCA-e. Ugradnja GCIS-a u opremu omogućit će obavljanje dubinskih studija profila, s visokim performansama i malim kemijskim oštećenjem, izbjegavajući promjene u elementarnoj distribuciji površinskih vrsta ili promjene u oksidacijskom stanju i/ili kemijskom okruženju elemenata. U tom smislu, upotreba GCIS-a omogućuje jetkanje širokog raspona površina: metali, oksidi, poluvodiči, organski polimeri ili čak biološki materijali. Ažuriranje UEF-UCA s visokoučinkovitim ionskim izvorom omogućit će jedinici da ponudi bolju uslugu, s obzirom na to da je jedinica također opremljena Zalar rotacijskim priborom, što će također omogućiti, u kombinaciji s upotrebom GCIS-a, homogeno jetkanje površina, s minimalnim udarcem, čak i uzoraka u prahu. (Croatian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Förvärvet av en gasklusterjonkälla (GCIS) för att uppdatera Kratos Axis Ultraspektrometer, som tillhandahåller tjänster i Photoelectron Spectroscopy Unit vid Central Scientific and Technological Research Services vid University of Cádiz (UEF-UCA), begärs. Införandet av ett GCIS kommer att ersätta Minibeam I-jonkällan, som installerats i utrustningen sedan den förvärvades, och som är en källa med låg prestanda som inte är tillräcklig för att tillhandahålla tjänsten den kvalitetsnivå som UEF-UCA-användarna kräver. Installationen av GCIS i utrustningen kommer att göra det möjligt för den att utföra djupprofilstudier, med hög prestanda och liten kemisk skada, för att undvika förändringar i grundämnets fördelning av ytarterna eller förändringar i grundämnenas oxidationstillstånd och/eller kemiska miljö. I detta avseende gör användningen av GCIS det möjligt att utföra etsning av en mängd olika ytor: metaller, oxider, halvledare, organiska polymerer eller till och med biologiska material. Uppdateringen av UEF-UCA med den högpresterande jonkällan kommer att göra det möjligt för enheten att erbjuda en bättre service, med tanke på att enheten också är utrustad med ett Zalar rotationstillbehör, vilket också kommer att möjliggöra, i kombination med användning av GCIS, homogen etsning av ytorna, med minsta möjliga påverkan, även av pulverprover. (Swedish) | |||||||||||||||
| Property / summary: Förvärvet av en gasklusterjonkälla (GCIS) för att uppdatera Kratos Axis Ultraspektrometer, som tillhandahåller tjänster i Photoelectron Spectroscopy Unit vid Central Scientific and Technological Research Services vid University of Cádiz (UEF-UCA), begärs. Införandet av ett GCIS kommer att ersätta Minibeam I-jonkällan, som installerats i utrustningen sedan den förvärvades, och som är en källa med låg prestanda som inte är tillräcklig för att tillhandahålla tjänsten den kvalitetsnivå som UEF-UCA-användarna kräver. Installationen av GCIS i utrustningen kommer att göra det möjligt för den att utföra djupprofilstudier, med hög prestanda och liten kemisk skada, för att undvika förändringar i grundämnets fördelning av ytarterna eller förändringar i grundämnenas oxidationstillstånd och/eller kemiska miljö. I detta avseende gör användningen av GCIS det möjligt att utföra etsning av en mängd olika ytor: metaller, oxider, halvledare, organiska polymerer eller till och med biologiska material. Uppdateringen av UEF-UCA med den högpresterande jonkällan kommer att göra det möjligt för enheten att erbjuda en bättre service, med tanke på att enheten också är utrustad med ett Zalar rotationstillbehör, vilket också kommer att möjliggöra, i kombination med användning av GCIS, homogen etsning av ytorna, med minsta möjliga påverkan, även av pulverprover. (Swedish) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Förvärvet av en gasklusterjonkälla (GCIS) för att uppdatera Kratos Axis Ultraspektrometer, som tillhandahåller tjänster i Photoelectron Spectroscopy Unit vid Central Scientific and Technological Research Services vid University of Cádiz (UEF-UCA), begärs. Införandet av ett GCIS kommer att ersätta Minibeam I-jonkällan, som installerats i utrustningen sedan den förvärvades, och som är en källa med låg prestanda som inte är tillräcklig för att tillhandahålla tjänsten den kvalitetsnivå som UEF-UCA-användarna kräver. Installationen av GCIS i utrustningen kommer att göra det möjligt för den att utföra djupprofilstudier, med hög prestanda och liten kemisk skada, för att undvika förändringar i grundämnets fördelning av ytarterna eller förändringar i grundämnenas oxidationstillstånd och/eller kemiska miljö. I detta avseende gör användningen av GCIS det möjligt att utföra etsning av en mängd olika ytor: metaller, oxider, halvledare, organiska polymerer eller till och med biologiska material. Uppdateringen av UEF-UCA med den högpresterande jonkällan kommer att göra det möjligt för enheten att erbjuda en bättre service, med tanke på att enheten också är utrustad med ett Zalar rotationstillbehör, vilket också kommer att möjliggöra, i kombination med användning av GCIS, homogen etsning av ytorna, med minsta möjliga påverkan, även av pulverprover. (Swedish) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Se solicită achiziționarea unei surse de ioni de gaze (GCIS) pentru actualizarea spectrometrului Kratos Axis, care oferă servicii în Unitatea de Spectroscopie Fotoelectronică a Serviciilor de Cercetare Științifică și Tehnologică Centrală a Universității din Cádiz (UEF-UCA). Incorporarea unui GCIS va inlocui sursa de ioni Minibeam I, instalata in echipament inca de la achizitie, si care este sursa de performanta scazuta, care nu este adecvata pentru a furniza serviciul cu nivelul de calitate cerut de utilizatorii UEF-UCA. Instalarea GCIS în echipament îi va permite să efectueze studii de profil de adâncime, cu performanțe ridicate și mici daune chimice, evitând schimbările în distribuția elementară a speciilor de suprafață sau modificări ale stării de oxidare și/sau a mediului chimic al elementelor. În acest sens, utilizarea GCIS permite realizarea gravurii unei game largi de suprafețe: metale, oxizi, semiconductori, polimeri organici sau chiar materiale biologice. Actualizarea UEF-UCA cu sursa de ioni de înaltă performanță va permite unității să ofere un serviciu mai bun, având în vedere că unitatea este, de asemenea, echipată cu un accesoriu de rotație Zalar, care va permite, de asemenea, în combinație cu utilizarea GCIS, gravarea omogenă a suprafețelor, cu impactul minim, chiar și a probelor sub formă de pulbere. (Romanian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Se solicită achiziționarea unei surse de ioni de gaze (GCIS) pentru actualizarea spectrometrului Kratos Axis, care oferă servicii în Unitatea de Spectroscopie Fotoelectronică a Serviciilor de Cercetare Științifică și Tehnologică Centrală a Universității din Cádiz (UEF-UCA). Incorporarea unui GCIS va inlocui sursa de ioni Minibeam I, instalata in echipament inca de la achizitie, si care este sursa de performanta scazuta, care nu este adecvata pentru a furniza serviciul cu nivelul de calitate cerut de utilizatorii UEF-UCA. Instalarea GCIS în echipament îi va permite să efectueze studii de profil de adâncime, cu performanțe ridicate și mici daune chimice, evitând schimbările în distribuția elementară a speciilor de suprafață sau modificări ale stării de oxidare și/sau a mediului chimic al elementelor. În acest sens, utilizarea GCIS permite realizarea gravurii unei game largi de suprafețe: metale, oxizi, semiconductori, polimeri organici sau chiar materiale biologice. Actualizarea UEF-UCA cu sursa de ioni de înaltă performanță va permite unității să ofere un serviciu mai bun, având în vedere că unitatea este, de asemenea, echipată cu un accesoriu de rotație Zalar, care va permite, de asemenea, în combinație cu utilizarea GCIS, gravarea omogenă a suprafețelor, cu impactul minim, chiar și a probelor sub formă de pulbere. (Romanian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Se solicită achiziționarea unei surse de ioni de gaze (GCIS) pentru actualizarea spectrometrului Kratos Axis, care oferă servicii în Unitatea de Spectroscopie Fotoelectronică a Serviciilor de Cercetare Științifică și Tehnologică Centrală a Universității din Cádiz (UEF-UCA). Incorporarea unui GCIS va inlocui sursa de ioni Minibeam I, instalata in echipament inca de la achizitie, si care este sursa de performanta scazuta, care nu este adecvata pentru a furniza serviciul cu nivelul de calitate cerut de utilizatorii UEF-UCA. Instalarea GCIS în echipament îi va permite să efectueze studii de profil de adâncime, cu performanțe ridicate și mici daune chimice, evitând schimbările în distribuția elementară a speciilor de suprafață sau modificări ale stării de oxidare și/sau a mediului chimic al elementelor. În acest sens, utilizarea GCIS permite realizarea gravurii unei game largi de suprafețe: metale, oxizi, semiconductori, polimeri organici sau chiar materiale biologice. Actualizarea UEF-UCA cu sursa de ioni de înaltă performanță va permite unității să ofere un serviciu mai bun, având în vedere că unitatea este, de asemenea, echipată cu un accesoriu de rotație Zalar, care va permite, de asemenea, în combinație cu utilizarea GCIS, gravarea omogenă a suprafețelor, cu impactul minim, chiar și a probelor sub formă de pulbere. (Romanian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Zahteva se nakup ionskega vira plinskega grozda (GCIS) za posodobitev ultra spektrometra Kratosove osi, ki zagotavlja storitve v enoti za fotoelektronsko spektroskopijo osrednjih znanstvenih in tehnoloških raziskovalnih služb Univerze v Cádizu (UEF-UCA). Vključitev GCIS bo nadomestila vir ionov Minibeam I, nameščen v opremo od njegove pridobitve in ki je nizko zmogljiv vir, ki ne zadostuje za zagotavljanje ravni kakovosti, ki jo zahtevajo uporabniki UEF-UCA. Namestitev GCIS v opremo bo omogočila izvajanje študij globinskega profila z visoko zmogljivostjo in majhnimi kemičnimi poškodbami, pri čemer se je treba izogniti spremembam v elementarni porazdelitvi površinskih vrst ali spremembam v oksidacijskem stanju in/ali kemičnem okolju elementov. V tem smislu uporaba GCIS omogoča izvajanje jedkanja različnih površin: kovine, oksidi, polprevodniki, organski polimeri ali celo biološki materiali. Posodobitev UEF-UCA z visokozmogljivim ionskim virom bo enoti omogočila boljšo storitev, saj je enota opremljena tudi z opremo za vrtenje Zalar, ki bo v kombinaciji z uporabo GCIS omogočila tudi homogeno jedkanje površin z najmanjšim vplivom, tudi vzorcev v prahu. (Slovenian) | |||||||||||||||
| Property / summary: Zahteva se nakup ionskega vira plinskega grozda (GCIS) za posodobitev ultra spektrometra Kratosove osi, ki zagotavlja storitve v enoti za fotoelektronsko spektroskopijo osrednjih znanstvenih in tehnoloških raziskovalnih služb Univerze v Cádizu (UEF-UCA). Vključitev GCIS bo nadomestila vir ionov Minibeam I, nameščen v opremo od njegove pridobitve in ki je nizko zmogljiv vir, ki ne zadostuje za zagotavljanje ravni kakovosti, ki jo zahtevajo uporabniki UEF-UCA. Namestitev GCIS v opremo bo omogočila izvajanje študij globinskega profila z visoko zmogljivostjo in majhnimi kemičnimi poškodbami, pri čemer se je treba izogniti spremembam v elementarni porazdelitvi površinskih vrst ali spremembam v oksidacijskem stanju in/ali kemičnem okolju elementov. V tem smislu uporaba GCIS omogoča izvajanje jedkanja različnih površin: kovine, oksidi, polprevodniki, organski polimeri ali celo biološki materiali. Posodobitev UEF-UCA z visokozmogljivim ionskim virom bo enoti omogočila boljšo storitev, saj je enota opremljena tudi z opremo za vrtenje Zalar, ki bo v kombinaciji z uporabo GCIS omogočila tudi homogeno jedkanje površin z najmanjšim vplivom, tudi vzorcev v prahu. (Slovenian) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Zahteva se nakup ionskega vira plinskega grozda (GCIS) za posodobitev ultra spektrometra Kratosove osi, ki zagotavlja storitve v enoti za fotoelektronsko spektroskopijo osrednjih znanstvenih in tehnoloških raziskovalnih služb Univerze v Cádizu (UEF-UCA). Vključitev GCIS bo nadomestila vir ionov Minibeam I, nameščen v opremo od njegove pridobitve in ki je nizko zmogljiv vir, ki ne zadostuje za zagotavljanje ravni kakovosti, ki jo zahtevajo uporabniki UEF-UCA. Namestitev GCIS v opremo bo omogočila izvajanje študij globinskega profila z visoko zmogljivostjo in majhnimi kemičnimi poškodbami, pri čemer se je treba izogniti spremembam v elementarni porazdelitvi površinskih vrst ali spremembam v oksidacijskem stanju in/ali kemičnem okolju elementov. V tem smislu uporaba GCIS omogoča izvajanje jedkanja različnih površin: kovine, oksidi, polprevodniki, organski polimeri ali celo biološki materiali. Posodobitev UEF-UCA z visokozmogljivim ionskim virom bo enoti omogočila boljšo storitev, saj je enota opremljena tudi z opremo za vrtenje Zalar, ki bo v kombinaciji z uporabo GCIS omogočila tudi homogeno jedkanje površin z najmanjšim vplivom, tudi vzorcev v prahu. (Slovenian) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / summary | |||||||||||||||
Wymagane jest nabycie źródła jonowego klastra gazowego (GCIS) w celu aktualizacji spektrometru Ultra Kratos Axis, który świadczy usługi w dziale spektroskopii fotoelektronowej Centralnej Służby Badań Naukowo-Technologicznych Uniwersytetu w Kadyksie (UEF-UCA). Włączenie GCIS zastąpi źródło jonów Minibeam I, zainstalowane w urządzeniu od momentu jego nabycia, i które jest źródłem o niskiej wydajności, które nie jest odpowiednie do świadczenia usługi na poziomie jakości wymaganym przez użytkowników UEF-UCA. Instalacja GCIS w urządzeniu pozwoli mu na przeprowadzenie badań profilu głębokości przy wysokiej wydajności i niewielkim uszkodzeniu chemicznym, unikając zmian w rozkładzie pierwiastkowym gatunków powierzchniowych lub zmian stanu utleniania i/lub środowiska chemicznego pierwiastków. W tym sensie zastosowanie GCIS pozwala na wytrawienie szerokiej gamy powierzchni: metale, tlenki, półprzewodniki, polimery organiczne, a nawet materiały biologiczne. Aktualizacja UEF-UCA o wysokowydajne źródło jonów pozwoli jednostce zaoferować lepszą obsługę, biorąc pod uwagę, że urządzenie jest również wyposażone w akcesorium rotacyjne Zalar, co pozwoli również, w połączeniu z wykorzystaniem GCIS, na jednorodne wytrawienie powierzchni, przy minimalnym uderzeniu, nawet sproszkowanych próbek. (Polish) | |||||||||||||||
| Property / summary: Wymagane jest nabycie źródła jonowego klastra gazowego (GCIS) w celu aktualizacji spektrometru Ultra Kratos Axis, który świadczy usługi w dziale spektroskopii fotoelektronowej Centralnej Służby Badań Naukowo-Technologicznych Uniwersytetu w Kadyksie (UEF-UCA). Włączenie GCIS zastąpi źródło jonów Minibeam I, zainstalowane w urządzeniu od momentu jego nabycia, i które jest źródłem o niskiej wydajności, które nie jest odpowiednie do świadczenia usługi na poziomie jakości wymaganym przez użytkowników UEF-UCA. Instalacja GCIS w urządzeniu pozwoli mu na przeprowadzenie badań profilu głębokości przy wysokiej wydajności i niewielkim uszkodzeniu chemicznym, unikając zmian w rozkładzie pierwiastkowym gatunków powierzchniowych lub zmian stanu utleniania i/lub środowiska chemicznego pierwiastków. W tym sensie zastosowanie GCIS pozwala na wytrawienie szerokiej gamy powierzchni: metale, tlenki, półprzewodniki, polimery organiczne, a nawet materiały biologiczne. Aktualizacja UEF-UCA o wysokowydajne źródło jonów pozwoli jednostce zaoferować lepszą obsługę, biorąc pod uwagę, że urządzenie jest również wyposażone w akcesorium rotacyjne Zalar, co pozwoli również, w połączeniu z wykorzystaniem GCIS, na jednorodne wytrawienie powierzchni, przy minimalnym uderzeniu, nawet sproszkowanych próbek. (Polish) / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / summary: Wymagane jest nabycie źródła jonowego klastra gazowego (GCIS) w celu aktualizacji spektrometru Ultra Kratos Axis, który świadczy usługi w dziale spektroskopii fotoelektronowej Centralnej Służby Badań Naukowo-Technologicznych Uniwersytetu w Kadyksie (UEF-UCA). Włączenie GCIS zastąpi źródło jonów Minibeam I, zainstalowane w urządzeniu od momentu jego nabycia, i które jest źródłem o niskiej wydajności, które nie jest odpowiednie do świadczenia usługi na poziomie jakości wymaganym przez użytkowników UEF-UCA. Instalacja GCIS w urządzeniu pozwoli mu na przeprowadzenie badań profilu głębokości przy wysokiej wydajności i niewielkim uszkodzeniu chemicznym, unikając zmian w rozkładzie pierwiastkowym gatunków powierzchniowych lub zmian stanu utleniania i/lub środowiska chemicznego pierwiastków. W tym sensie zastosowanie GCIS pozwala na wytrawienie szerokiej gamy powierzchni: metale, tlenki, półprzewodniki, polimery organiczne, a nawet materiały biologiczne. Aktualizacja UEF-UCA o wysokowydajne źródło jonów pozwoli jednostce zaoferować lepszą obsługę, biorąc pod uwagę, że urządzenie jest również wyposażone w akcesorium rotacyjne Zalar, co pozwoli również, w połączeniu z wykorzystaniem GCIS, na jednorodne wytrawienie powierzchni, przy minimalnym uderzeniu, nawet sproszkowanych próbek. (Polish) / qualifier | |||||||||||||||
point in time: 17 August 2022
| |||||||||||||||
| Property / end time | |||||||||||||||
31 March 2021
| |||||||||||||||
| Property / end time: 31 March 2021 / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / location (string) | |||||||||||||||
Puerto Real | |||||||||||||||
| Property / location (string): Puerto Real / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / postal code | |||||||||||||||
11510 | |||||||||||||||
| Property / postal code: 11510 / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / contained in NUTS | |||||||||||||||
| Property / contained in NUTS: Cádiz Province / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / contained in NUTS: Cádiz Province / qualifier | |||||||||||||||
| Property / contained in Local Administrative Unit | |||||||||||||||
| Property / contained in Local Administrative Unit: Puerto Real / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / contained in Local Administrative Unit: Puerto Real / qualifier | |||||||||||||||
| Property / coordinate location | |||||||||||||||
36°31'37.24"N, 6°11'4.70"W
| |||||||||||||||
| Property / coordinate location: 36°31'37.24"N, 6°11'4.70"W / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / coordinate location: 36°31'37.24"N, 6°11'4.70"W / qualifier | |||||||||||||||
| Property / budget | |||||||||||||||
243,035.0 Euro
| |||||||||||||||
| Property / budget: 243,035.0 Euro / rank | |||||||||||||||
Preferred rank | |||||||||||||||
| Property / EU contribution | |||||||||||||||
195,789.0 Euro
| |||||||||||||||
| Property / EU contribution: 195,789.0 Euro / rank | |||||||||||||||
Preferred rank | |||||||||||||||
| Property / co-financing rate | |||||||||||||||
80.56 percent
| |||||||||||||||
| Property / co-financing rate: 80.56 percent / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
| Property / date of last update | |||||||||||||||
20 December 2023
| |||||||||||||||
| Property / date of last update: 20 December 2023 / rank | |||||||||||||||
Normal rank | |||||||||||||||
Latest revision as of 23:56, 8 October 2024
Project Q3150645 in Spain
| Language | Label | Description | Also known as |
|---|---|---|---|
| English | Installation of an Arn+ CLUSTER IONES FUENT to improve the capacity of the photoelectron SPECTROSCOPY Unit |
Project Q3150645 in Spain |
Statements
195,789.0 Euro
0 references
243,035.0 Euro
0 references
80.56 percent
0 references
1 January 2018
0 references
31 March 2021
0 references
UNIVERSIDAD DE CADIZ
0 references
11510
0 references
Se solicita la adquisición de una fuente de iones de clúster de Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) para su incorporación al equipo Kratos Axis Ultra que presta servicio en la Unidad de Espectroscopía de Fotoelectrones de los Servicios Centrales de Investigación Científica y Tecnológica de la Universidad de Cádiz (UEF-UCA). La incorporación de una GCIS reemplazará la fuente de iones Minibeam I, instalada en el equipo desde su adquisición, que se trata de una fuente de iones de muy bajas prestaciones, y que no es capaz de prestar el servicio de calidad que se le demanda a la UEF-UCA. La instalación de la GCIS en el equipo permitirá realizar estudios de perfiles de profundidad, de manera efectiva y con un mínimo daño químico, en relación tanto a cambios de la distribución elemental de las especies que componen las superficies que se van generando con el desbastado iónico, como a cambios en el estado de oxidación y/o entorno químico de los elementos expuestos. En este sentido, el uso de la GCIS permite realizar el desbastado iónico de una amplia variedad de superficies: metales, óxidos, semiconductores, polímeros orgánicos o materiales biológicos. La actualización de la UEF-UCA con la fuente de iones de altas prestaciones permitirá a la unidad ofrecer un mejor servicio, habida cuenta de que el sistema dispone de un accesorio de rotación Zalar, que permitirá igualmente, en combinación con el uso de la GCIS, el decapado homogéneo y con el mínimo impacto, incluso de muestras en polvo (Spanish)
0 references
The acquisition of a Gas Cluster Ion Source (GCIS) to update the Kratos Axis Ultra spectrometer, that provides services in the Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), is requested. The incorporation of a GCIS will replace the Minibeam I ion source, installed in the equipment since its acquisition, and which is low performance source that is not adequate to provide the service with the quality level demanded by the UEF-UCA users. The installation of the GCIS in the equipment will allow it to perform depth profile studies, with high performance, and little chemical damage, avoiding changes in the elemental distribution of the surface species, or changes in the oxidation state and/or chemical environment of the elements. In this sense, the use of the GCIS allows to perform the etching of a wide variety of surfaces: metals, oxides, semiconductors, organic polymers or even biological materials. The update of the UEF-UCA with the high-performance ion source will allow the unit to offer a better service, given that the unit is also equipped with a Zalar rotation accessory, which will also allow, in combination with the use of the GCIS, the homogeneous etching of the surfaces, with the minimum impact, even of powdered samples. (English)
0.5109417934300942
0 references
Nous demandons l’acquisition d’une source d’ions clusters auprès d’Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) en vue de son incorporation dans l’équipe Kratos Axis Ultra qui sert dans l’unité de spectroscopie photoélectronique des services centraux de recherche scientifique et technologique de l’Université de Cadiz (UEF-UCA). L’incorporation d’un GCIS remplacera la source ionique minibeam I, installée dans l’équipement depuis son acquisition, qui est une source d’ions très peu performants et qui n’est pas en mesure de fournir le service de qualité requis par l’UEF-UCA. L’installation du GCIS dans l’équipement permettra d’effectuer des études de profils de profondeur, efficacement et avec des dommages chimiques minimes, tant en ce qui concerne les changements dans la répartition élémentaire des espèces qui composent les surfaces générées par l’oxydation ionique que les changements dans l’état d’oxydation ou l’environnement chimique des éléments exposés. En ce sens, l’utilisation de GCIS permet le rugissement ionique d’une grande variété de surfaces: métaux, oxydes, semi-conducteurs, polymères organiques ou matériaux biologiques. La mise à jour de l’UEF-UCA avec la source d’ions haute performance permettra à l’unité d’offrir un meilleur service, étant donné que le système dispose d’un accessoire de rotation Zalar, qui permettra également, en combinaison avec l’utilisation de GCIS, un décapage homogène et avec un impact minimal, y compris des échantillons de poudre. (French)
2 December 2021
0 references
Wir fordern die Übernahme einer Quelle von Clusterionen von Ar (GCIS, Gascluster Ion Source) zur Aufnahme in das Kratos Axis Ultra Team, das in der Photoelectron Spectroscopy Unit der Central Scientific and Technological Research Services der University of Cadiz (UEF-UCA) dient. Der Einbau eines GCIS ersetzt die Ionenquelle Minibeam I, die seit ihrer Übernahme in die Anlage eingebaut ist, die eine Quelle für sehr niedrige Ionen ist und die nicht in der Lage ist, den von UEF-UCA geforderten Qualitätsdienst zu erbringen. Der Einbau des GCIS in die Ausrüstung ermöglicht es, Tiefenprofile effektiv und mit minimalen chemischen Schäden zu untersuchen, sowohl in Bezug auf Veränderungen der Elementverteilung der Art, die die mit dem Ionenrauchen erzeugten Flächen bilden, als auch zu Veränderungen im Zustand der Oxidation oder der chemischen Umgebung der exponierten Elemente. In diesem Sinne ermöglicht der Einsatz von GCIS das Ionenrauschen einer Vielzahl von Oberflächen: Metalle, Oxiden, Halbleiter, organische Polymere oder biologische Materialien. Die Aktualisierung des UEF-UCA mit der leistungsstarken Ionenquelle ermöglicht es dem Gerät, einen besseren Service zu bieten, da das System über ein Zalar-Rotationszubehör verfügt, das in Kombination mit der Verwendung von GCIS auch homogene Beizen und mit minimalem Aufprall, einschließlich Pulverproben, ermöglicht. (German)
9 December 2021
0 references
Wij verzoeken om de verwerving van een bron van clusterionen van Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) voor opname in het Kratos Axis Ultra-team dat dient in de Photoelectron Spectroscopie-eenheid van de Centrale Wetenschappelijke en Technologische Onderzoeksdiensten van de Universiteit van Cadiz (UEF-UCA). De integratie van een GCIS vervangt de minibeam I-ionenbron die sinds de aanschaf ervan in de apparatuur is geïnstalleerd, een bron van zeer lage prestatie-ionen, en die niet in staat is de kwaliteitsdienst te leveren die vereist is voor UEF-UCA. De installatie van het GCIS in de apparatuur zal het mogelijk maken om onderzoek uit te voeren naar diepteprofielen, effectief en met minimale chemische schade, zowel met betrekking tot veranderingen in de elementaire verspreiding van de soorten die deel uitmaken van de oppervlakken die worden gegenereerd met het ionenruwen, als met veranderingen in de staat van oxidatie of chemische omgeving van de blootgestelde elementen. In deze zin maakt het gebruik van GCIS het mogelijk om een grote verscheidenheid aan oppervlakken te bewerken: metalen, oxiden, halfgeleiders, organische polymeren of biologische materialen. Het bijwerken van de UEF-UCA met de krachtige ionenbron zal de eenheid in staat stellen een betere service te bieden, aangezien het systeem een Zalar rotatieaccessoire heeft, waardoor, in combinatie met het gebruik van GCIS, homogene beitsen en met minimale impact, inclusief poedermonsters, mogelijk zijn. (Dutch)
17 December 2021
0 references
Chiediamo l'acquisizione di una fonte di ioni cluster da Ar (GCIS, Gas Cluster Ion Source) per essere incorporata nel team Kratos Axis Ultra che serve nell'Unità spettroscopia fotoelettronica dei Servizi Centrali di Ricerca Scientifica e Tecnologica dell'Università di Cadice (UEF-UCA). L'incorporazione di un GCIS sostituirà la sorgente ionica minibeam I, installata nell'apparecchiatura sin dalla sua acquisizione, che è una fonte di ioni a bassissime prestazioni e che non è in grado di fornire il servizio di qualità richiesto da UEF-UCA. L'installazione del GCIS nell'apparecchiatura consentirà di effettuare studi di profili di profondità, in modo efficace e con minimi danni chimici, sia in relazione alle variazioni nella distribuzione elementare delle specie che compongono le superfici generate con la sgrossatura ionica, sia ai cambiamenti nello stato di ossidazione o ambiente chimico degli elementi esposti. In questo senso, l'uso del GCIS consente la sgrossatura ionica di un'ampia varietà di superfici: metalli, ossidi, semiconduttori, polimeri organici o materiali biologici. L'aggiornamento dell'UEF-UCA con la sorgente ionica ad alte prestazioni consentirà all'unità di offrire un servizio migliore, dato che il sistema ha un accessorio di rotazione Zalar, che consentirà anche, in combinazione con l'uso di GCIS, decapaggio omogeneo e con impatto minimo, inclusi campioni di polvere. (Italian)
16 January 2022
0 references
Ζητείται η απόκτηση μιας πηγής ιόντων συστάδων αερίου (GCIS) για την επικαιροποίηση του φασματόμετρου του άξονα Kratos Ultra, που παρέχει υπηρεσίες στη Μονάδα Φασματοσκοπίας Φωτοηλεκτρονίων της Κεντρικής Επιστημονικής και Τεχνολογικής Έρευνας του Πανεπιστημίου του Cádiz (UEF-UCA). Η ενσωμάτωση ενός GCIS θα αντικαταστήσει την πηγή ιόντων Minibeam I, η οποία είναι εγκατεστημένη στον εξοπλισμό από την αγορά του, και η οποία είναι πηγή χαμηλής απόδοσης που δεν είναι επαρκής για την παροχή της υπηρεσίας με το επίπεδο ποιότητας που απαιτούν οι χρήστες UEF-UCA. Η εγκατάσταση του GCIS στον εξοπλισμό θα του επιτρέψει να διεξάγει μελέτες προφίλ βάθους, με υψηλές επιδόσεις και ελάχιστες χημικές βλάβες, αποφεύγοντας αλλαγές στη στοιχειώδη κατανομή των επιφανειακών ειδών ή αλλαγές στην κατάσταση οξείδωσης ή/και στο χημικό περιβάλλον των στοιχείων. Υπό την έννοια αυτή, η χρήση του GCIS επιτρέπει την εκτέλεση της χάραξης μιας ευρείας ποικιλίας επιφανειών: μέταλλα, οξείδια, ημιαγωγοί, οργανικά πολυμερή ή ακόμη και βιολογικά υλικά. Η επικαιροποίηση του UEF-UCA με την πηγή ιόντων υψηλής απόδοσης θα επιτρέψει στη μονάδα να προσφέρει καλύτερη εξυπηρέτηση, δεδομένου ότι η μονάδα είναι επίσης εξοπλισμένη με εξάρτημα περιστροφής Zalar, το οποίο θα επιτρέψει επίσης, σε συνδυασμό με τη χρήση του GCIS, την ομοιογενή χάραξη των επιφανειών, με την ελάχιστη πρόσκρουση, ακόμη και των κονιοποιημένων δειγμάτων. (Greek)
17 August 2022
0 references
Køb af en Gas Cluster Ion Source (GCIS) til at opdatere Kratos Axis Ultra spektrometer, der leverer tjenester i Photoelectron Spectroscopy Unit of the Central Scientific and Technological Research Services of the University of Cádiz (UEF-UCA), anmodes om. Inkorporeringen af en GCIS vil erstatte Minibeam I-ion-kilden, der er installeret i udstyret siden erhvervelsen, og som er en kilde med lav ydeevne, som ikke er tilstrækkelig til at levere tjenesten med det kvalitetsniveau, som UEF-UCA-brugerne kræver. Installationen af GCIS i udstyret vil gøre det muligt at udføre dybdeprofil undersøgelser, med høj ydeevne, og lidt kemisk skade, undgå ændringer i den elementære fordeling af overfladearter, eller ændringer i oxidation tilstand og/eller kemiske miljø af elementerne. I denne forstand giver brugen af GCIS mulighed for at udføre ætsning af en bred vifte af overflader: metaller, oxider, halvledere, organiske polymerer eller endog biologiske materialer. Opdateringen af UEF-UCA med den højtydende ionkilde vil gøre det muligt for enheden at tilbyde en bedre service, da enheden også er udstyret med et Zalar rotationstilbehør, som i kombination med brugen af GCIS også vil give mulighed for en homogen ætsning af overfladerne, med minimal indvirkning, selv af pulveriserede prøver. (Danish)
17 August 2022
0 references
Pyydetään hankkimaan kaasuklusteri-ionilähde (GCIS) päivittämään Kratos Axis Ultra -spektrometri, joka tarjoaa palveluja Cádizin yliopiston (UEF-UCA) tiede- ja teknologiatutkimuspalvelujen (UEF-UCA) keskitetyn tiede- ja teknologiatutkimuksen yksikön Photoelectron Spectroscopy Unit -yksikössä. GCIS-järjestelmän käyttöönotto korvaa Minibeam I -ionilähteen, joka on asennettu laitteisiin sen hankinnan jälkeen ja joka on heikko suorituskykyinen lähde, joka ei riitä tarjoamaan palvelua UEF-UCA:n käyttäjien vaatiman laatutason mukaisesti. GCIS: n asentaminen laitteisiin mahdollistaa syvyysprofiilin tutkimukset, joilla on korkea suorituskyky, ja vähäiset kemialliset vauriot välttäen pintalajin alkuainejakauman muutoksia tai alkuaineiden hapettumistilassa ja/tai kemiallisessa ympäristössä tapahtuvia muutoksia. Tässä mielessä GCIS: n käyttö mahdollistaa useiden eri pintojen syövytyksen: metallit, oksidit, puolijohteet, orgaaniset polymeerit tai jopa biologiset materiaalit. UEF-UCA:n päivittäminen korkean suorituskyvyn ionilähteellä mahdollistaa sen, että yksikkö voi tarjota parempaa palvelua, koska yksikössä on myös Zalar-kiertolisälaite, joka mahdollistaa GCIS:n käytön lisäksi myös pintojen homogeenisen etsauksen, jolla on mahdollisimman vähäinen vaikutus, jopa jauhettujen näytteiden kanssa. (Finnish)
17 August 2022
0 references
L-akkwist ta’ Sors Ion Cluster tal-Gass (GCIS) biex jaġġorna l-Kratos Axis Ultra spettrometru, li jipprovdi servizzi fl-Unità tal-Ispettroskopija Photoelectron tas-Servizzi ta’ Riċerka Xjentifika u Teknoloġika Ċentrali tal-Università ta’ Cádiz (UEF-UCA), huwa mitlub. L-inkorporazzjoni ta’ GCIS se tissostitwixxi s-sors tal-jone Minibeam I, installat fit-tagħmir mill-akkwist tiegħu, u li huwa sors ta’ prestazzjoni baxxa li mhuwiex adegwat biex jipprovdi s-servizz bil-livell ta’ kwalità mitlub mill-utenti tal-UEF-UCA. L-installazzjoni tal-GCIS fit-tagħmir se tippermettilha twettaq studji tal-profil tal-fond, bi prestazzjoni għolja, u ftit ħsara kimika, filwaqt li tevita bidliet fid-distribuzzjoni elementali tal-ispeċi tal-wiċċ, jew bidliet fl-istat ta’ ossidazzjoni u/jew fl-ambjent kimiku tal-elementi. F’dan is-sens, l-użu tal-GCIS jippermetti li jitwettaq l-inċiżjoni ta’ varjetà wiesgħa ta’ uċuħ: metalli, ossidi, semikondutturi, polimeri organiċi jew saħansitra materjali bijoloġiċi. L-aġġornament tal-UEF-UCA bis-sors ta’ joni ta’ prestazzjoni għolja se jippermetti lill-unità toffri servizz aħjar, peress li l-unità hija mgħammra wkoll b’aċċessorju ta’ rotazzjoni Zalar, li jippermetti wkoll, flimkien mal-użu tal-GCIS, l-inċiżjoni omoġenja tal-uċuħ, bl-impatt minimu, anke ta’ kampjuni f’forma ta’ trab. (Maltese)
17 August 2022
0 references
Tiek pieprasīta gāzes klastera jonu avota (GCIS) iegāde, lai atjauninātu Kratos Axis Ultra spektrometru, kas sniedz pakalpojumus Kadisas Universitātes Centrālās zinātniskās un tehnoloģiskās izpētes pakalpojumu (UEF-UCA) Fotoelectron spektroskopijas nodaļā. GCIS iekļaušana aizstās Minibeam I jonu avotu, kas uzstādīts iekārtā kopš tā iegādes un kas ir zemas veiktspējas avots, kas nav pietiekams, lai sniegtu pakalpojumu ar kvalitātes līmeni, ko pieprasa UEF-UCA lietotāji. GCIS uzstādīšana iekārtā ļaus tai veikt dziļuma profila pētījumus ar augstu veiktspēju un mazu ķīmisku bojājumu, izvairoties no izmaiņām virsmas sugu elementārajā sadalījumā vai izmaiņām elementu oksidācijas stāvoklī un/vai ķīmiskajā vidē. Šajā ziņā GCIS izmantošana ļauj veikt visdažādāko virsmu kodināšanu: metāli, oksīdi, pusvadītāji, organiskie polimēri vai pat bioloģiski materiāli. UEF-UCA atjaunināšana ar augstas veiktspējas jonu avotu ļaus vienībai piedāvāt labākus pakalpojumus, ņemot vērā, ka ierīce ir aprīkota arī ar Zalar rotācijas piederumu, kas kopā ar GCIS izmantošanu ļaus arī viendabīgu virsmu kodināšanu ar minimālu triecienu pat pulverveida paraugiem. (Latvian)
17 August 2022
0 references
Požaduje sa akvizícia iónového zdroja plynového klastra (GCIS) na aktualizáciu spektrometra Kratos Axis Ultra, ktorý poskytuje služby v jednotke fotoelektrónovej spektroskopie Ústrednej vedecko-technickej výskumnej služby Cádizskej univerzity (UEF-UCA). Zabudovaním systému GCIS sa nahradí zdroj iónov Minibeam I nainštalovaný v zariadení od jeho nadobudnutia a ktorý je zdrojom s nízkou výkonnosťou, ktorý nie je dostatočný na to, aby poskytoval službu na úrovni kvality požadovanej používateľmi UEF-UCA. Inštalácia GCIS do zariadenia mu umožní vykonávať hĺbkové profilové štúdie s vysokým výkonom a malým chemickým poškodením, čím sa zabráni zmenám elementárneho rozloženia povrchových druhov alebo zmenám v oxidačnom stave a/alebo chemickom prostredí prvkov. V tomto zmysle používanie GCIS umožňuje vykonávať leptanie širokej škály povrchov: kovy, oxidy, polovodiče, organické polyméry alebo dokonca biologické materiály. Aktualizácia UEF-UCA s vysokovýkonným zdrojom iónov umožní jednotke ponúknuť lepšie služby vzhľadom na to, že jednotka je vybavená aj Zalarovým rotačným doplnkom, ktorý v kombinácii s použitím GCIS tiež umožní homogénne leptanie povrchov s minimálnym dopadom aj práškových vzoriek. (Slovak)
17 August 2022
0 references
Iarrtar éadáil Foinse ian Braisle Gáis (GCIS) chun an Ultra-speictriméadar Kratos Axis a nuashonrú, a sholáthraíonn seirbhísí in Aonad Speictreascópachta Photoelectron de Lársheirbhísí Taighde Eolaíochta agus Teicneolaíochta Ollscoil Cádiz (UEF-UCA). Cuirfidh ionchorprú GCIS in ionad an fhoinse ian Minibeam I, suiteáilte sa trealamh ó fuarthas é, agus a bhfuil foinse feidhmíochta íseal nach bhfuil leordhóthanach chun an tseirbhís a sholáthar leis an leibhéal cáilíochta a éilíonn úsáideoirí UEF-UCA. Ligfidh suiteáil an GCIS sa trealamh staidéir ar phróifíl dhoimhne a dhéanamh, le hardfheidhmíocht, agus damáiste beag ceimiceach, ag seachaint athruithe i ndáileadh eiliminteach na speiceas dromchla, nó athruithe i staid ocsaídiúcháin agus/nó timpeallacht cheimiceach na n-eilimintí. Sa chiall seo, ligeann úsáid an GCIS raon leathan dromchlaí a eitseáil: miotail, ocsaídí, leathsheoltóirí, polaiméirí orgánacha nó fiú ábhair bhitheolaíocha. Tabharfaidh nuashonrú UEF-UCA leis an bhfoinse ian ardfheidhmíochta deis don aonad seirbhís níos fearr a thairiscint, ós rud é go bhfuil cúlpháirtí uainíochta Zalar feistithe freisin, rud a cheadóidh freisin, in éineacht le húsáid an GCIS, eitseáil aonchineálach na ndromchlaí, leis an tionchar íosta, fiú samplaí púdraithe. (Irish)
17 August 2022
0 references
Požaduje se získání iontového zdroje plynového klastru (GCIS) za účelem aktualizace spektrometru Kratos Axis Ultra, který poskytuje služby v oddělení fotoelektronové spektroskopie Ústředních služeb vědeckého a technologického výzkumu Univerzity v Cádizu (UEF-UCA). Začlenění GCIS nahradí iontový zdroj Minibeam I, instalovaný v zařízení od jeho pořízení a který je zdrojem s nízkým výkonem, který není dostatečný k tomu, aby poskytoval službu úroveň kvality požadovanou uživateli UEF-UCA. Instalace GCIS do zařízení mu umožní provádět studie hloubkového profilu s vysokým výkonem a malým chemickým poškozením, aby se zabránilo změnám v elementární distribuci povrchových druhů nebo změnám v oxidačním stavu a/nebo chemickém prostředí prvků. V tomto smyslu umožňuje použití GCIS provádět leptání široké škály povrchů: kovy, oxidy, polovodiče, organické polymery nebo dokonce biologické materiály. Aktualizace UEF-UCA s vysoce výkonným iontovým zdrojem umožní jednotce nabídnout lepší službu, vzhledem k tomu, že jednotka je také vybavena zalarovým rotačním příslušenstvím, které v kombinaci s použitím GCIS umožní homogenní leptání povrchů s minimálním dopadem, a to i v práškových vzorcích. (Czech)
17 August 2022
0 references
Solicita-se a aquisição de uma Fonte Iónica de Agrupamento de Gás (GCIS) para atualização do espectrómetro Kratos Axis Ultra, que presta serviços na Unidade de Espectroscopia Fotoeletrónica dos Serviços Centrais de Investigação Científica e Tecnológica da Universidade de Cádiz (UEF-UCA). A incorporação de um GCIS substituirá a fonte de iões Minibeam I, instalada no equipamento desde a sua aquisição, e que é uma fonte de baixo desempenho que não é adequada para prestar o serviço com o nível de qualidade exigido pelos utilizadores da UEF-UCA. A instalação do SIG no equipamento lhe permitirá realizar estudos de perfil de profundidade, com alto desempenho e pouco dano químico, evitando alterações na distribuição elementar das espécies de superfície, ou alterações no estado de oxidação e/ou ambiente químico dos elementos. Neste sentido, a utilização do SIG permite realizar a gravação de uma grande variedade de superfícies: metais, óxidos, semicondutores, polímeros orgânicos ou mesmo materiais biológicos. A atualização do UEF-UCA com a fonte iónica de alto desempenho permitirá que a unidade ofereça um melhor serviço, uma vez que a unidade também está equipada com um acessório de rotação Zalar, o que permitirá também, em combinação com a utilização do GCIS, a gravação homogénea das superfícies, com o mínimo impacto, mesmo de amostras em pó. (Portuguese)
17 August 2022
0 references
Taotletakse gaasiklastri Ion Source (GCIS) omandamist Kratos Axis Ultra spektromeetri ajakohastamiseks, mis pakub teenuseid Cádizi ülikooli (UEF-UCA) Kesk-teaduslike ja tehnoloogiliste uuringute teenuste Fotoelektroonilise spektroskoopia üksuses. GCISe lisamine asendab minibeam I ioonallikat, mis on paigaldatud seadmesse alates selle omandamisest ja mis on madala jõudlusega allikas, mis ei ole piisav teenuse osutamiseks vastavalt UEF-UCA kasutajatele nõutud kvaliteeditasemele. GCIS paigaldamine seadmesse võimaldab teha sügavusprofiili uuringuid, kõrge jõudlusega ja vähese keemilise kahjuga, vältides muutusi pinnaliikide elementaarses jaotumises või elementide oksüdatsiooni olekus ja/või keemilises keskkonnas. Selles mõttes võimaldab GCIS kasutamine teha mitmesuguste pindade söövitamist: metallid, oksiidid, pooljuhid, orgaanilised polümeerid või isegi bioloogilised materjalid. UEF-UCA ajakohastamine kõrgjõudlusega iooniallikaga võimaldab üksusel pakkuda paremat teenust, arvestades, et seade on varustatud ka Zalari pööramise tarvikuga, mis võimaldab koos GCIS-i kasutamisega ka pindade ühtlast söövitamist minimaalse löögiga, isegi pulbriliste proovide puhul. (Estonian)
17 August 2022
0 references
A Cádizi Egyetem Központi Tudományos és Technológiai Kutatási Szolgálatának (UEF-UCA) fotoelektronspektroszkópiai egységében szolgáltatásokat nyújtó Kratos Axis Ultra spektrométer frissítéséhez gázklaszter-ionforrás (GCIS) beszerzését kérik. A GCIS beépítése a beszerzés óta a berendezésbe telepített minibeam I ionforrás helyébe lép, és amely alacsony teljesítményű forrás, amely nem megfelelő ahhoz, hogy a szolgáltatást az UEF-UCA felhasználók által megkövetelt minőségi színvonalon nyújtsa. A GCIS felszerelése lehetővé teszi, hogy mélységprofil-vizsgálatokat végezzen nagy teljesítményű és kevés kémiai károsodással, elkerülve a felszíni fajok elemi eloszlásának megváltozását, vagy az elemek oxidációs állapotában és/vagy kémiai környezetében bekövetkező változásokat. Ebben az értelemben a GCIS használata lehetővé teszi a különböző felületek maratását: fémek, oxidok, félvezetők, szerves polimerek vagy akár biológiai anyagok. Az UEF-UCA nagy teljesítményű ionforrással történő frissítése lehetővé teszi az egység számára, hogy jobb szolgáltatást nyújtson, mivel az egység Zalar forgási tartozékkal is rendelkezik, amely a GCIS használatával együtt lehetővé teszi a felületek homogén maratását is, a minimális behatással, még a porított minták esetében is. (Hungarian)
17 August 2022
0 references
Изисква се придобиването на газов клъстер йонен източник (GCIS) за актуализиране на ултраспектрометъра Kratos Axis, който предоставя услуги в звеното за фотоелектронна спектроскопия на Централното научно-техническо изследване на Университета в Кадис (UEF-UCA). Въвеждането на GCIS ще замени йонния източник Minibeam I, инсталиран в оборудването след неговото придобиване и който е източник с ниска производителност, който не е достатъчен за предоставянето на услугата с нивото на качество, изисквано от потребителите на UEF-UCA. Инсталирането на GCIS в оборудването ще му позволи да извършва дълбочинни профилни проучвания, с висока производителност и малко химическо увреждане, като се избягват промени в елементарното разпределение на повърхностните видове или промени в състоянието на окисляване и/или химическата среда на елементите. В този смисъл използването на GCIS позволява да се извърши ецване на голямо разнообразие от повърхности: метали, оксиди, полупроводници, органични полимери или дори биологични материали. Актуализирането на UEF-UCA с високопроизводителния източник на йони ще позволи на устройството да предлага по-добро обслужване, като се има предвид, че устройството е оборудвано и с ротационен аксесоар Zalar, който също така ще позволи, в комбинация с използването на GCIS, хомогенното ецване на повърхностите, с минимално въздействие, дори на прахообразни проби. (Bulgarian)
17 August 2022
0 references
Prašoma įsigyti dujų klasterio jonų šaltinį (GCIS) siekiant atnaujinti Kratos Axis Ultra spektrometras, kuris teikia paslaugas Kadiso universiteto Centrinio mokslinių ir technologinių tyrimų paslaugų fotoelektroninės spektroskopijos skyriuje (UEF-UCA). Įdiegus GCIS bus pakeistas įrenginyje nuo įsigijimo įrengtą „Minibeam I jonų“ šaltinis, kuris yra mažo našumo šaltinis, kuris nėra tinkamas teikti paslaugą UEF-UCA naudotojų reikalaujamu kokybės lygiu. GCIS įrengimas įrangoje leis jai atlikti gylio profilio tyrimus, pasižyminčius dideliu našumu ir mažais cheminiais pažeidimais, išvengiant paviršiaus rūšių elementinio pasiskirstymo pokyčių arba elementų oksidacijos būklės ir (arba) cheminės aplinkos pokyčių. Šia prasme GCIS naudojimas leidžia atlikti įvairių paviršių ėsdinimą: metalai, oksidai, puslaidininkiai, organiniai polimerai ar net biologinės medžiagos. UEF-UCA atnaujinimas su aukštos kokybės jonų šaltiniu leis įrenginiui pasiūlyti geresnę paslaugą, atsižvelgiant į tai, kad įrenginyje taip pat yra „Zalar“ sukimosi priedas, kuris kartu su GCIS leis vienalytis paviršių ėsdinimas su minimaliu smūgiu, net miltelių pavidalo mėginių. (Lithuanian)
17 August 2022
0 references
Zahtijeva se nabava ionskog izvora plinskog klastera (GCIS) za ažuriranje ultra spektrometra Kratos osi, koji pruža usluge u jedinici za fotoelektronsku spektroskopiju Središnje službe za znanstvena i tehnološka istraživanja Sveučilišta Cádiz (UEF-UCA). Uključivanjem GCIS-a zamijenit će se izvor iona Minibeam I, instaliran u opremu od njezine nabave, a koji je izvor niskih performansi koji nije prikladan za pružanje usluge s razinom kvalitete koju zahtijevaju korisnici UEF-UCA-e. Ugradnja GCIS-a u opremu omogućit će obavljanje dubinskih studija profila, s visokim performansama i malim kemijskim oštećenjem, izbjegavajući promjene u elementarnoj distribuciji površinskih vrsta ili promjene u oksidacijskom stanju i/ili kemijskom okruženju elemenata. U tom smislu, upotreba GCIS-a omogućuje jetkanje širokog raspona površina: metali, oksidi, poluvodiči, organski polimeri ili čak biološki materijali. Ažuriranje UEF-UCA s visokoučinkovitim ionskim izvorom omogućit će jedinici da ponudi bolju uslugu, s obzirom na to da je jedinica također opremljena Zalar rotacijskim priborom, što će također omogućiti, u kombinaciji s upotrebom GCIS-a, homogeno jetkanje površina, s minimalnim udarcem, čak i uzoraka u prahu. (Croatian)
17 August 2022
0 references
Förvärvet av en gasklusterjonkälla (GCIS) för att uppdatera Kratos Axis Ultraspektrometer, som tillhandahåller tjänster i Photoelectron Spectroscopy Unit vid Central Scientific and Technological Research Services vid University of Cádiz (UEF-UCA), begärs. Införandet av ett GCIS kommer att ersätta Minibeam I-jonkällan, som installerats i utrustningen sedan den förvärvades, och som är en källa med låg prestanda som inte är tillräcklig för att tillhandahålla tjänsten den kvalitetsnivå som UEF-UCA-användarna kräver. Installationen av GCIS i utrustningen kommer att göra det möjligt för den att utföra djupprofilstudier, med hög prestanda och liten kemisk skada, för att undvika förändringar i grundämnets fördelning av ytarterna eller förändringar i grundämnenas oxidationstillstånd och/eller kemiska miljö. I detta avseende gör användningen av GCIS det möjligt att utföra etsning av en mängd olika ytor: metaller, oxider, halvledare, organiska polymerer eller till och med biologiska material. Uppdateringen av UEF-UCA med den högpresterande jonkällan kommer att göra det möjligt för enheten att erbjuda en bättre service, med tanke på att enheten också är utrustad med ett Zalar rotationstillbehör, vilket också kommer att möjliggöra, i kombination med användning av GCIS, homogen etsning av ytorna, med minsta möjliga påverkan, även av pulverprover. (Swedish)
17 August 2022
0 references
Se solicită achiziționarea unei surse de ioni de gaze (GCIS) pentru actualizarea spectrometrului Kratos Axis, care oferă servicii în Unitatea de Spectroscopie Fotoelectronică a Serviciilor de Cercetare Științifică și Tehnologică Centrală a Universității din Cádiz (UEF-UCA). Incorporarea unui GCIS va inlocui sursa de ioni Minibeam I, instalata in echipament inca de la achizitie, si care este sursa de performanta scazuta, care nu este adecvata pentru a furniza serviciul cu nivelul de calitate cerut de utilizatorii UEF-UCA. Instalarea GCIS în echipament îi va permite să efectueze studii de profil de adâncime, cu performanțe ridicate și mici daune chimice, evitând schimbările în distribuția elementară a speciilor de suprafață sau modificări ale stării de oxidare și/sau a mediului chimic al elementelor. În acest sens, utilizarea GCIS permite realizarea gravurii unei game largi de suprafețe: metale, oxizi, semiconductori, polimeri organici sau chiar materiale biologice. Actualizarea UEF-UCA cu sursa de ioni de înaltă performanță va permite unității să ofere un serviciu mai bun, având în vedere că unitatea este, de asemenea, echipată cu un accesoriu de rotație Zalar, care va permite, de asemenea, în combinație cu utilizarea GCIS, gravarea omogenă a suprafețelor, cu impactul minim, chiar și a probelor sub formă de pulbere. (Romanian)
17 August 2022
0 references
Zahteva se nakup ionskega vira plinskega grozda (GCIS) za posodobitev ultra spektrometra Kratosove osi, ki zagotavlja storitve v enoti za fotoelektronsko spektroskopijo osrednjih znanstvenih in tehnoloških raziskovalnih služb Univerze v Cádizu (UEF-UCA). Vključitev GCIS bo nadomestila vir ionov Minibeam I, nameščen v opremo od njegove pridobitve in ki je nizko zmogljiv vir, ki ne zadostuje za zagotavljanje ravni kakovosti, ki jo zahtevajo uporabniki UEF-UCA. Namestitev GCIS v opremo bo omogočila izvajanje študij globinskega profila z visoko zmogljivostjo in majhnimi kemičnimi poškodbami, pri čemer se je treba izogniti spremembam v elementarni porazdelitvi površinskih vrst ali spremembam v oksidacijskem stanju in/ali kemičnem okolju elementov. V tem smislu uporaba GCIS omogoča izvajanje jedkanja različnih površin: kovine, oksidi, polprevodniki, organski polimeri ali celo biološki materiali. Posodobitev UEF-UCA z visokozmogljivim ionskim virom bo enoti omogočila boljšo storitev, saj je enota opremljena tudi z opremo za vrtenje Zalar, ki bo v kombinaciji z uporabo GCIS omogočila tudi homogeno jedkanje površin z najmanjšim vplivom, tudi vzorcev v prahu. (Slovenian)
17 August 2022
0 references
Wymagane jest nabycie źródła jonowego klastra gazowego (GCIS) w celu aktualizacji spektrometru Ultra Kratos Axis, który świadczy usługi w dziale spektroskopii fotoelektronowej Centralnej Służby Badań Naukowo-Technologicznych Uniwersytetu w Kadyksie (UEF-UCA). Włączenie GCIS zastąpi źródło jonów Minibeam I, zainstalowane w urządzeniu od momentu jego nabycia, i które jest źródłem o niskiej wydajności, które nie jest odpowiednie do świadczenia usługi na poziomie jakości wymaganym przez użytkowników UEF-UCA. Instalacja GCIS w urządzeniu pozwoli mu na przeprowadzenie badań profilu głębokości przy wysokiej wydajności i niewielkim uszkodzeniu chemicznym, unikając zmian w rozkładzie pierwiastkowym gatunków powierzchniowych lub zmian stanu utleniania i/lub środowiska chemicznego pierwiastków. W tym sensie zastosowanie GCIS pozwala na wytrawienie szerokiej gamy powierzchni: metale, tlenki, półprzewodniki, polimery organiczne, a nawet materiały biologiczne. Aktualizacja UEF-UCA o wysokowydajne źródło jonów pozwoli jednostce zaoferować lepszą obsługę, biorąc pod uwagę, że urządzenie jest również wyposażone w akcesorium rotacyjne Zalar, co pozwoli również, w połączeniu z wykorzystaniem GCIS, na jednorodne wytrawienie powierzchni, przy minimalnym uderzeniu, nawet sproszkowanych próbek. (Polish)
17 August 2022
0 references
Puerto Real
0 references
20 December 2023
0 references
Identifiers
EQC2018-004499-P
0 references